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A study on in-situ formation of HfN[x] gate stack structure with bilayer gate insulator utilizing ECR plasma sputtering / Nithi Atthi

資料種別:
学位論文
出版情報:
東京 : 東京工業大学, 2016
形態:
1 online resource
著者名:
Atthi, Nithi  
書誌ID:
TT00015308
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