1章 電子と結晶 1 |
1.1 価電子と結晶 1 |
1.2 結晶と結合形式 4 |
1.3 結晶の単位胞と方位 6 |
演習問題 7 |
2章 エネルギー帯と自由電子 8 |
2.1 エネルギー準位 8 |
2.2 エネルギー帯の形成 8 |
2.3 半導体・金属・絶縁物のエネルギー帯構造の違い 12 |
演習問題 13 |
3章 半導体のキャリヤ 14 |
3.1 真性半導体のキャリヤ 14 |
3.2 外因性半導体のキャリヤ 15 |
(1) n形半導体のキャリヤ 15 |
(2) p形半導体のキャリヤ 17 |
3.3 キャリヤ生成機構 18 |
演習問題 19 |
4章 キャリヤ密度とフェルミ準位 20 |
4.1 キャリヤ密度 20 |
4.2 真性キャリヤ密度 23 |
4.3 真性フェルミ準位 24 |
4.4 多数キャリヤと少数キャリヤ 24 |
4.5 外因性半導体のキャリヤ密度とフェルミ準位 25 |
演習問題 27 |
5章 半導体の電気伝導 28 |
5.1 ドリフト電流 28 |
5.2 半導体におけるオームの法則 31 |
5.3 拡散電流 33 |
5.4 キャリヤ連続の式 36 |
演習問題 39 |
6章 pn接合とダイオード 40 |
6.1 pn接合 40 |
6.2 pn接合ダイオード 42 |
6.3 pn接合ダイオードの電流の大きさ 44 |
6.4 ダイオードの実際構造 47 |
演習問題 49 |
7章 ダイオードの接合容量 50 |
7.1 接合容量 50 |
7.2 空乏層容量 50 |
7.3 拡散容量 54 |
演習問題 56 |
8章 バイポーラトランジスタ 58 |
8.1 バイポーラトランジスタの位置づけ 58 |
8.2 バイポーラトランジスタの動作原理 59 |
8.3 I BによるI Cの制御 61 |
8.4 電流増幅率 62 |
8.5 電流増幅率の決定因子 63 |
8.6 接地形式と増幅利得 65 |
(1) エミッタ接地 65 |
(2) ベース接地 66 |
(3) コレクタ接地 66 |
8.7 特性と実際動作 66 |
(1) 実際構造 66 |
(2) スイッチング 67 |
(3) 静特性 68 |
演習問題 69 |
9章 接合形FET 71 |
9.1 接合形FETの位置づけ 71 |
9.2 動作原理 72 |
9.3 動作特性と実際 73 |
(1) 動作特性 73 |
(2) デバイスの実際 76 |
演習問題 77 |
10章 金属-半導体接触 78 |
10.1 ショットキー障壁 78 |
10.2 ショットキーバリヤダイオード 79 |
10.3 オーミック接触 82 |
演習問題 84 |
11章 MIS FET 85 |
11.1 MOS FETの位置づけ 85 |
11.2 MIS構造ゲートの動作 85 |
(1) 蓄積, V G<0 86 |
(2) 空乏, V G>0 87 |
(3) 反転, V G ≫0 87 |
11.3 反転状態の解析 87 |
11.4 MIS FETの動作原理と特性 90 |
(1) 動作原理 90 |
(2) 動作特性 91 |
11.5 MOS FETの実際と特性 93 |
(1) 実際構造 93 |
(2) エンハンスメント形とデプレッション形 94 |
(3) 回路記号 94 |
(4) 特性解析 96 |
(5) 相互コンダクタンス 98 |
11.6 MOSキャパシタ 98 |
11.7 フラットバンド電圧 101 |
演習問題 102 |
12章 集積回路 104 |
12.1 ICの回路構成法 104 |
12.2 IC構造の構成と実際 106 |
12.3 バイポーラIC 108 |
12.4 MOSデジタルIC 109 |
(1) n-MOS論理回路 110 |
(2) C-MOS論理回路 110 |
12.5 ICメモリ 111 |
(1) ICメモリの位置づけ 111 |
(2) RAM 113 |
(3) ROM 115 |
演習問題 116 |
13章 光電素子 117 |
13.1 光の量子化-光子 117 |
13.2 光導電効果 119 |
13.3 光起電力効果 121 |
(1) 太陽電池 121 |
(2) ホトダイオード 123 |
13.4 半導体の発光現象 125 |
13.5 発光デバイス 125 |
(1) 発光ダイオード 125 |
(2) 半導体レーザダイオード 127 |
演習問題 129 |
演習問題解答 130 |
付表 137 |
付表1 原子の電子配置 137 |
付表2 物理定数 139 |
付表3 元素の周期律表 140 |
参考文献 142 |
さくいん 143 |