| 1. プロセス計測技術の特徴 |
| 1.1 はじめに 1 |
| 1.2 計測技術とセンシング技術 1 |
| 1.3 プロセス計測技術の特徴 2 |
| 1.3.1 選択性 3 |
| 1.3.2 精度 3 |
| 1.3.3 耐環境性 4 |
| 1.3.4 信頼性 5 |
| 1.3.5 無影響性 6 |
| 1.3.6 経済性 6 |
| 2. プロセス物理量の計測技術 |
| 2.1 はじめに 7 |
| 2.2 四つのプロセス物理量 8 |
| 2.3 示量変数と示強変数 9 |
| 2.4 プロセスでの差圧計測の重要性 10 |
| 2.5 圧力・差圧の計測技術 11 |
| 2.6 プロセス流量の計測技術 16 |
| 2.6.1 いろいろなタイプの流量計 16 |
| 2.6.2 流体エネルギー抽出型と外部エネルギー付加型 17 |
| 2.6.3 プロセス流体の性質・条件 17 |
| 2.6.4 タイプ別流量計の長所と欠点 18 |
| 2.6.5 差圧流量計の原理と特徴―インラインとオフライン流量計― 19 |
| 2.6.6 電磁流量計の原理と特徴 20 |
| 2.6.7 超音波流量計の原理と特徴 22 |
| 2.7 今後の流量計測技術 24 |
| 3. プロセス成分の分析 |
| 3.1 はじめに 26 |
| 3.2 電気化学・電気的特性を利用する検出器 27 |
| 3.2.1 電気伝導性測定法 27 |
| 3.2.2 電位差測定法 30 |
| 3.2.3 ポーラログラフィ 34 |
| 3.3 物理化学的特性を利用する検出器 37 |
| 3.3.1 熱伝導度計 37 |
| 3.3.2 接触燃焼式ガス検知 38 |
| 3.3.3 振動式密度計 39 |
| 3.4 クロマトグラフィ 40 |
| 3.5 フローインジェクション 48 |
| 3.6 サンプリング 49 |
| 4. プロセス成分のシステム分析 |
| 4.1 はじめに 51 |
| 4.2 電磁波を用いた分析機器 52 |
| 4.3 質量分析 54 |
| 4.3.1 質量分析の原理と装置 54 |
| 4.3.2 プロセス質量分析 56 |
| 4.4 核磁気共鳴分析 58 |
| 4.4.1 NMR分析の原理と装置 58 |
| 4.4.2 プロセスNMR分析 60 |
| 4.5 赤外分光分析 60 |
| 4.5.1 赤外分光分析の原理 60 |
| 4.5.2 分光器 62 |
| 4.5.3 プロセス赤外分光分析 64 |
| 4.6 近赤外分光分析 68 |
| 4.6.1 近赤外分光分析の原理と特色 68 |
| 4.6.2 近赤外分光器 70 |
| 4.6.3 近赤外分光装置の応用例 70 |
| 4.7 ラマン分光分析 75 |
| 4.7.1 ラマン分光分析の原理 75 |
| 4.7.2 ラマン分光器 77 |
| 4.7.3 プロセスラマン分光分析 77 |
| 4.8 そのほかの電磁波を使用した分析器 78 |
| 4.8.1 磁気式酸素計 78 |
| 4.8.2 非分散型赤外線吸収分析計 79 |
| 4.9 多変量解析とケモメトリックス 80 |
| 5. 環境監視計測技術 |
| 5.1 環境監視計測の目的 84 |
| 5.2 大気環境監視技術 86 |
| 5.2.1 硫黄酸化物測定技術 86 |
| 5.2.2 窒素酸化物測定技術 88 |
| 5.2.3 浮遊粒子状物質測定技術 89 |
| 5.2.4 光化学オキシダント測定技術 91 |
| 5.2.5 フロン測定技術 93 |
| 5.2.6 塩素化合物測定法(発生源) 94 |
| 5.2.7 リモート監視技術 96 |
| 5.3 水質環境監視技術 99 |
| 5.3.1 BODおよびCOD測定技術 99 |
| 5.3.2 濁度測定技術 103 |
| 5.3.3 全リン・全窒素量測定技術 105 |
| 5.3.4 有害重金属測定技術 106 |
| 5.3.5 有害揮発性有機化合物(VOC)測定技術 107 |
| 5.3.6 油分測定技術 109 |
| 5.4 騒音測定技術 110 |
| 6. 電気量の測定 |
| 6.1 はじめに 113 |
| 6.2 ディジタルマルチメータ 114 |
| 6.2.1 構成 114 |
| 6.2.2 入力端子 115 |
| 6.2.3 電気量-電圧変換部 116 |
| 6.2.4 A-D変換部 124 |
| 6.3 微小電流測定 125 |
| 6.4 絶縁抵抗測定 126 |
| 6.5 電力測定 127 |
| 6.6 オシロスコープ 129 |
| 6.6.1 アナログオシロスコープ 129 |
| 6.6.2 ディジタルオシロスコープ 129 |
| 7. 高周波計測 |
| 7.1 高周波計測の基礎 132 |
| 7.1.1 デジベル 132 |
| 7.1.2 Sパラメータとスミスチャート 134 |
| 7.2 周波数カウンタ 137 |
| 7.3 高周波パワーメータ 140 |
| 7.4 スペクトラムアナライザ 142 |
| 7.5 周波数シンセサイザ 145 |
| 7.6 ネットワークアナライザ 150 |
| 7.7 ノイズフイギャーメータ 153 |
| 7.8 SSB位相ノイズ測定 155 |
| 7.9 高周波測定用アクセサリ 158 |
| 8. 半導体デバイス特性計測技術 |
| 8.1 はじめに 162 |
| 8.2 半導体デバイス検査の目的 162 |
| 8.3 半導体デバイス検査時の周囲温度 163 |
| 8.4 半導体デバイス検査の種類 164 |
| 8.5 半導体デバイス検査に使用する装置 164 |
| 8.6 半導体テスト技術 167 |
| 8.6.1 ダイオード・トランジスタのテスト技術 167 |
| 8.6.2 汎用演算増幅器テスト技術 171 |
| 8.6.3 ロジックICテスト技術 176 |
| 8.6.4 メモリICテスト技術 180 |
| 8.6.5 リニアICテスト技術 183 |
| 8.6.6 ミックスドシグナルICテスト技術 186 |
| 8.7 半導体デバイステストの実際 194 |
| 8.8 まとめ 194 |
| 参考資料 195 |
| 参考文献 196 |
| 索引 200 |
