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1.

図書

図書
柳田博明著
出版情報: 東京 : KDDクリエイティブ, 1994.6  173, viiip ; 19cm
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2.

図書

図書
日本材料科学会編
出版情報: 東京 : 裳華房, 1994.12  viii, 277p ; 22cm
シリーズ名: 先端材料シリーズ
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3.

図書

図書
稲垣道夫, 菱山幸宥著
出版情報: 東京 : 技報堂出版, 1994.2  202p ; 22cm
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4.

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東工大
目次DB

図書
東工大
目次DB
長田義仁編著
出版情報: 東京 : 産業図書, 1994.3  ix, 296p ; 22cm
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序文
第1章 低温プラズマによる物質創製の意義(長田義仁)
第2章 プラズマの化学(長田義仁,入山 裕,鏡 好晴)
   2.1 はじめに 5
   2.2 プラズマ反応の特性 6
   2.3 プラズマ反応過程 9
   2.4 プラズマ化学の分類と応用 11
    2.4.1 プラズマ化学反応の分類 11
    2.4.2 材料合成への応用 14
    2.4.3 プラズマ還元 16
   2.5 量子化学計算によるプラズマ反応制御の試み 18
   2.6 プラズマ診断 23
    2.6.1 探針法 23
    2.6.2 分光法 24
    2.6.3 質量分析法 26
    2.6.4 その他 27
   2.7 地球環境とプラズマ化学 27
   参考文献 30
第3章 プラズマCVD(山田勝幸)
   3.1 はじめに 35
   3.2 装置と方法 36
   3.3 プラズマCVD膜の作製,構造,特性,および応用 41
    3.3.1 アモルファスシリコン膜 41
    3.3.2 シリコン化合物膜 52
    3.3.3 金属および金属化合物膜 57
    3.3.4 ダイヤモンド膜 60
    3.3.5 ダイヤモンド状炭素膜 75
   3.4 今後の展開 81
   参考文献 82
第4章 イオンプレーティング(高瀬三男)
   4.1 はじめに 91
   4.2 装置と方法 94
    4.2.1 プラズマ法 95
    4.2.2 イオンピーム法 98
   4.3 特性と応用 103
    4.3.1 薄膜 103
    4.3.2 超微粒子 120
    4.3.3 バックミンスターフラーレン 121
   4.4 今後の展開 122
   参考文献 123
第5章 スパッタリング(高瀬三男)
   5.1 はじめに 125
   5.2 スパッタ率 127
   5.3 機構 129
   5.4 薄膜形成 130
   5.5 装置と方法 132
    5.5.1 2極直流スパッタリング 132
    5.5.2 3極,4極スパッタリング 135
    5.5.3 高周波(RF)スパッタリング 135
    5.5.4 マグネトロンスパッタリング 136
    5.5.5 対向ターゲット式スパッタリング 139
    5.5.6 イオンピームスパッタリング 140
    5.5.7 ECRスパッタリング 141
   5.6 特性と応用 144
    5.6.1 メタライゼーション 144
    5.6.2 薄膜抵抗器 145
    5.6.3 弾性表面波素子 146
    5.6.4 透明導電性膜 148
    5.6.5 選択光線透過膜 149
    5.6.6 酸化物高温超伝導体薄膜 151
    5.6.7 有機薄膜 151
    5.6.8 歯科材料 154
    5.6.9 記録材料 154
   5.7 大型装置 155
   5.8 今後の展開 156
   参考文献 157
第6章 プラズマ重合(鏡 好晴)
   6.1 はじめに 159
   6.2 装置と方法 160
   6.3 プラズマ重合体の構造 165
   6.4 プラズマ重合機構 169
   6.5 プラズマ重合膜の特性と応用 172
    6.5.1 電子材料 172
    6.5.2 分離膜 179
    6.5.3 表面保護膜 182
    6.5.4 医用材料 184
    6.5.5 レプリカ膜 185
   6.6 今後の展開 186
   参考文献 186
第7章 プラズマ表面処理(入山 裕)
   7.1 はじめに 191
   7.2 非重合性プラズマによる表面処理 192
    7.2.1 不活性ガスプラズマによる表面処理 192
    7.2.2 反応性ガスプラズマによる表面処理 197
    7.2.3 フッ化炭素プラズマによる表面処理 200
   7.3 重合性プラズマによる表面改質 203
   7.4 プラズマ表面処理の応用 207
    7.4.1 繊維 207
    7.4.2 粉体 211
   7.5 プラズマ表面処理装置 215
    7.5.1 単純(二次元)形状物処理装置 216
    7.5.2 三次元成形物処理装置 219
    7.5.3 粉体処理装置 222
   7.6 今後の展開 226
   参考文献 227
第8章 プラズマエッチング(山田勝幸)
   8.1 はじめに 233
   8.2 装置と方法 234
   8.3 機構 238
    8.3.1 物理的エッチング 239
    8.3.2 化学的エッチング 241
    8.3.3 イオンアシストエッチング 249
   8.4 特性 254
    8.4.1 方向性 255
    8.4.2 選択性 260
    8.4.3 速度 262
    8.4.4 形状 263
    8.4.5 均一性 267
    8.4.6 損傷と汚染 269
   8.5 技術展開 271
    8.5.1 化合物半導体のエッチング 271
    8.5.2 Mo,W,Ta,Tiおよびシリサイドのエッチング 273
    8.5.3 レジストのアッシングおよびエッチング 274
    8.5.4 平坦化プロセシング 276
    8.5.5 ITOのエッチング 276
    8.5.6 マイクロマシーニング 278
   8.6 今後の展開 281
   参考文献 282
事項索引 289
序文
第1章 低温プラズマによる物質創製の意義(長田義仁)
第2章 プラズマの化学(長田義仁,入山 裕,鏡 好晴)
5.

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東工大
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東工大
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平尾一之, 河村雄行共著
出版情報: 東京 : 裳華房, 1994.10  viii, 217p, 図版1枚 ; 22cm
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第1章 材料設計と分子動力学法
§1.1 なぜ分子動力学法なのか? 1
   §1.1.1 実験技術の進歩と物質データの蓄積 1
   §1.1.2 原子・分子集合体のコンピュータ・シミュレーション 2
   §1.1.3 無機物質と分子動力学法 4
§1.2 分子動力学法の基礎 7
   §1.2.1 はじめに 7
   §1.2.2 対象となる物質系について 10
   §1.2.3 エネルギーと力の計算 13
   §1.2.4 CoulombエネルギーとCoulomb力の計算 15
   §1.2.5 粒子の動かし方 21
   §1.2.6 温度と圧力の計算と制御 27
   §1.2.7 準古典的分子動力学法 41
第2章 分子動力学法に用いる原子間ポテンシャル
§2.1 経験的原子間ポテンシャル法 44
   §2.1.1 希ガス 45
   §2.1.2 金属ポテンシャル 47
   §2.1.3 分子間ポテンシャルモデル 48
   §2.1.4 剛体イオンモデル 49
§2.2 酸化物凝縮体における原子間ポテンシャルとパラメータ 50
   §2.2.1 完全イオン性2体ポテンシャルモデル 52
   §2.2.2 部分イオン性2体ポテンシャルモデル 54
   §2.2.3 より現実的な原子間ポテンシャルモデルの必要性 57
   §2.2.4 VashishtaらによるSiO2系の相互作用モデル 59
   §2.2.5 SiO2系についてのTsuneyukiモデル 60
   §2.2.6 多体ポテンシャル適用 61
§2.3 共有結合性物質の原子間ポテンシャル 63
   §2.3.1 価電子力場近似 63
   §2.3.2 Siの経験的原子間ポテンシャル 63
§2.4 分子軌道法による原子間ポテンシャル 64
   §2.4.1 はじめに 64
   §2.4.2 分子軌道法とは? 65
§2.5 密度汎関数法による原子間ポテンシャル 69
第3章 分子・材料設計シミュレーションによる新機能探索
§3.1 非晶質化と結晶析出過程のシミュレーション 71
   §3.1.1 はじめに 71
   §3.1.2 ガラスを作るのになぜ急冷するのか? 72
   §3.1.3 ハライドガラスのガラス化 74
   §3.1.4 酸化物ガラスのガラス化 81
§3.2 超イオン伝導体 85
   §3.2.1 はじめに 85
   §3.2.2 Agイオン伝導 85
   §3.2.3 フッ化物イオン伝導体 86
§3.3 フォトニクス材料 90
   §3.3.1 赤外伝送用光ファイバーガラス 90
   §3.3.2 波長変換ガラス 92
第4章 材料設計支援システムへの展開
§4.1 はじめに 97
§4.2 パソコンによる材料情報システムとは? 99
§4.3 パソコンによる分子・材料設計システム 105
§4.4 パソコンによる総合(インテリジェント)材料設計システムは可能か? 109
   §4.4.1 セラミックスにおける設計とコンピュータ利用の現状 109
   §4.4.2 実用化に近づけるために整備すべき問題点 110
   §4.4.3 セラミックス材料設計に必要なコンピュータ・システム 112
第5章 分子動力学法シミュレーションプログラムの使い方
§5.1 パソコン分子動力学計算システム概要 114
   §5.1.1 特徴 114
   §5.1.2 分子動力学計算のための計算機システムについて 117
   §5.1.3 システム構成(プログラムとデータファファイルのつながり) 121
   §5.1.4 ソースプログラムと実行プログラムの取り扱い 123
   §5.1.5 いくつかのBASICプログラム 129
   §5.1.6 MXDTRICL.Fプログラムの構造 132
   §5.1.7 MXDORTOフロッピーディスクの内容 134
   §5.1.8 MXDTRICLフロッピーディスクの内容 135
   §5.1.9 パソコンハードディスクシステムでの設定例 135
§5.2 外部ファイルと入出力情報 138
   §5.2.1 結晶構造データベースとその作成・追加 138
   §5.2.2 初期データの作成 142
   §5.2.3 分子動力学計算の制御データと実行 145
   §5.2.4 データファイルの構造 151
   §5.2.5 標準出力ファイル(FILE06.DAT)の読み方 156
§5.3 いくつかの計算例 162
   §5.3.1 SiO2融体とガラス 162
   §5.3.2 多成分酸化物融体の分子動力学計算 177
   §5.3.3 CaTiO3ぺロフスカイト結晶 185
   §5.3.4 水,氷,および分子性無機物質 190
   §5.3.5 新たな原子間相互作用モデルの適用 200
   参考・引用文献 207
   索引 215
第1章 材料設計と分子動力学法
§1.1 なぜ分子動力学法なのか? 1
   §1.1.1 実験技術の進歩と物質データの蓄積 1
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