第1章 面発光レーザとは 1 |
1.1 面発光レーザとは 1 |
1.2 面発光レーザの構造と特徴 3 |
1.3 面発光レーザの歴史 5 |
1.4 面発光レーザの適作範囲 12 |
面発光レーザの本 14 |
面発光レーザの論文集 15 |
第2章 面発光レーザの発振条件と動作 23 |
2.1 面発光レーザのしきい値 23 |
2.2 光出力と効率 28 |
2.3 面発光レーザにおけるキャリアと光の閉じ込め 30 |
2.4 モードとビーム 32 |
2.5 極限特性 24 |
第3章 面発光レーザ用反射鏡の設計と製作法 37 |
3.1 面発光レーザ用共振器 37 |
3.2 分布ブラッグ反射鏡の設計 43 |
3.3 誘電体分布ブラッグ反射鏡 45 |
3.4 半導体分布ブラッグ反射鏡 48 |
3.5 多層膜反射鏡形成における膜厚制御と評価 51 |
3.6 多層膜反射鏡を用いる面発光レーザ共振器 53 |
第4章 極微構造の形成とデバイス製作技術 58 |
4.1 リソグラフィー 58 |
4.2 ドライエッチング 60 |
4.3 電極形成 70 |
第5章 長波長帯の面発光レーザ 73 |
5.1 GaInAsP/InP系面発光レーザと特性 73 |
5.2 連続動作条件と熱的特性 78 |
5.3 ウエハ接着法 82 |
5.4 GaInNAsによる長波長帯面発光レーザ 84 |
5.5 GaAlInAsによる長波長帯面発光レーザ 88 |
5.6 量子ドットと新しい構成法 89 |
第6章 0.98μm帯のGaInAs/GaAs系面発光レーザ 97 |
6.1 量子井戸と利得 97 |
6.2 デバイス構造 100 |
6.3 AlAs酸化法とモード制御 105 |
6.4 酸化膜狭窄面発光レーザに関する考察 108 |
第7章 傾斜基板を用いる面発光レーザと偏波制御 114 |
7.1 傾斜基板と特徴 114 |
7.2 面発光レーザの偏波モード制御と研究経緯 116 |
7.3 傾斜基板上面発光レーザの偏波特性 125 |
第8章 赤色・近赤外波長帯の面発光レーザ 128 |
8.1 0.85μm帯面発光レーザと特性 128 |
8.2 0.78μm帯面発光レーザと特性 132 |
8.3 0.65μm帯の赤色AlGaInP系面発光レーザ 132 |
第9章 青色GaInN/GaN系面発光レーザ 136 |
9.1 デバイス設計 136 |
9.2 結晶成長法 142 |
9.3 デバイス製作と特性 147 |
9.4 面発光レーザの設計 151 |
第10章 面発光レーザと自然放出制御 159 |
10.1 共振器と自然放出自制 159 |
10.2 面発光レーザにおける自然放出制御 167 |
10.3 フォトンリサイクリング 176 |
10.4 自然放出制御の実証 178 |
第11章 面発光レーザの変調特性と光伝送 180 |
11.1 面発光レーザの変調限界 180 |
11.2 発振遅れ時間 184 |
11.3 高速変調特性 185 |
11.4 光ファイバ伝送実験 186 |
第12章 面発光レーザと機能集積 189 |
12.1 面発光レーザと集積 189 |
12.2 多波長集積アレイ 190 |
12.3 波長掃引機構の集積 192 |
12.4 2次元アレイ 194 |
12.5 電子デバイスとの集積 195 |
12.6 近接場光生成への応用 196 |
第13章 超並列光エレクトロニクスへの発展 198 |
13.1 応用システムの展開 198 |
13.2 並列自導結合法と並列光サブシステム 203 |
13.3 超並列へのアプローチ 206 |
索引 211 |