Blank Cover Image
所蔵情報QRコード

原子層MOCVD法による高温超伝導薄膜デバイスに関する研究 / 山本修一郎

資料種別:
学位論文
出版情報:
東京 : 東京工業大学, 1998
著者名:
山本, 修一郎  
書誌ID:
1000333854
子書誌情報
Loading
フルテキスト
Loading contents information
所蔵情報
Loading availability information

類似資料:

1 図書 高温超伝導薄膜の熱光学的熱・電気・光物性の測定

土方, 邦夫

東京工業大学
7 図書 超薄膜超微細構造デバイスに関する研究

小田, 俊理
2 図書 原子層制御MOCVD法による超伝導/絶縁体/超伝導積層型トンネル接合素子の試作

小田, 俊理

東京工業大学
8 学位論文 SrBi[2]Ta[2]O[9]薄膜のMOCVD法による高品質化に関する研究

額賀, 紀全

東京工業大学
3 図書 原子層MOCVDと分光エリプソメトリによる高誘電率酸化膜超薄膜の原子レベル制御

小田, 俊理

東京工業大学
9 学位論文 反復温度変調法を適用した有機金属化学気相堆積法による高品質ZnO薄膜と発光デバイスの開発に関する研究

藤本, 英司

東京工業大学
4 学位論文 パルスレーザー堆積法による超伝導薄膜の作製とその動的機構の解析

泉, 宏比古

東京工業大学
10 学位論文 アーク放電蒸着法による酸化物超伝導薄膜のエピタキシャル成長に関する研究

野平, 博司

東京工業大学
5 学位論文 高臨界温度・準安定超伝導薄膜の形成・応用に関する研究

寺田, 教男

東京工業大学
11 学位論文 走査トンネル分光顕微鏡法による高温超伝導体Bi[2]Sr[2]CaCu[2]O[8+δ]の渦糸状態の研究

松葉, 健

東京工業大学
6 図書 原子層成長法による超均一・低抵抗ZnO薄膜の開発

山田, 明

東京工業大学
12 図書 分子の薄膜化技術 : 有機EL, 有機トランジスタ, 有機太陽電池などの有機薄膜デバイス作製技術に向けて

八瀬, 清志, 石田, 謙司(工学), 石田, 敬雄, 久保野, 敦史(1963-), 島田, 敏宏, 谷垣, 宣孝, 中村, 雅一, 星野, 聡孝, 山本, 雅人, 吉田, 郵司, 吉本, 則之

コロナ社
1
 
2
 
3
 
4
 
5
 
6
 
7
 
8
 
9
 
10
 
11
 
12