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1.

図書
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1. 最新産業用リニヤIC規格表 (1987年版 Part 1 - 1989年版 Part 2)
藤たかし編著
出版情報: 東京 : CQ出版社, 1987.6-  冊 ; 15×21cm
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2.

図書
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2. 最新インターフェース素子規格表 (1981年版 - 1989年版)
猪飼国夫編著
出版情報: 東京 : CQ出版社, 1981-  冊 ; 15×21cm
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3.

図書
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3. はじめて学ぶ新電子回路と光素子
桜井千春著
出版情報: 東京 : 技術評論社, 1983.2  214p ; 21cm
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4.

図書
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4. 集積回路技術の実際
中村哲郎 [ほか] 著
出版情報: 東京 : 産業図書, 1987.7  ix, 300p ; 22cm
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5.

図書
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5. MOS LSI製造技術 : 1MビットRAMへの挑戦
徳山巍, 橋本哲一編著
出版情報: 東京 : 日経マグロウヒル社, 1985.6  222p ; 22cm
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6.

図書
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6. エキスパートCADシステム : VLSI設計における人工知能の導入と課題
V.ベッグ著 ; 南谷崇訳
出版情報: 東京 : 啓学出版, 1986.1  132p ; 22cm
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7.

図書
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7. 組み立てる・IC工作
西田和明著
出版情報: 東京 : 講談社, 1985.7  166p ; 18cm
シリーズ名: ブルーバックス ; B-616 . Do science
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8.

図書
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8. VLSIの薄膜技術
伊藤隆司, 石川元, 中村宏昭共著
出版情報: 東京 : 丸善, 1986.9  xii, 250p ; 22cm
シリーズ名: 電子材料シリーズ
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9.

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9. CMOS応用回路設計ハンドブック
鈴木八十二編著
出版情報: 東京 : 日刊工業新聞社, 1985.8  ii, v, 261, iv p ; 21cm
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10.

図書
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10. アースとノイズ対策 : これが決め手゛電子回路は小さく組め″
伊藤健一著
出版情報: 東京 : 日刊工業新聞社, 1987.10  iii, viii, 179, 3p ; 22cm
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11.

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11. デバイスとプロセス ([その1] - その14)
西澤潤一編
出版情報: 東京 : 工業調査会, 1987.8-  冊 ; 27cm
シリーズ名: 半導体研究 / 半導体研究振興会編 ; 26, 28, 30, 32, 34, 36, 38, 40-46巻 . 超LSI技術||チョウ LSI ギジュツ ; 11-24
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12.

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12. 微細加工とレジスト
野々垣三郎著
出版情報: 東京 : 共立出版, 1987.11  iv, 99p ; 19cm
シリーズ名: 高分子新素材one point / 高分子学会編 ; 3
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13.

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13. バイポーラ集積回路
生駒英明, 市瀬多章著
出版情報: 東京 : 近代科学社, 1984.12  viii, 252p ; 22cm
シリーズ名: 超LSI入門シリーズ / 武石喜幸, 原央監修 ; 4
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14.

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14. 論理とテスト
樹下行三, 浅田邦博, 唐津修 [著]
出版情報: 東京 : 岩波書店, 1985.5  x, 313p ; 22cm
シリーズ名: 岩波講座マイクロエレクトロニクス / 元岡達 [ほか] 編 ; 4 . VLSIの設計||VLSI ノ セッケイ ; 2
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15.

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15. VLSIコンピュータ (1 ; 2)
元岡達編
出版情報: 東京 : 岩波書店, 1984.12-1985.2  2冊 ; 22cm
シリーズ名: 岩波講座マイクロエレクトロニクス / 元岡達 [ほか] 編 ; 8-9
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16.

図書
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16. メカトロニクス
石井威望 [ほか著]
出版情報: 東京 : 岩波書店, 1985.3  x, 287p ; 22cm
シリーズ名: 岩波講座マイクロエレクトロニクス / 元岡達 [ほか] 編 ; 11
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17.

図書
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17. ディジタル素子とプロセス
菅野卓雄, 生駒俊明, 武石喜幸著
出版情報: 東京 : 岩波書店, 1985.7  x, 321p ; 22cm
シリーズ名: 岩波講座マイクロエレクトロニクス / 元岡達 [ほか] 編 ; 1 . マイクロエレクトロニクス素子 / 菅野卓雄 [ほか] 著||マイクロ エレクトロニクス ソシ ; 1
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18.

図書
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18. ハイブリッドテクノロジーの基礎 : Q & A95例
編集委員会編
出版情報: 東京 : 日刊工業新聞社, 1985.3  210p ; 26cm
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19.

図書
図書
19. 超高速バイポーラ・デバイス
永田穣編
出版情報: 東京 : 培風館, 1985.11  viii, 308p ; 24cm
シリーズ名: 超高速ディジタルデバイス・シリーズ / 菅野卓雄監修 ; 1
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20.

図書
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20. 超高速MOSデバイス
香山晋編
出版情報: 東京 : 培風館, 1986.2  viii, 373p ; 24cm
シリーズ名: 超高速ディジタルデバイス・シリーズ / 菅野卓雄監修 ; 2
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21.

図書
図書
21. 電子デバイス入門
飯田昌盛著
出版情報: 東京 : 東海大学出版会, 1984.12  iv, 160p ; 21cm
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22.

図書
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22. 図解アナログICのすべて : オペアンプからスイッチドキャパシタまで
白土義男著
出版情報: 東京 : 東京電機大学出版局, 1986.11  334p ; 21cm
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23.

図書
図書
23. 超LSI技術
垂井康夫編
出版情報: 東京 : オーム社, 1981.3  424p ; 22cm
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24.

図書
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24. 超LSIの時代
豊田博夫著
出版情報: 東京 : 岩波書店, 1984.9  xii, 149p ; 19cm
シリーズ名: New science age ; 1
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25.

図書
図書
25. VLSIデバイスの物理
岸野正剛, 小柳光正共著
出版情報: 東京 : 丸善, 1986.7  ix, 255p ; 22cm
シリーズ名: 電子材料シリーズ
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26.

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東工大
目次DB
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東工大
目次DB
26. スイッチング回路理論
当麻喜弘執筆
出版情報: 東京 : コロナ社, 1986.1  7,193p ; 22cm
シリーズ名: 電子通信学会大学シリーズ / 電子通信学会編 ; G-2
所蔵情報: loading…
目次情報: 続きを見る
1.論理代数
   1.1 論理代数の諸性質 1
   1.1.1 2値変数と論理演算 1
   1.1.2 基本の演算 2
   1.1.3 諸性質 3
   1.2 論GF関数とその表現形式 8
   1.2.1 完全定義論理関数と不完全定義論理関数 8
   1.2.2 極小項表現 9
   1.2.3 極大項表現 11
   1.2.4 Reed-Muller展開 13
   1.3 論理等式の解釈 17
   1.4 論理代数方程式とその解 18
   演習問題 21
2.論理関数の諸性質
   2.1 ユネイト関数 23
   2.2 双対関数 28
   2.3 その他の関数 32
   2.4 同族性による類別 35
   演習問題 39
3.論理関数の分解・合成
   3.1 論理関数の実現 42
   3.2 NOT-AND-OR/NOT-OR-AND形式 44
   3.2.1 Quine-McCluskeyの方法 45
   3.2.2 Karnaugh の図を用いる方法 50
   3.2.3 複数の論理関数の実現 54
   3.2.4 NOT-OR-AND形式 57
   3.3 NAND/NOR形式 57
   3.3.1 NAND形式 57
   3.3.2 NOR形式 61
   3.4 補償関数 61
   3.5 万能論理関数集合 64
   演習問題 71
4.順序回路とその実現
   4.1 順序回路の基本構成 74
   4.2 順序回路の表現 78
   4.2.1 状態遷移図 78
   4.2.2 状態遷移表 79
   4.2.3 不完全定義順序回路 80
   4.2.4 δ,ωの拡張 80
   4.3 順序回路の実現 82
   4.3.1 状態割当てと状態変数関数 82
   4.3.2 遅延回路を用いた実現 88
   4.3.3 フリップフロップを用いた実現 88
   演習問題 101
5.状態の等価性と両立性
   5.1 状態の等価性 106
   5.2 順序回路の等価性と簡単化 111
   5.3 状態を区別する入力系列 113
   5.4 両立性 117
   演習問題 128
6.順序回路の分解
   6.1 遷移合同性 133
   6.2 並列分解 140
   6.2.1 状態遷移関数の決定 141
   6.2.2 出力関数の決定 144
   6.3 縦続分解 147
   演習問題 154
7.順序回路と形式言語
   7.1 正規表現 157
   7.2 形式方語 161
   7.3 3型文法と順序回路 166
   演習問題 173
文献 176
演習問題略解 177
索引 191
1.論理代数
   1.1 論理代数の諸性質 1
   1.1.1 2値変数と論理演算 1
27.

図書
図書
27. シグナルプロセッサとその応用
丸田力男, 西谷隆夫共著
出版情報: 東京 : 昭晃堂, 1988.8  ii, 4, 4, 216p ; 22cm
シリーズ名: ディジタル信号処理シリーズ / 辻井重男企画・編集 ; 第4巻
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28.

図書
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28. 実用ASIC技術
杉山尚志[等]編著
出版情報: 東京 : 工業調査会, 1987.5  iv, 213p ; 21cm
シリーズ名: 工業調査会の実践入門シリーズ
所蔵情報: loading…
29.

図書
図書
29. VLSI工学概説
渡辺誠著
出版情報: 東京 : 昭晃堂, 1988.8  2, ii, 2, 204p ; 22cm
シリーズ名: VLSI工学シリーズ ; 第1巻
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30.

図書
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30. ICの話 : トランジスタから超LSIまで
垂井康夫著
出版情報: 東京 : 日本放送出版協会, 1982.3  200p ; 19cm
シリーズ名: NHKブックス ; 411
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31.

図書
図書
31. MOS-LSI設計入門
J.メーバー, M.A.ジャック, P.B.デニア著 ; 菅野卓雄, 桜井貴康監訳
出版情報: 東京 : 産業図書, 1984.7  xii, 288p ; 22cm
所蔵情報: loading…
32.

図書
図書
32. IC技術読本
相良岩男著
出版情報: 東京 : 日刊工業新聞社, 1985.7  256, 4p ; 21cm
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33.

図書
図書
33. 超LSIエレクトロニクス (1 基礎(原理)編1 - 7 政策編)
ノーマン・G.エインズプラチ編 ; 岩田倫典 [ほか] 訳
出版情報: 東京 : 現代工学社, 1983.7-1983.10  7冊 ; 23cm
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34.

図書
図書
34. CMOS VLSI設計の原理 : システムの視点から (: ハードカバー ; : ソフトカバー)
Neil H.E.Weste, Kamran Eshraghian [著] ; 富沢孝, 松山泰男監訳
出版情報: 東京 : 丸善, 1988.8  xv, 478p, 図版8枚 ; 27cm
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35.

図書
図書
35. セラミック多層配線基板 : 超LSIパッケージ/マルチチップモジュール基板技術
大塚寛治著
出版情報: 東京 : 内田老鶴圃, 1987.12  166,3p ; 26cm
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36.

図書
図書
36. 光・電子集積回路の物理
松枝秀明著
出版情報: 東京 : 裳華房, 1989.7  xi, 418p ; 22cm
シリーズ名: 応用物理学選書 ; 7
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37.

図書
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37. ハイブリッドICとその応用 : 製法から応用システムまで
宇佐美晶 [ほか] 共著
出版情報: 東京 : パワー社, 1989.6  7, 211p ; 21cm
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38.

図書
図書
38. 化学技術者のための超LSI技術入門
化学工学協会編
出版情報: 東京 : 培風館, 1989.4  v, 199p ; 22cm
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39.

図書
図書
39. 半導体集積回路入門. 第2版
垂井康夫著
出版情報: 東京 : オーム社, 1980.3  188p ; 22cm
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40.

図書
図書
40. CMOSデバイスの徹底入門 : CMOSロジックの基本,応用,トラブル対策
鈴木八十二著
出版情報: 東京 : 産報出版, 1980.8  119p ; 21cm
シリーズ名: 電子科学ブルーブックス
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41.

図書
図書
41. 小さな巨人LSI「大規模集積回路」
橋本尚著
出版情報: 東京 : 誠文堂新光社, 1986.3  179p ; 21cm
シリーズ名: 入門エレクトロニクス ; 4
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42.

図書
図書
42. ディジタルIC : 0と1の世界
丹羽一夫著
出版情報: 東京 : 誠文堂新光社, 1986.8  159p ; 21cm
シリーズ名: 入門エレクトロニクス ; 7
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43.

図書
図書
43. 微細加工 : サブミクロン素子への展開
中野朝安 [ほか] 著
出版情報: 東京 : 東京電機大学出版局, 1989.3  vi, 240p ; 21cm
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44.

図書
図書
44. 集積回路設計技術
塚本哲男著
出版情報: 東京 : 槙書店, 1986.6  200p ; 22cm
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45.

図書
図書
45. 厚膜IC化技術
日本マイクロエレクトロニクス協会編
出版情報: 東京 : 工業調査会, 1983.12  295p ; 22cm
所蔵情報: loading…
46.

図書
図書
46. ロジックIC回路の見方・書き方
朝日広治, 鈴木八十二共著
出版情報: 東京 : オーム社, 1980.3  189p ; 22cm
所蔵情報: loading…
47.

図書
図書
47. 超微細加工とレジスト材料
出版情報: 東京 : シーエムシー, 1985.12  255p ; 27cm
シリーズ名: R&D ; 74
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48.

図書
図書
48. 音声合成IC : 半導体による音声処理入門
N.モーガン著 ; 栗原敏雄訳
出版情報: 東京 : 啓学出版, 1989.10  xii,219p ; 21cm
シリーズ名: ナショナルセミコンダクターテクノロジーシリーズ
所蔵情報: loading…
49.

図書
図書
49. VLSIのためのアナログ技術
楠菊信 [ほか] 著
出版情報: 東京 : 共立出版, 1989.12  viii, 273p ; 22cm
所蔵情報: loading…
50.

図書
図書
50. Trace theory and VLSI design (: gw ; : us)
Jan L.A. van de Snepscheut
出版情報: Berlin ; Tokyo : Springer-Verlag, c1985  vi, 140 p. ; 25 cm
シリーズ名: Lecture notes in computer science ; 200
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51.

図書
図書
51. VLSI algorithms and architectures : Aegean Workshop on Computing, Loutraki, Greece, July 8-11, 1986 : proceedings (: gw ; : us)
edited by F. Makedon ... [et al.]
出版情報: Berlin ; Tokyo : Springer-Verlag, c1986  viii, 328 p. ; 25 cm
シリーズ名: Lecture notes in computer science ; 227
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52.

図書
図書
52. 基礎からのメモリ応用 : ROM/RAMを使いこなす基本技術
中村和夫著
出版情報: 東京 : CQ出版, 1987  179p ; 21cm
シリーズ名: Core books
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53.

図書
図書
53. 入門超々LSI
田中昭二著
出版情報: 東京 : 日本経済新聞社, 1986.6  188p ; 19cm
シリーズ名: 日経ハイテクシリーズ
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54.

図書
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54. 半導体プラズマプロセス技術
菅野卓雄編著
出版情報: 東京 : 産業図書, 1980.7  6, 373p ; 22cm
シリーズ名: 集積回路プロセス技術シリーズ
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55.

図書
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55. 超LSIシステム入門
C.ミード, L.コンウェイ共著 ; 菅野卓雄, 榊裕之監訳
出版情報: 東京 : 培風館, 1981.6  xiv, 414p ; 24cm
所蔵情報: loading…
56.

図書
図書
56. 超高速ジョセフソン・デバイス
早川尚夫編
出版情報: 東京 : 培風館, 1986.11  321p ; 24cm
シリーズ名: 超高速ディジタルデバイス・シリーズ / 菅野卓雄監修 ; 4
所蔵情報: loading…
57.

図書
図書
57. 光集積回路
西原浩 [ほか] 共著
出版情報: 東京 : オーム社, 1985.2  vi, 387p ; 22cm
所蔵情報: loading…
58.

図書
図書
58. 超LSI CADの基礎
可児賢二[ほか]共著
出版情報: 東京 : オーム社, 1983.12  vi, 225p ; 22cm
所蔵情報: loading…
59.

図書
図書
59. サブミクロンデバイス (1 ; 2)
小柳光正著
出版情報: 東京 : 丸善, 1987.7-1988.1  2冊 ; 22cm
シリーズ名: 電子材料シリーズ
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60.

図書
図書
60. 超LSI技術と材料. 新装新版
材料技術研究協会編
出版情報: 東京 : 総合技術出版, 1986.9  144,49p ; 27cm
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61.

図書
図書
61. LSIプロセス工学
右高正俊編著 ; 鈴木道夫 [ほか] 共著
出版情報: 東京 : オーム社, 1982.10  212p ; 22cm
所蔵情報: loading…
62.

図書
図書
62. 超LSI入門
太田邦一著
出版情報: 東京 : オーム社, 1983.1  242p ; 22cm
所蔵情報: loading…
63.

図書
図書
63. アナログIC活用テクニック
斎藤真幸著
出版情報: 東京 : 日本放送出版協会, 1987.11  198p ; 21cm
シリーズ名: 電子回路ノウハウ
所蔵情報: loading…
64.

図書
図書
64. 実験・製作で学ぶIC回路入門
中山章,河崎隆一共著
出版情報: 東京 : オーム社, 1987.10  172p ; 21cm
所蔵情報: loading…
65.

図書
図書
65. 超LSI材料・プロセスの基礎
岸野正剛著
出版情報: 東京 : オーム社, 1987.12  viii, 226p ; 22cm
所蔵情報: loading…
66.

図書
図書
66. LSI設計製作技術
森末, 道忠(1931-)
出版情報: 東京 : 電気書院, 1987.9  486p ; 22cm
所蔵情報: loading…
67.

図書
図書
67. ゲートアレイ : デザインと応用
ジョン・W.リード編著 ; 原田章美訳
出版情報: 東京 : 啓学出版, 1987.7  xi, 359p ; 22cm
所蔵情報: loading…
68.

図書
図書
68. 超伝導集積回路
石田晶 [ほか] 編著 ; 電子通信学会編 ; 上原信吾 [ほか] 執筆
出版情報: 東京 : 電子通信学会, 1983.3  iv, 202p ; 22cm
所蔵情報: loading…
69.

図書
図書
69. ディジタル集積回路・デザインの基礎
滝川光治著
出版情報: 東京 : オーム社, 1980.4  125p ; 19cm
シリーズ名: エレクトロニクス文庫
所蔵情報: loading…
70.

図書
図書
70. はじめてICを使うエレクトロニクスの工作
奥沢清吉著
出版情報: 東京 : 誠文堂新光社, 1980.9  190p ; 22cm
所蔵情報: loading…
71.

図書
図書
71. VLSIシステム設計
サブロー・ムロガ著 ; 渡辺誠[ほか訳]
出版情報: 東京 : ワイリー・ジャパン, 1984.4  xvi, 590p ; 22cm
所蔵情報: loading…
72.

図書
図書
72. 集積回路基礎技術
伊藤糾次, 伊藤容吉共著
出版情報: 東京 : 昭晃堂, 1983.5  ii, iv, 211p ; 22cm
所蔵情報: loading…
73.

図書
図書
73. CMOS超LSIの設計
飯塚哲哉編
出版情報: 東京 : 培風館, 1989.4  x, 355p ; 24cm
所蔵情報: loading…
74.

図書
図書
74. IC化実装技術
日本マイクロエレクトロニクス協会編
出版情報: 東京 : 工業調査会, 1980.1  347p ; 22cm
所蔵情報: loading…
75.

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図書
75. リニアIC回路技法
関根慶太郎 [ほか] 共著
出版情報: 東京 : オーム社, 1980.12  317p ; 22cm
所蔵情報: loading…
76.

図書
図書
76. トランジスタ・集積回路の技術史 : 人類はどのようにして超LSIを手に入れたか
久保脩治著
出版情報: 東京 : オーム社, 1989.7  vii, 204p ; 22cm
所蔵情報: loading…
77.

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図書
77. CMOS-ICえらび方・使い方
遠坂俊昭著
出版情報: 東京 : 技術評論社, 1987.4  151p ; 21cm
シリーズ名: プロセッサ・ブックス ; 1
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78.

図書
図書
78. わかるPLLの応用テクニック
高松重治著
出版情報: 東京 : 日本放送出版協会, 1988.1  214p ; 21cm
シリーズ名: 電子回路ノウハウ
所蔵情報: loading…
79.

図書
図書
79. LSIハンドブック
電子通信学会編
出版情報: 東京 : オーム社, 1984.11  xix, 811p ; 27cm
所蔵情報: loading…
80.

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図書
80. VLSI設計入門
松山泰男, 富沢孝著
出版情報: 東京 : 共立出版, 1983.12  ix, 236p, 図版2p ; 22cm
所蔵情報: loading…
81.

図書
図書
81. 最新LSIプロセス技術
前田和夫著
出版情報: 東京 : 工業調査会, 1983.7  668p ; 22cm
所蔵情報: loading…
82.

図書
図書
82. 半導体産業と先端技術
米津宏雄著
出版情報: 東京 : 工学図書, 1987.10  viii, 172p ; 21cm
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83.

図書
図書
83. 半導体集積回路設計の基礎
江刺正喜著
出版情報: 東京 : 培風館, 1986.2  viii, 331p ; 22cm
シリーズ名: 半導体工学シリーズ / 西澤潤一編 ; 7
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84.

図書
図書
84. プロセス・デバイス・シミュレーション技術
壇良編著
出版情報: 東京 : 産業図書, 1988.3  297p ; 22cm
シリーズ名: 集積回路プロセス技術シリーズ
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85.

図書
図書
85. 微細加工のはなし
高梨明紘著
出版情報: 東京 : 日刊工業新聞社, 1986.4  159p ; 19cm
シリーズ名: Science and technology
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86.

図書
図書
86. 半導体リソグラフィ技術
鳳紘一郎編著
出版情報: 東京 : 産業図書, 1984.7  221p ; 22cm
シリーズ名: 集積回路プロセス技術シリーズ
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87.

図書
図書
87. 半導体工学
今井哲二編著 ; 原徹, 米津宏雄, 福家俊郎共著
出版情報: 東京 : オーム社, 1988.10  v, 245p ; 22cm
シリーズ名: OHM大学講座
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88.

図書
図書
88. 回路とレイアウト
渡辺誠 [ほか著]
出版情報: 東京 : 岩波書店, 1985.1  x, 275p, 図版 [2] p ; 22cm
シリーズ名: 岩波講座マイクロエレクトロニクス / 元岡達 [ほか] 編 ; 3 . VLSIの設計||VLSI ノ セッケイ ; 1
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89.

図書
図書
89. ディジタルIC回路の設計 : 実験で学ぶTTL, C-MOSの応用テクニック
湯山俊夫著
出版情報: 東京 : CQ出版, 1986.3  254p ; 21cm
シリーズ名: Core books
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90.

図書
図書
90. 絵でわかるディジタルIC回路入門
高野政道著
出版情報: 東京 : スペック , 東京 : 工学図書 (発売), 1988.9  222p ; 23cm
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91.

図書

東工大
目次DB
図書
東工大
目次DB
91. 超微細加工入門
古川静二郎, 浅野種正共著
出版情報: 東京 : オーム社, 1989.6  viii, 219p ; 22cm
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1章 固体デバイスと微細加工
   1・1 微細加工がなぜ必要か 2
   1・2 プレーナ技術のあらまし 3
   1・3 集積回路(IC)のための微細加工 6
   1・4 微細加工技術の進展に伴って生じる問題点 10
   1・5 微細加工技術の新しい応用 11
   参考文献 13
2章 露光
   2・1 露光方式にはどんな種類があるか 16
   2・2 光露光の基本方式 密着露光 16
   〔1〕密着露光は高解像力 16
   〔2〕しかし,密着露光は超LSIには向かない 19
   2・3 光露光の最新技術 19
   〔1〕VLSI時代を切り開いた投影露光技術 19
   〔2〕ULSIへの展開 21
   〔3〕光露光の今後の動向 24
   2・4 電子ビーム露光 26
   〔1〕電子ビーム露光の特徴と用途 26
   〔2〕電子ビーム露光装置 27
   〔3〕電子ビール露光の限界と今後の課題 30
   2・5 露光の将来動向 32
   〔1〕将来を支える非光学系露光技術 32
   〔2〕X線露光はなぜむずかしいか?33
   〔3〕期等されるSOR 35
   2・6 フォトレジスト技術 40
   〔1〕ネガ形とポジ形 40
   〔2〕プロセスとレジストの適性 41
   〔3〕下地基板と解像性 42
   〔4〕多層レジストプロセス 43
   〔5〕非光学系露光用レジストと無機レジスト 45
   2・7 微細加工Q＆A(1) 46
   参考文献 53
3章 エッチング
   3・1 エッチング精度の意味 56
   3・2 ウェットエッチング 57
   〔1〕ウェットエッチングの欠点と利点 57
   〔2〕新しい材料とエッチング 59
   〔3〕応用が広がる結晶Siの異方性・選択性エッチング 60
   3・3 ドライエッチング 62
   〔1〕ドライエッチングの分類 62
   〔2〕ドライエッチングの原理 63
   〔3〕プラズマエッチング 64
   〔4〕反応性イオンエッチング 等方性から異方性へ 66
   〔5〕選択性と終点検出 68
   3・4 エッチングの将来技術 69
   〔1〕サブミクロン時代の要求 69
   〔2〕マイクロ波を用いたプラズマ源 71
   〔3〕イオンだけを用いた反応性エッチング RIBE 73
   〔4〕光を利用したエッチング 74
   〔5〕レジストレス・マスクレスプロセスへの期待 75
   3・5 微細加工Q＆A(2) 77
   参考文献 78
4章 ドーピング
   4・1 熱拡散 82
   〔1〕半導体における拡散 82
   〔2〕熱拡散の基本技術 82
   〔3〕選択拡散技術 85
   〔4〕浅い接合の形成 88
   4・2 イオン注入 89
   〔1〕イオン注入による不純物導入とは 89
   〔2〕アニールの必要性 92
   〔3〕イオン注入装置 93
   〔4〕広範囲に及ぶイオン注入の応用 93
   4・3 ドーピングの将来技術 97
   〔1〕高エネルギーイオン注入 97
   〔2〕集束イオンビーム注入 98
   〔3〕光ドーピング 103
   4・4 微細加工Q＆A(3) 104
   参考文献 107
5章 膜の形成
   5・1 CVD 110
   〔1〕 集積回路における成膜とCVD 110
   〔2〕 熱CVD 111
   〔3〕 プラズマCVD 113
   〔4〕 光CVD 114
   〔5〕 CVDによる成膜の特徴 116
   5・2 PVD 117
   〔1〕 PVDとその用途 117
   〔2〕 真空蒸着法 117
   〔3〕 真空蒸着膜の性質 119
   〔4〕 スパッタ法 120
   〔5〕 高速スパッタ法 マグネトロンスパッタ 121
   〔6〕 ステップカバレージの改善 バイアススパッタ 122
   5・3 シリコンの酸化 124
   〔1〕 VLSIを可能にした絶縁膜 SiO2 124
   〔2〕 熱酸化によるSiO2の形成 124
   〔3〕 選択酸化 127
   〔4〕 新しい酸化技術 128
   5・4 エピタキシャル成長 130
   〔1〕 エピタキシャル成長とその必要性 130
   〔2〕 気相エピタキシャル成長法(VPE) 131
   〔3〕 VPEによる選択成長 134
   〔4〕 その他のエピタキシャル成長法 134
   〔5〕 エピタキシャル成長で重要なウエハ洗浄 135
   〔6〕 今後の動向 136
   5・5 徴細加工Q＆A(4) 137
   参考文献 141
6章 微細素子作製技術
   6・1 平坦化技術 144
   〔1〕 平坦化の必要性 144
   〔2〕 塗布法 144
   〔3〕 流動化法 145
   〔4〕 エッチバック法 147
   〔5〕 層状均一靃積法 148
   〔6〕 バイアススパッタ法 148
   〔7〕 選択堆積法 149
   〔8〕 平坦化の有効性 150
   6・2 自己整合法 150
   〔1〕 高精度でマスク数も減らせる巧みな微細加工法 150
   〔2〕自己整合の基本的な方法 151
   〔3〕自己整合を支援する加工技術 154
   〔4〕スーパーセルフアライメントプロセス技術 156
   6・3 微細加工Q＆A(5) 157
   参考文献 160
7章 検査・評価技術およびクリーンルーム
   7・1 電子顕微鏡による観察 164
   〔1〕 評価あっての微細加工 164
   〔2〕 SEMの原理 164
   〔3〕 SEM装置の実際 165
   〔4〕 SEM観察の工夫 167
   〔5〕 TEMによる結晶欠陥の観察 168
   〔6〕 平面TEMと断面TEM 169
   7・2 電気的特性の評価 171
   〔1〕 必要な電気的特性諸量 171
   〔2〕 広がり抵抗法 171
   〔3〕 4探針法 173
   〔4〕 容量-電圧測定法 174
   〔5〕 パウ法 176
   〔6〕 非接触測定法 177
   7・3 クリーンルームとその関連技術 178
   〔1〕 クリーンルームはなぜ必要か 178
   〔2〕 クリーンルームの構造 179
   〔3〕 有害なちりの大きさは? 181
   〔4〕 クリーン度の検査 182
   〔5〕 純水を作る技術 183
   〔6〕 その他のクリーン化技術 185
   7・4 微細加工Q＆A(6) 186
   参考文献 196
8章 Si微細加工技術の新しい応用
   8・1 機械としてのSiの適性 200
   8・2 Siの異方性エッチングの利用 201
   8・3 電子要素と機械要素のインテグレーション 203
   8・4 ミクロの機械システム 206
   参考文献 209
   付録 フォトレジストの具体例 211
   索引 215
1章 固体デバイスと微細加工
   1・1 微細加工がなぜ必要か 2
   1・2 プレーナ技術のあらまし 3
92.

図書
図書
92. 集積回路工学
松村正清著
出版情報: 東京 : 朝倉書店, 1986.4  vii, 200p ; 22cm
シリーズ名: 朝倉電気・電子工学講座 ; 13
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93.

図書
図書
93. 絵ときディジタルIC
浅川毅著
出版情報: 東京 : オーム社, 1989.12  160p ; 21cm
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