| はじめに (渡辺順次) |
| 第1章 総論 |
| 1 カラーフィルタ形成法の課題(島 康裕) 1 |
| 1.1 はじめに 1 |
| 1.2 カラーフィルタの構造および要求特性 1 |
| 1.2.1 透明基板 2 |
| 1.2.2 ブラックマトリクス(BM) 2 |
| 1.2.3 カラーフィルタ層(CF) 2 |
| 1.2.4 保護膜 3 |
| 1.2.5 透明導電膜 4 |
| 1.3 カラーフィルタの各種製造方法の課題 4 |
| 1.3.1 染料法 4 |
| 1.3.2 顔料分散法 6 |
| 1.3.3 印刷法 9 |
| 1.3.4 電着法 12 |
| 1.4 おわりに 12 |
| 2 カラーフィルターの分光特性(渡邊 苞) 14 |
| 2.1 はじめに 14 |
| 2.2 色再現の方向 15 |
| 2.2.1 色再現に必要な物体の色度域 15 |
| 2.2.2 3原色と白色バランス 15 |
| 2.3 フィルタの分光特性 18 |
| 2.4 現在の光源用フィルタの改善方向 20 |
| 2.4.1 青フィルタ 21 |
| 2.4.2 緑フィルタ 21 |
| 2.4.3 赤フィルタ 22 |
| 2.5 フィルタとバックライト用光源の改善目標 23 |
| 2.5.1 フィルタの改善 23 |
| 2.5.2 光源の開発 23 |
| 2.5.3 消偏効果 23 |
| 2.6 おわりに 25 |
| 第2章 カラーフィルター形成法とケミカルス |
| 1 染料溶解法(古川忠宏) 27 |
| 1.1 はじめに 27 |
| 1.2 製造方法 27 |
| (1) 色材塗料 27 |
| (2) 色材プレベーク 27 |
| (3) フォトレジスト塗布 28 |
| (4) 露光・現像 28 |
| (5) フォトレジスト剥離,ポストベーク 28 |
| (6) 3色繰り返し 28 |
| (7) (7)オーバーコートを塗布 29 |
| 1.3 カラーフィルターの特性 29 |
| (1) 分光特性およびコントラスト 29 |
| (2) 染色フィルターとの差について 29 |
| 1.4 耐光性について 30 |
| (1) 試験方法 30 |
| (2) 染料の構造と耐光性の関係 31 |
| (3) 濃度と耐光性の関係 31 |
| (4) 染料カラーフィルターの耐光性向上 32 |
| 1.5 反射LCD用カラーフィルターへの応用 33 |
| 1.6 最後に 37 |
| 2 印刷法(渡邊 苞) 38 |
| 2.1 平版オフセット印刷(オフセットと略)の製造工程 38 |
| 2.2 ガラス基坂受け入れ 39 |
| 2.3 インキ製造 41 |
| 2.4 製版 43 |
| 2.5 印刷機 44 |
| 2.6 ブランケットの表面平坦化 45 |
| 2.7 印圧の均一化 45 |
| 2.8 その他 46 |
| 2.9 平坦化 48 |
| 2.10 おわりに 48 |
| 3 顔料分散法(松嶋欽爾,泉田和夫) 49 |
| 3.1 概要 49 |
| 3.2 カラーフィルターの基本構成 49 |
| 3.3 顔料分散法カラーフィルター 51 |
| 3.3.1 着色感材法 52 |
| 3.3.2 顔料の微粒化と分散 55 |
| 3.4 今後の展望 56 |
| 3.4.1 品質,性能向上への対応 56 |
| 3.5 まとめ 57 |
| 4 電着法・ミセル電解法(倉田英明) 59 |
| 4.1 はじめに 59 |
| 4.2 電着法カラーフィルター 59 |
| 4.2.1 電着法の原理 59 |
| 4.2.2 電着法製造プロセス 60 |
| 4.2.3 電着法の特徴 61 |
| 4.2.4 電着法の課題 62 |
| 4.3 出光ミセル電解法カラーフィルター 62 |
| 4.3.1 基本原理 62 |
| 4.3.2 製造プロセス 64 |
| 4.3.3 ミセル電解カラーフィルターの特徴 65 |
| 4.4 C/F on TFTアレイへの応用 66 |
| 4.5 おわりに 68 |
| 5 着色フィルム(ドライフィルム)転写法(佐藤守正) 69 |
| 5.1 はじめに 69 |
| 5.2 TRANSER 転写材料 69 |
| 5.3 作製プロセス 70 |
| (1) ラミネート工程 70 |
| (2) 仮支持体剥離工程 70 |
| (3) 露光工程 70 |
| (4) 現像工程 70 |
| (5) ブラックマトリックス作製 70 |
| 5.4 凹凸追従法 71 |
| 5.5 セルフアライメント法によるブラック画像の形成 73 |
| (1) 黒色感光性転写材料について74 |
| (2) RGB画素の紫外線遮蔽性 75 |
| 5.6 その他の特徴 76 |
| (1) 欠陥修正法 76 |
| (2) 大サイズ化が可能 77 |
| (3) その他の性能 77 |
| 5.7 最後に 77 |
| 6 次世代カラーフィルター形成法(郡 浩武,新居崎信也) 80 |
| 6.1 はじめに 80 |
| 6.2 カラーフィルタ・オン・アレイ法 80 |
| 6.3 イオンプレーティング法 82 |
| 6.4 インクジェット法 83 |
| 6.5 レーザおよび焼き付け法 85 |
| 第3章 カラーフィルター形成用ケミカルスと色素 |
| 1 印刷法用ケミカルス(渡邊 苞) 89 |
| 1.1 インキの製造 89 |
| (1) 顔料および染料 89 |
| (2) ビヒクル 90 |
| (3)溶剤 90 |
| (4)その他の添加剤 91 |
| (5)インキの混練 91 |
| 1.2 インキの検定 91 |
| (1)粘度 92 |
| (2)タッキネス 93 |
| (3)顕徴鏡観察 93 |
| (4)耐熱性およびガスクロマトグラフ 93 |
| (5)保存 94 |
| 1.3 おわりに 94 |
| 2 顔料分散法用ケミカルス(板野考史,飯島孝浩,根本宏明) 95 |
| 2.1 はじめに 95 |
| 2.2 顔料分散レジストの種類 96 |
| (1)アクリル系ラジカル重合型 96 |
| (2)水溶媒型 96 |
| (3)ナフトキノンジアジド(NQD)感光剤型 99 |
| (4)化学増幅型 100 |
| 2.3 アクリル系ラジカル重合型顔料分散レジストの構成 100 |
| (1)顔料 100 |
| (2)バインダー樹脂 103 |
| (3)多価アクリル,光ラジカル発生剤 105 |
| (4)溶剤,各種添加剤 105 |
| 2.3.1 BLACK レジスト 106 |
| 2.4 今後の課題 107 |
| 第4章 ブラックマトリックス形成法とケミカルス |
| 1 Cr系BM形成法とケミカルス(戸田 誠) 109 |
| 1.1 概要 109 |
| 1.2 種類と特徴 109 |
| 1.3 形成法 111 |
| 1.4 Cr-BMの特性とケミカルス 113 |
| 1.5 Cr-BMの現状の課題と将来動向 115 |
| 1.6 まとめ 116 |
| 2 樹脂系BM形成法とケミカルス(桜井雄三) 118 |
| 2.1 はじめに 118 |
| 2.2 樹脂系BMに対する要求特性 118 |
| 2.3 ポリイミド系材料によるBM形成 119 |
| 2.4 感光性樹脂BM材料 125 |
| 2.5 樹脂系BM材料の今後の課題 125 |
| 3 樹脂BM形成法(無電解めっきとケミカルス)(泉田和夫) 127 |
| 3.1 はじめに 127 |
| 3.2 無電解めっきによるBM形成 127 |
| 3.2.1 BMの要求特性 127 |
| 3.2.2 BMの分類 127 |
| 3.2.3 プロセスの概要 129 |
| 3.2.4 無電解NiめっきBMの特性 130 |
| 3.3 まとめ 133 |
| 3.4 最後に 133 |
| 4 黒鉛BM形成法とケミカルス(千代田博宜,白髭 稔) 134 |
| 4.1 はじめに 134 |
| 4.2 黒鉛BMの分類と原理 134 |
| 4.2.1 黒鉛BMの分類 134 |
| 4.2.2 BM形成の原理 134 |
| 4.3 黒鉛BM塗料と材料 136 |
| 4.3.1 黒鉛BM塗料 136 |
| 4.3.2 黒鉛BM用黒鉛微粒子 136 |
| 4.3.3 黒鉛BM用熱硬化性樹脂 138 |
| 4.4 黒鉛BMの形成法 138 |
| 4.4.1 黒鉛BMリフトオフ法 138 |
| 4.4.2 黒鉛BMエッチング法 140 |
| 4.5 黒鉛BMの特性 142 |
| 4.6 今後の展開 142 |
| 4.7 まとめ 144 |
| 第5章 保護膜表成法とケミカルス (寺本武郎) |
| 1 概要 145 |
| 2 市場動向 145 |
| 3 保護膜の必要特性 147 |
| 4 保護膜の開発状況 152 |
| 第6章 レジスト塗布法 |
| 1 スリット＆スピン方式(木瀬一夫,谷口由雄) 155 |
| 1.1 はじめに 155 |
| 1.2 従来塗布方式の課題と対策例 156 |
| 1.3 塗布装置「SF-700/800」 158 |
| 1.4 「スリット＆スピン」塗布方式 158 |
| 1.5 「スリット＆スピン」方式周辺技術 159 |
| 1.6 効果 160 |
| 1.7 今後の展開 163 |
| 2 エクストルージョン方式(田島高広) 164 |
| 2.1 はじめに 164 |
| 2.2 Fasコーターの基本原理 164 |
| 2.3 エッジビードの評価 165 |
| 2.4 基板の凹凸が膜厚に及ぼす影響 167 |
| 2.5 結論 168 |
| 第7章 大型カラーフィルターへのITO成膜技術(石橋 暁) |
| 1 はじめに 169 |
| 2 低抵抗ITO/CF成膜技術 170 |
| 2.1 ITOの作製法 170 |
| 2.2 要求特性と問題点 171 |
| 2.3 低電圧スパッタ法 171 |
| 2.4 低温成膜プロセス 172 |
| 2.5 BMの補助配線効js 174 |
| 3 低反射BM成膜技術 175 |
| 3.1 Cr系積層型BM膜 175 |
| 3.2 脱CrスパッタBM膜 176 |
| 4 スパッタ装置 176 |
| 4.1 ITO用インライン装置 176 |
| 4.2 BM用インライン装置 177 |
| 5 おわりに 178 |
| 第8章 大型カラーフィルタの検査システム(田辺伸一) |
| 1 検査システムの状況 179 |
| 2 カラーフィルタにおける主な欠陥の種類 180 |
| 3 検査方法について 180 |
| 3.1 1次元ラインイメージセンサを利用した欠陥検出 180 |
| 3.1.1 dei to dei検査 180 |
| 3.1.2 dei to database 検査 180 |
| 3.1.3 cell shift検査 181 |
| 3.2 レーザ散乱による欠陥検査 182 |
| 4 検査装置について 182 |
| 4.1 基板サイズ 182 |
| 4.2 透過検査(透過ヘッド) 183 |
| 4.3 反射検査(反射ヘッド) 183 |
| 4.4 突起検査(散乱ヘッド) 183 |
| 4.5 欠陥検出能力 183 |
| 4.6 検査処理時間 184 |
| 5 カラーフィルタ製造ラインにおける検査システム 184 |
| 6 歩留まりの向上のために 186 |
| 7 突起欠陥修正装置について 186 |
| 8 今後の装置の研究・開発について 187 |
| 第9章 カラーフィルターの信頼・品質評価(渡邊 苞) |
| 1 分光透過率 189 |
| 2 消偏効果測定法 189 |
| 3 耐熱性試験法 192 |
| 4 耐光性試験法 192 |
| 5 耐薬品性測定法 193 |
| 6 CF表面の硬度と接着性測定法 194 |
| 7 白ボツと黒ボツ(ピンホール) 194 |
| 8 表面の平坦性測定法 195 |
| 9 パターン位置精度 196 |
| 10 おわりに 196 |
| 第10章 カラーフィルターの市場(シーエムシー編集部) |
| 1 カラーフィルターの市場動向 197 |
| (1) カラーフィルター用顔料分散レジスト 197 |
| (2) カラーフィルター用顔料,染料 198 |
| (3) ブラックマトリクス材料 198 |
| (4) オーバーコート剤 198 |
| 2 メーカー動向 199 |
| (1) カラーフィルター 199 |
| (2) カラーフィルター用顔料分散レジスト 199 |
| (3) カラーフィルター用顔料,染料 201 |
| (4) ブラックマトリクス用クロムターゲット 202 |
| (5) ブラックマトリクス用黒色レジスト 202 |
| (6) カラーフィルター用オーバーコート剤 202 |
| 第11章 カラーフィルターと関連ケミカルスの特許動向 |
| 1 カラーフィルターと関連ケミカルスの特許(1973～1994年)(シーエムシー編集部) 203 |
| 1.1 カラーフィルター製造技術の分類 203 |
| 1.2 画素形成技術と特許の展開 203 |
| (1) 染色法 204 |
| (2) 印刷法 209 |
| (3) 顔料分散法 210 |
| (4) 電着法 213 |
| (5) 着色フィルム転写法 215 |
| (6) ミセル電解法 217 |
| (7) 電子写真法 218 |
| (8) インクジェット法 220 |
| (9) 染料分散法 221 |
| (10) 熱転写法 223 |
| (11) ゾルゲル法 224 |
| (12) カラー銀塩写真法 226 |
| (13) 蒸着法 227 |
| (14) その他の形成法 229 |
| 1.3 画素形成用ケミカルスと特許の展開 231 |
| (1) 画素組成物の技術と特許の展開 231 |
| (2) 画素組成物特許の企業別動向 243 |
| (3) 色素の技術と特許の展開 243 |
| (4) 色素特許の企業別動向 251 |
| 1.4 画素以外の構成要素と特許の展開 253 |
| (1) ブラックマトリクス(BM)の技術 253 |
| (2) 保護膜 266 |
| 1.5 企業の特許展開 277 |
| 1.6 参考資料 284 |
| 2 最新('94～'96年)カラーフィルター特許,主要10社の動向(吾孫子輝一郎) 286 |
| 2.1 最新('94～'96年)カラーフィルター特許出願動向 286 |
| 2.2 主要10社の全分野出願件数と液晶関連カラーフィルター分野出願件数の推移 294 |
| 2.3 主要10社の94～96年の総出願件数と発明者総数および発明者リスト 299 |
