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Atomic scale analysis and engineering of oxide thin films / Tsuyoshi Ohnishi

資料種別:: 学位論文
出版情報:: 東京工業大学, 1998
著者名:: 大西, 剛
書誌ID:: 1000335048

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書誌詳細

その他の標題:	酸化物薄膜の原子スケールでの解析とエンジニアリング
注記:	報告番号:甲第4105号/(工学)工学博士:/授与年月日:平成11年3月26日
著者名ヨミ:	オオニシ, ツヨシ

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