Blank Cover Image
所蔵情報QRコード

デュアル・イオンビーム式スパッタリングによる鉄基多層膜の作製に関する研究 / 永久保雅夫

資料種別:
学位論文
出版情報:
東京 : 東京工業大学, 1990
著者名:
長久保, 雅夫  
書誌ID:
1000271606
子書誌情報
Loading
フルテキスト
Loading contents information
所蔵情報
Loading availability information

類似資料:

1 学位論文 デュアルイオンビームスパッタ法による鉄薄膜の作製とその特性の堆積エネルギー依存性に関する研究

岩坪, 聡

東京工業大学
7 学位論文 同時スパッタリング法によるアモルフアス磁性合金膜の作製と応用に関する研究

山本, 寛

東京工業大学
2 図書 高速反応性スパッタリングによる構造安定性鉄窒化膜の作製

入戸野, 修

東京工業大学
8 学位論文 DC-RFハイブリッド・プラズマ・スパッタリング法によるa軸配向YBa[2]Cu[3]O[7-δ]薄膜の作製と結晶性

伊藤, 渉

東京工業大学
3 学位論文 スパッタリングによる化合物磁性薄膜の作成

下元, 泰治

東京工業大学
9 学位論文 対向陰極型直流スパッタ法で作製した鉄系多層膜の微細構造と磁気的性質

芳賀, 由美子

東京工業大学
4 学位論文 イオンビームスパッタ法による薄膜作製に関する研究

石井, 清

東京工業大学
10 図書 フェリ磁性体/強誘電体エピタキシャル多層膜の作製と光導波デバイスへの応用

直江, 正彦

東京工業大学
5 学位論文 Ag系多層膜の作製と構造評価

挟間, 克樹

東京工業大学
11 学位論文 RFスパッタ法によるInSbおよびSiエピタキシャル薄膜の作製とその評価に関する研究

宮崎, 卓幸

東京工業大学
6 学位論文 スパッタリング法によるMg[2]Si基薄膜の作製とその熱電特性評価に関する研究

片桐, 淳生

東京工業大学
12 学位論文 X線共鳴散乱によるFe/Gd多層膜の磁気構造

石松, 直樹

東京工業大学
1
 
2
 
3
 
4
 
5
 
6
 
7
 
8
 
9
 
10
 
11
 
12