| 第1章 総説（古室昌徳） |
| 1 はじめに 1 |
| 2 転写方式 2 |
| 2.1 熱ナノインプリント技術 2 |
| 2.2 UVナノインプリント技術 4 |
| 2.3 その他の方式 9 |
| 3 周辺技術 10 |
| 4 デバイス応用の概況 11 |
| 5 まとめ 13 |
| 第2章 転写方式 |
| 1 熱ナノインプリントの基礎とそのシーズ（平井 義彦） 15 |
| 1.1 はじめに 15 |
| 1.2 樹脂の特性と変形メカニズム 15 |
| 1.2.1 熱可塑性樹脂の力学的性質 15 |
| 1.2.2 熱可塑性樹脂の変形メカニズム 17 |
| 1.3 ナノインプリント・リソグラフィの要素技術 19 |
| 1.3.1 モールド作製技術 19 |
| 1.3.2 モールドの表面処理 19 |
| 1.3.3 装置技術 19 |
| 1.3.4 モールド複製技術 20 |
| 1.4 熱ナノインプリント技術のシーズと応用 20 |
| 1.4.1 高アスペクト比構造の形成 20 |
| 1.4.2 光学要素、曲面構造の形成 24 |
| 1.4.3 樹脂表面のナノ加工 26 |
| 1.4.4 バイオ材料のナノ加工 26 |
| 1.4.5 ガラス材料のナノ加工 28 |
| 1.4.6 金属材料の直接インプリント 28 |
| 1.4.7 リバーサルインプリント法による3次元多層構造の作製 39 |
| 1.5 おわりに 32 |
| 2 室温ナノインプリント技術（松井 真二） 34 |
| 2.1 はじめに 34 |
| 2.2 室温ナノインプリントプロセス 34 |
| 2.3 室温ナノコンタクトプロセス 38 |
| 2.4 室温ナノトランスファープロセス 42 |
| 2.5 まとめ 44 |
| 3 光ナノインプリント（廣島 洋） 45 |
| 3.1 はじめに 45 |
| 3.2 光ナノインプリントプロセス 45 |
| 3.3 光ナノインプリントの特長 46 |
| 3.4 光ナノインプリント装置 47 |
| 3.5 光ナノインプリント用モールド 49 |
| 3.6 モールドの表面処理 50 |
| 3.7 光ナノインプリント用樹脂 50 |
| 3.8 光ナノインプリントによるパターン形成 51 |
| 3.9 光ナノインプリントでのラインエッジラフネス評価 53 |
| 3.10 パターン転写の線幅再現性 54 |
| 3.11 多層レジストプロセス 55 |
| 3.12 おわりに 56 |
| 4 ソフトリソグラフィ（松井 真二） 58 |
| 5 直接ナノプリント・ナノ電極リソグラフィ（横尾 篤） 66 |
| 5.1 はじめに 66 |
| 5.2 直接ナノプリント法 66 |
| 5.2.1 直接ナノプリント法によるポリカーボネート基板上へのピット形成 68 |
| 5.2.2 直接ナノプリント法を用いた有機機能性材料への微細構造形成とフォトニック結晶デバイス作製 70 |
| 5.3 ナノ電極リソグラフィ 73 |
| 5.3.1 ナノ電極リソグラフィによる半導体基板へのパターニング 74 |
| 5.3.2 ナノ電極リソグラフィを用いた多重パターニング 77 |
| 5.4 まとめ 79 |
| 6 ナノキャスティング法（平井 義彦） |
| 6.1 ナノキャスティング法 81 |
| 6.2 多様な材料の成型 82 |
| 6.3 大面積領域の成型 84 |
| 6.4 ナノ構造の成型 85 |
| 6.5 高アスペクト比マイクロ構造の成型 85 |
| 6.6 高アスペクト比ナノ構造の成型 86 |
| 6.7 まとめ 87 |
| 第3章 装置と関連部材 |
| 1 ナノインプリント装置（松井 真二） |
| 1.1 加圧方式 89 |
| 1.2 転写精度とアライメント技術 90 |
| 1.3 熱ナノインプリント装置 92 |
| 1.4 UVナノインプリント装置 98 |
| 1.5 まとめ 103 |
| 2 モールド 104 |
| 2.1 ナノインプリント用モールド（流川 治） 104 |
| 2.1.1 はじめに 104 |
| 2.1.2 モールドの製造技術 104 |
| 2.1.3 レジスト工程 106 |
| 2.1.4 検査及び修正工程 109 |
| 2.1.5 光ナノインプリント用石英マスク 110 |
| 2.1.6 まとめ 113 |
| 2.2 各種材料によるモールド作製（出口 公吉） 114 |
| 2.2.1 はじめに 114 |
| 2.2.2 Siモールド 115 |
| 2.2.3 SiCモールド 117 |
| 2.2.4 石英、SiO2／Siモールド 118 |
| 2.2.5 Ni電鋳モールド 120 |
| 2.2.6 Taモールド 121 |
| 2.2.7 まとめ 122 |
| 2.3 三次元モールド（宮本 岩男、谷口 淳） 124 |
| 2.3.1 はじめに 124 |
| 2.3.2 モールド作製方法 124 |
| 2.3.3 三次元モールド作製技術とその応用 125 |
| 2.3.4 まとめ 131 |
| 2.4 カーボン金型を用いたガラス材料の熱インプリント（前田 龍太郎、高橋 正春） 133 |
| 2.4.1 はじめに 133 |
| 2.4.2 ナノインプリント成形の現状とガラスの微細加工 134 |
| 2.4.3 ガラス成形用型材料の選択 134 |
| 2.4.4 型の加工とガラス成形 134 |
| 2.4.5 まとめ 143 |
| 3 離型剤（松井 真二） 145 |
| 4 感光樹脂 |
| 4.1 UV－ナノインプリント用光硬化性樹脂（坂井 信支） 149 |
| 4.1.1 はじめに 149 |
| 4.1.2 UV－NIL 149 |
| 4.1.3 UV－NIL材料 150 |
| 4.1.4 UV－NIL材料の特性試験 153 |
| 4.1.5 おわりに 156 |
| 4.2 ナノインプリント用フッ素系樹脂（川口 泰秀） 157 |
| 4.2.1 はじめに 157 |
| 4.2.2 含フッ素感光性樹脂の概況 158 |
| 4.2.3 アクリレート系の含フッ素感光性樹脂（NIF－1） 159 |
| 4.2.4 非アクリレート系の含フッ素感光性樹脂（NIF－2） 160 |
| 4.2.5 UVナノインプリント用モールド材料 163 |
| 4.2.6 熱インプリント用熱可塑性 熱硬化性フッ素系樹脂 164 |
| 4.2.7 おわりに 166 |
| 第4章 デバイス応用 |
| 1 電子デバイス（松井 真二） 167 |
| 2 光デバイス（細川 速美） 175 |
| 2.1 はじめに 175 |
| 2.2 ナノインプリント技術への取組み 175 |
| 2.2.1 ナノプリズムアレーへの応用 175 |
| 2.2.2 光導波路への応用 176 |
| 2.3 複製ポリマー光導波路 177 |
| 2.3.1 作製方法 177 |
| 2.3.2 作製上の工夫点 178 |
| 2.3.3 ポリマー材料 178 |
| 2.3.4 試作結果 179 |
| 2.4 複製ポリマー光導波路の応用例 180 |
| 2.4.1 光通信デバイスへの応用 180 |
| 2.4.2 機器内光配線への応用 184 |
| 2.5 まとめ 186 |
| 3 ナノインプリントとポリマーの自己組織化を用いたハードディスク記録媒体の作成（浅川 鋼児） 187 |
| 3.1 はじめに 187 |
| 3.2 次世代HDD記録媒体に要求されるスペック 188 |
| 3.3 パターンドメディアの加工法 189 |
| 3.4 ナノインプリントによる溝の作成 191 |
| 3.5 ブロックポリマーの自己組織化現象を用いたドットパターンの作成 192 |
| 3.6 ドライエッチング法による加工 195 |
| 3.7 パターンドメディアの性能評価 196 |
| 3.8 まとめ 197 |
| 4 バイオデバイス（宮内 昭浩） 199 |
| 4.1 はじめに 199 |
| 4.2 高アスペクト比構造の形成 200 |
| 4.3 バイオデバイスへの応用 201 |
| 4.4 おわりに 203 |
| 5 マイクロ流体デバイス（水野 潤、庄子 習一） 205 |
| 5.1 はじめに 205 |
| 5.2 PDMSを用いた流体デバイス 206 |
| 5.1.1 PDMS（polydimethylsiloxane）の特長 206 |
| 5.1.2 PDMS（polydimethylsiloxane）の問題点及び改良策 207 |
| 5.3 ホットエンボス技術を使ったPMMA（ポリメチルメタクリレート）の流路形成 209 |
| 5.4 おわりに 212 |
