1 |
第1章 緒論 |
1.1 エレクトロニクスと電子デバイス 1 |
1.2 電子デバイスの発達 2 |
1.3 電子デバイスの分類 7 |
1.4 電子デバイスの産業における位置づけ 11 |
第2章 半導体の物理 |
2.1 固体内電子 13 |
2.2 金属・絶縁体および半導体 20 |
2.3 Ⅳ族半導体とキャリア 22 |
2.4 電気伝導 29 |
2.5 キャリヤの分布と流れ 38 |
2.6 キャリヤのエネルギー分布 47 |
演習問題 52 |
第3章 pn接合ダイオードとショットキーバリアダイオード |
3.1 熱平衡状態のpn接合 56 |
3.2 pn接合ダイオードの静的特性 62 |
3.3 pn接合ダイオードの動的特性 73 |
3.4 pn接合ダイオードのモデル 80 |
3.5 ホットエレクトロンによる現象 83 |
3.6 pn接合ダイオードの応用 89 |
3.7 金属-半導体接触 94 |
演習問題 101 |
第4章 バイポーラトランジスタ |
4.1 動作原理 105 |
4.2 トランジスタモデル 118 |
4.3 バイポーラトランジスタの諸現象 131 |
4.4 各種バイポーラトランジスタ 136 |
演習問題 142 |
第5章 MOS トランジスタ |
5.1 半導体表面の物理 144 |
5.2 MOS トランジスタの特性 156 |
5.3 MOS トランジスタとバイポーラトランジスタとの対応 164 |
5.4 MOS トランジスタの諸現象とその応用 166 |
5.5 MOS トランジスタ回路 171 |
演習問題 173 |
第6章 サイリスタ |
6.1 ショックレイダイオード 176 |
6.2 SCRにおけるトリガー機構 179 |
6.3 サイリスタの回路と応用 183 |
演習問題 189 |
演習問題略解 191 |
索引 200 |
VOL.II |
第7章 半導体集積回路 |
7.1 集積回路の概念 1 |
7.2 IC製造技術 6 |
7.3 アナログIC 17 |
7.4 ディジタル論理IC 21 |
7.5 メモリIC 40 |
7.6 電荷転送デバイス 45 |
演習問題 49 |
第8章 電子管 |
8.1 電子放出 52 |
8.2 電界,磁界と電子の流れ 59 |
8.3 空間電荷制御管 67 |
8.4 マイクロ波電子管 79 |
演習問題 90 |
第9章 電気-光変換デバイス |
9.1 受光-発光デバイス 93 |
9.2 太陽電池 105 |
9.3 レーザ 107 |
9.4 受像および撮像デバイス 125 |
演習問題 144 |
第10章 その他の電子デバイス |
10.1 放電管 147 |
10.2 接合形およびショットキーバリア形電界効果トランジスタ 157 |
10.3 マイクロ波負性抵抗ダイオード 164 |
10.4 サーミスタとバリスタ 169 |
演習問題 170 |
第11章 新しいデバイス |
11.1 ジョセフソン素子 171 |
11.2 バブル・ドメインデバイス 176 |
11.3 アモルファス半導体デバイス 180 |
演習問題略解 188 |
索引 191 |
電子デバイス〔I〕目次概要 |
第1章 緒論 |
第2章 半導体の物理 |
第3章 pn接合ダイオードとショットキーバリアダイオード |
第4章 バイポーラトランジスタ |
第5章 MOSトランジスタ |
第6章 サイリスタ |