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1.

図書
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1. Noncontact atomic force microscopy ([v. 1] ; v. 2)
S. Morita, R. Wiesendanger, E. Meyer (eds.)
出版情報: Berlin : Springer-Verlag, c2002-2015  2 v. ; 24 cm
シリーズ名: Nanoscience and technology
Physics and astronomy online library
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Introduction / Seizo Morita1：
AFM in Retrospective / 1.1：
Present Status of NC-AFM / 1.2：
Future Prospects for NC-AFM / 1.3：
References
Principle of NC-AFM / Franz J. Giessibl2：
Basics / 2.1：
Relation to the Scanning Tunneling Microscope (STM) / 2.1.1：
Atomic Force Microscope (AFM) / 2.1.2：
Operating Modes of AFMs / 2.1.3：
Scanning Speed, Signal Bandwidth and Noise / 2.1.4：
The Four Additional Challenges Faced by AFM / 2.2：
Jump-to-Contact and Other Instabilities / 2.2.1：
Contribution of Long-Range Forces / 2.2.2：
Noisein theImagingSignal / 2.2.3：
Non-MonotonicImaging Signal / 2.2.4：
Frequency-Modulation AFM (FM-AFM) / 2.3：
Experimental Setup / 2.3.1：
Applications / 2.3.2：
Relation between Frequency Shift and Forces / 2.4：
Generic Calculation / 2.4.1：
Frequency Shift for a Typical Tip-Sample Force / 2.4.2：
Calculation of the Tunneling Current for Oscillating Tips / 2.4.3：
Noise in Frequency-Modulation AFM / 2.5：
Noisein theFrequencyMeasurement / 2.5.1：
Optimal Amplitude for Minimal Vertical Noise / 2.5.3：
A Novel Force Sensor Based on a Quartz Tuning Fork / 2.6：
Quartz Versus Silicon as a Cantilever Material / 2.6.1：
Benefits in Clamping One of the Beams (qPlus Configuration) / 2.6.2：
Conclusion and Outlook / 2.7：
Semiconductor Surfaces / Yasuhiro Sugawara3：
Instrumentation / 3.1：
Three-Dimensional Mapping of Atomic Force / 3.2：
Control ofAtomic Force / 3.3：
Imaging Mechanisms for Si(100)2×1 and Si(100)2×1: H / 3.4：
Surface Strain on an Atomic Scale / 3.5：
Low Temperature Image of Si(100) Clean Surface / 3.6：
Mechanical Control ofAtomPosition / 3.7：
Atom Identification Using Covalent Bonding Force / 3.8：
Charge Imaging with Atomic Resolution / 3.9：
Mechanical Atom Manipulation / 3.10：
Bias Dependence of NC-AFM Images and TunnelingCurrent Variations on Semiconductor Surfaces / Toyoko Arai ; Masahiko Tomitori4：
Experimental Conditions / 4.1：
Bias Dependence of NC-AFM Images for Si(111)7×7 / 4.2：
MechanismofInvertedAtomicCorrugation / 4.2.1：
NC-AFM Imaging and Tunneling Current / 4.2.2：
NC-AFM Images for Ge/Si(111) / 4.3：
Concluding Remarks / 4.4：
Alkali Halides / Roland Bennewitz ; Martin Bammerlin ; Ernst Meyer5：
Experimental Techniques / 5.1：
Relevant Forces / 5.1.2：
Imaging of Single Crystals / 5.2：
Sample Preparation / 5.2.1：
Atomic Corrugation / 5.2.2：
Imaging of Defects / 5.2.3：
Mixed Alkali Halide Crystals / 5.2.4：
Imaging of Thin Films / 5.3：
Preparation of Thin Films / 5.3.1：
Atomic Resolutionat Low-Coordinated Sites / 5.3.2：
Radiation Damage / 5.4：
Metallization and Bubble Formation in CaF2 / 5.4.1：
Monatomic Pits in KBr / 5.4.2：
Dissipation Measurements / 5.5：
Material and Site-Specific Contrast / 5.5.1：
Using Damping for Distance Control / 5.5.2：
Atomic Resolution Imaging on Fluorides / Michael Reichling ; Clemens Barth6：
Tip Instabilities / 6.1：
Flat Surfaces / 6.3：
Step Edges / 6.4：
Atomically Resolved Imaging of a NiO(001) Surface / Hirotaka Hosoi ; Kazuhisa Sueoka ; Kazunobu Hayakawa ; Koichi Mukasa7：
Antiferromagnetic Nickel Oxide / 7.1：
ExperimentalConsiderations / 7.2：
Morphology ofthe Cleaved Surface / 7.3：
Atomically Resolved Imaging UsingNon-CoatedandFe-CoatedSiTips / 7.4：
Short-Range Magnetic Interaction / 7.5：
Analysis ofthe Cross-Section / 7.6：
Conclusion / 7.7：
Atomic Structure, Order and Disorder on High Temperature Reconstructed α-Al2O3(0001) / 8：
TheCleanSurface / 8.1：
Defect Formation upon Water Exposure / 8.2：
Self-Organized Formation of Nanoclusters / 8.3：
NC-AFM Imaging of Surface Reconstructions and Metal Growth on Oxides / Chi Lun Pang ; Geoff Thornton9：
1×1 to 1×3 Phase Transition of TiO2(100) / 9.1：
Surface Reconstructions of TiO2(110) / 9.3：
The 1×2 Reconstruction of SnO2(110) / 9.4：
Imaging Thin Film Alumina: NiAl(110)-Al2O3 / 9.5：
Growth of Cu and Pd on α-Al2O3(0001)- <$$> / 9.6：
A Short-Range-Ordered Overlayer of K on TiO2(110) / 9.7：
Conclusions / 9.8：
Atoms and Molecules on TiO2(110) and CeO2(111) Surfaces / Ken-ichi Fukui ; Yasuhiro Iwasawa10：
Background / 10.1：
Brief Description of Experiments / 10.2：
Surface Structures of TiO2(110) / 10.3：
Adsorbed Atoms and Molecules on TiO2(110) / 10.4：
Carboxylate Ions on TiO2(110) / 10.4.1：
Hydrogen Adatoms on TiO2(110) / 10.4.2：
Fluctuation ofAcetate Ions on TiO2(110) / 10.5：
Surface Structures of CeO2(111) / 10.6：
NC-AFM Imaging of Adsorbed Molecules / 10.7：
NucleicAcidBasesonaGraphiteSurface / 11.1：
Double-StrandedDNAonaMicaSurface / 11.2：
Alkanethiol on a Au(111) Surface / 11.3：
Organic Molecular Films / Hirofumi Yamada12：
AFM Imaging of Molecular Films / 12.1：
Fullerenes / 12.1.1：
AlkanethiolSAMs / 12.1.2：
Ferroelectric Molecular Films / 12.1.3：
Surface Potential Measurements / 12.2：
Technical Developments in NC-AFM Imaging ofMolecules / 12.3：
Single-Molecule Analysis / Akira Sasahara ; Hiroshi Onishi12.4：
Molecules and Surface / 13.1：
Experimental Methods / 13.3：
Alkyl-Substituted Carboxylates / 13.4：
Numerical Simulation ofPropiolate Topography / 13.5：
Sphere-Substrate Force / 13.5.1：
Sphere-Carboxylate Force / 13.5.2：
Cluster-Substrate Force / 13.5.3：
Cluster-Carboxylate Force / 13.5.4：
Simulated Topography / 13.5.5：
Fluorine-Substituted Acetates / 13.6：
Conclusions and Perspectives / 13.7：
Low-Temperature Measurements: Principles, Instrumentation, and Application / Wolf Allers ; Alexander Schwarz ; Udo D. Schwarz14：
Microscope Operation at Low Temperatures / 14.1：
Drift / 14.2.1：
Noise / 14.2.2：
Van der Waals Surfaces / 14.3：
HOPG(0001) / 14.4.1：
Xenon / 14.4.2：
Nickel Oxide / 14.5：
Semiconductors / 14.6：
Δf(z) Curves on Specific Atomic Sites / 14.6.1：
Tip-Dependent Atomic Scale Contrast / 14.6.2：
Tip-Induced Relaxation / 14.6.3：
Magnetic Force Microscopy at Low Temperatures / 14.7：
MFM Data Acquisition / 14.7.1：
Domain Structure of La0.7Ca0.3MnO3-δ / 14.7.2：
Vortices on YBa2Cu3O7-δ / 14.7.3：
Theory of Non-Contact Atomic Force Microscopy / Masaru Tsukada ; Naruo Sasaki ; Michel Gauthier ; Katsunori Tagami ; Satoshi Watanabe14.8：
Cantilever Dynamics / 15.1：
Theoretical Simulation of NC-AFM Images / 15.3：
Non-Contact Atomic Force Microscopy Images ofDynamic Surfaces / 15.4：
Effect of Tip on Image for the Si(100)2×1: H Surface / 15.5：
Effect of Tip on Surface Structure Change and its Relation to Dissipation / 15.6：
Chemical Interaction in NC-AFM on Semiconductor Surfaces / San-Huang Ke ; Tsuyoshi Uda ; Kiyoyuki Terakura ; Ruben Pérez ; Ivan Štich15.7：
First-Principles Calculation of Tip-Surface Chemical Interaction / 16.1：
Simulation of NC-AFM Images / 16.3：
Simulations on Various Surfaces / 16.4：
Tip-Induced Surface Relaxation on the GaAs(110) Surface / 16.5：
Vertical Scan Over an As Atom / 16.5.1：
Vertical Scan Over a Ga Atom / 16.5.2：
RelevancetoNear-Contact STM Observations / 16.5.3：
Tip-Induced Surface Atomic Processes and EnergyDissipation in NC-AFM / 16.5.4：
Image Contrast on GaAs(110) for a Pure Si Tip: Distance Dependence / 16.6：
Effect of Tip Morphology on NC-AFM Images / 16.7：
Image Contrast for the Ga/Si Tip / 16.7.1：
Image Contrast for the As/Si Tip / 16.7.2：
Contrast Mechanisms on InsulatingSurfaces / Adam Foster ; Alexander Shluger16.8：
Model ofAFM and Main Forces / 17.1：
Tip-Surface Setup / 17.2.1：
Forces / 17.2.2：
Simulating Scanning / 17.3：
TheSurface / 17.3.1：
TheTip / 17.3.2：
Tip-Surface Interaction / 17.3.3：
Modelling Oscillations / 17.3.4：
Generating a Theoretical Surface Image / 17.3.5：
The Calcium Fluoride (111) Surface / 17.4：
Calcite: Surface Deformations During Scanning / 17.4.2：
Studying Surface and Defect Properties / 17.5：
Analysis of Microscopy and Spectroscopy Experiments / Hendrik Hölscher17.6：
BasicPrinciples / 18.1：
Origin ofthe Frequency Shift / 18.2.1：
Calculation ofthe FrequencyShift / 18.2.3：
Frequency Shift for Conservative Tip-Sample Forces / 18.2.4：
Experimental NC-AFM Images of van der Waals Surfaces 355 / 18.3：
BasicPrinciplesoftheSimulationMethod / 18.3.2：
Applications ofthe Simulation Method / 18.3.3：
Dynamic Force Spectroscopy / 18.4：
Determining Forces fromFrequencies / 18.4.1：
Analysis ofTip-Sample Interaction Forces / 18.4.2：
Theory of Energy Dissipation into Surface Vibrations / Lev Kantorovich18.5：
Possible Dissipation Mechanisms / 19.1：
Adhesion Hysteresis / 19.2.1：
Stochastic Dissipation / 19.2.2：
Other Mechanisms / 19.2.3：
Brownian Particle MechanismofEnergy Dissipation / 19.3：
Brownian Particle / 19.3.1：
Fluctuation-Dissipation Theorem / 19.3.2：
Oscillating Tip as a Brownian Particle / 19.3.3：
Energy Dissipated Per Oscillation Cycle / 19.3.4：
Nonequilibrium Considerations for NC-AFM Systems / 19.4：
Preliminary Remarks / 19.4.1：
Mixed Quantum-Classical Representation / 19.4.2：
Equation ofMotion for the Tip / 19.4.3：
Estimation ofDissipation Energies in NC-AFM / 19.5：
Comparison with STM / 19.6：
Conclusions and Future Directions / 19.7：
Measurement of Dissipation Induced by Tip-Sample Interactions / H.J. Hug ; A. Baratoff20：
Experimental Aspects of Energy Dissipation / 20.1：
ExperimentalMethods / 20.3：
ApparentEnergyDissipation / 20.4：
Velocity-DependentDissipation / 20.5：
Electric-Field-MediatedJouleDissipation / 20.5.1：
Magnetic-Field-MediatedJouleDissipation / 20.5.2：
Magnetic-Field-MediatedDissipation / 20.5.3：
Brownian Dissipation / 20.5.4：
Hysteresis-Related Dissipation / 20.6：
Magnetic-Field-Induced Hysteresis / 20.6.1：
Hysteresis Due to Adhesion / 20.6.2：
Hysteresis Due to Atomic Instabilities / 20.6.3：
DissipationImagingwithAtomicResolution / 20.7：
DissipationSpectroscopy / 20.8：
Index / 20.9：
Introduction / Seizo Morita1：
AFM in Retrospective / 1.1：
Present Status of NC-AFM / 1.2：
2.

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2. 新しい日本 : 昭和時代・後期
田中正雄まんが
出版情報: 東京 : 学習研究社, 2002.8  148p ; 23cm
シリーズ名: 日本の歴史 : 学研まんが ; 16
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3.

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3. SPSS for Windows入門. 第2版
新村秀一著
出版情報: 東京 : 丸善, 2002.9  x, 199p ; 21cm
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4.

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4. 日本初のマイカーてんとう虫町をゆく : 「スバル360」家族たちの自動車革命
木村直巳脚本・作画
出版情報: 東京 : 宙出版, 2002.6  201p ; 20cm
シリーズ名: プロジェクトX挑戦者たち : コミック版 / NHKプロジェクトX制作班原作・監修
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5.

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5. 化学で使う量の単位と記号
朽津耕三著 ; 日本化学会編
出版情報: 東京 : 丸善, 2002.9  iv, 79p ; 21cm
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6.

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6. Deviation analysis of protein function : memorial collection of Dr. Y. Kiho
Yukio Kiho
出版情報: Osaka : Center for Academic Societies Japan, Osaka, [2002]  vi, 114 p. ; 31 cm
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7.

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7. デジタルエンジニアリング
清水宏著
出版情報: 東京 : 朝倉書店, 2002.9  ix, 128p ; 21cm
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8.

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8. レーザーと現代社会 : レーザーが開く新技術への展望
レーザー技術総合研究所編
出版情報: 東京 : コロナ社, 2002.10  viii, 275p, 図版1枚 ; 22cm
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9.

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9. 図解シーケンス制御の考え方・読み方 : 初歩から実際まで. 第4版
大浜庄司著
出版情報: 東京 : 東京電機大学出版局, 2002.9  xii, 254p ; 21cm
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10.

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10. どんたく
竹久夢二著
出版情報: 東京 : 日本図書センター, 2002.12  169p ; 20cm
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