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1.

図書

図書
奥山格, 山高博共著
出版情報: 東京 : 廣川書店, 1994.1  viii, 101p ; 26cm
シリーズ名: 廣川化学と生物実験ライン ; 30
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2.

図書

図書
P.W.Atkins [著] ; 玉虫伶太訳
出版情報: 東京 : 東京化学同人, 1994.3  vii, 243p ; 25cm
シリーズ名: Scientific American library ; 12
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3.

図書

図書
中村隆雄著
出版情報: 東京 : 学会出版センター, 1993.3  v, 179p ; 22cm
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4.

図書

図書
奥山格, 友田修司, 山高博編
出版情報: 東京 : 東京化学同人, 1995.3  xi, 232p ; 26cm
シリーズ名: 現代化学増刊 ; 26
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5.

図書

図書
田丸謙二編著
出版情報: 東京 : 放送大学教育振興会, 1991.3  203p ; 21cm
シリーズ名: 放送大学教材 ; 56584-1-9111
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6.

図書

図書
稲垣都士著
出版情報: 東京 : 廣川書店, 1992.4  xii,108p ; 26cm
シリーズ名: 廣川化学と生物実験ライン ; 21
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7.

図書

東工大
目次DB

図書
東工大
目次DB
廣田榮治編
出版情報: 東京 : 学会出版センター, 1998.2  x, 267p ; 27cm
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   まえがき 廣田榮治 i
   執筆者一覧 iv
第1章 フリーラジカルの生成と構造
   1.1 はじめに 籏野嘉彦 3
   1.2 フリーラジカルの生成 高励起分子の解離ダイナミックス 4
   1.2.1 フリーラジカルを生成する諸過程について 籏野嘉彦 4
   1.2.2 放射光励起による高励起分子の解離ダイナミックスに関する研究 籏野嘉彦 5
   a) 光と原子・分子との相互作用 光学的振動子強度とその意味 5
   b) 原子・分子のイオン化・励起 超励起状態の生成と緩和 6
   c) 超励起分子の解離ダイナミックス 7
   1.2.3 電子・分子衝突による分子の解離 籏野嘉彦 9
   a) しきい電子衝撃分光 9
   b) 電子エネルギー損失分光 10
   文献 11
   1.2.4 レーザー光励起によるラジカルの生成と検出 本間健二 11
   a) 可視・紫外レーザーによるラジカルの検出 11
   b) 光解離により生成するラジカルの検出 15
   c) 反応により生成するラジカルの検出と反応ダイナミックス 18
   文献 23
   1.2.5 レーザー多重共鳴分光法を利用した電子高励起状態の構造と解離の研究 江幡孝之 23
   a) COの電子状態 23
   b) 高Rydberg状態の回転構造 25
   c) 前期解離 26
   d) 多重共鳴分光法 27
   e) Rydberg状態の回転構造の解析 30
   f) Rydberg状態の前期解離 30
   g) これからの展望 34
   文献 34
   1.3 フリーラジカルのエネルギー準位と高分解能分光 遠藤泰樹 35
   1.3.1 フリーラジカルの振動・回転エネルギー準位の特徴 35
   a) フリーラジカルの電子状態 35
   b) 微細相互作用を含む回転のHamiltonian 36
   c) 微細相互作用を含む回転エネルギー準位 37
   d) 分子振動との相互作用 39
   e) 微細相互作用定数の解釈 40
   f) 超微細相互作用 41
   1.3.2 フリーラジカルの高分解能分光の実際 41
   a) Fourier変換マイクロ波分光法とレーザー励起蛍光法 41
   b) 炭素鎖フリーラジカルのマイクロ波分光 43
   c) 炭素鎖フリーラジカルのレーザー分光 46
   d) ラジカル錯体およびイオン錯体の純回転スペクトル 50
   e) 遷移金属を含むフリーラジカル 51
   1.3.3 フリーラジカルと電波天文学 52
   文献 53
第2章 凝縮相におけるフリーラジカル
   2.1 はじめに 志田忠正 57
   文献 57
   2.2 マトリックス分離法によるフリーラジカルの研究 志田忠正・百瀬孝昌 57
   2.2.1 固体パラ水素マトリックスを用いた極低温化学反応 57
   a) フリーラジカル 57
   b) マトリックス分離法 58
   c) かご効果 59
   d) ヨウ化アルキルの光解離反応 これまでの研究 60
   e) 固体パラ水素マトリックス中のヨウ化メチルの光解離反応 61
   f) 固体パラ水素マトリックス中のヨウ化エチルの光解離反応 64
   g) まとめ 65
   2.2.2 固体パラ水素マトリックスを用いた高分解能分子分光 66
   a) 固体パラ水素の諸性質 66
   b) パラ水素マトリックス 67
   c) 実験方法 68
   d) 固体パラ水素中の捕捉分子の分光 71
   e) メタン 72
   f) まとめ 81
   文献 81
   2.3 固体表面におけるフリーラジカルの反応 松本吉泰 84
   2.3.1 表面反応の機構 85
   2.3.2 熱反応におけるホット原子 85
   a) ホット原子のエネルギー緩和 85
   b) ホット原子の引き起こす脱離 88
   2.3.3 光解離により生成されたホット原子の反応 90
   a) 酸素再結合反応 90
   b) メタン再結合反応 92
   c) CO酸化反応 94
   d) ホット酸素原子のエネルギー 94
   2.3.4 Eley-Rideal型反応 95
   a) H+Cl/Au(111) 96
   b) H+H/Cu(111) 97
   c) その他の例 99
   2.3.5 まとめ 99
   文献 99
第3章 大気の化学とフリーラジカル
   3.1 はじめに 鷲田伸明 103
   文献 105
   3.2 成層圏化学とフリーラジカル過程 山崎勝義 106
   3.2.1 成層圏化学と連鎖反応機構 106
   3.2.2 オゾン破壊連鎖過程の実証 108
   3.2.3 酸素原子[O(1Dおよび3P)]の生成過程 116
   3.2.4 CIOラジカルの高感度検出 119
   文献 120
   3.3 対流圏化学とフリーラジカル 鷲田伸明 121
   3.3.1 はじめに 121
   3.3.2 OHラジカル再生反応 ペルオキシラジカル(HO2,CH3O2)の検出とNOの反応 122
   3.3.3 大気中のOHラジカル濃度を支配する素反応 OH+CO反応の中間体HOCOラジカルの検出と反応 125
   3.3.4 置換メチルラジカルと酵素分子の反応 128
   3.3.5 6m3光化学チャンバーを用いた植物起源炭化水素の光酸化反応機構とグローバルCO放出量の見積り 130
   3.3.6 まとめ 134
   文献 134
   3.4 大気圏におけるラジカル計測 辻 和秀・渋谷一彦 135
   3.4.1 フリーラジカルの「その場」計測 135
   3.4.2 OHラジカルの「その場」計測 136
   3.4.3 赤外-紫外二重共鳴蛍光計測法(IR-UV LIF法) 137
   文献 138
   3.5 エアロゾル表面でのフリーラジカル過程 幸田清一郎 139
   3.5.1 はじめに 139
   3.5.2 エアロゾル表面の反応と物質移動 140
   a) エアロゾルへの取り込み係数 140
   b) 取り込み過程のモデルと取り込み係数 140
   3.5.3 取り込み係数の測定法 142
   3.5.4 SO2の取り込み係数とその意味 143
   3.5.5 OHラジカルの取り込み係数 145
   3.5.6 おわりに 145
   文献 145
   3.6 大気化学とフリーラジカル過程の今後 鷲田伸明 146
   文献 148
第4章 プラズマプロセスにおけるフリーラジカル
   4.1 はじめに 後藤俊夫 151
   文献 153
   4.2 フリーラジカルの計測技術 後藤俊夫 153
   4.2.1 計測法の概要 153
   4.2.2 レーザー吸収分光法 155
   a) 赤外半導体レーザー吸収分光法(IRLAS) 155
   b) イントラキャビティレーザー吸収分光法(ICLAS) 157
   c) リング色素レーザー吸収分光法(RLAS) 157
   4.2.3 レーザー誘起蛍光分光法 158
   a) レーザー誘起蛍光分光法(LIF) 158
   b) 変調レーザー誘起蛍光分光法(MLIF) 158
   c) 多光子励起レーザー誘起蛍光分光法(MPLIF) 159
   4.2.4 その他のレーザー分光法 159
   a) コヒーレント反Stokes-Raman分光法(CARS) 159
   b) レーザー共鳴イオン化分光法(RIS) 160
   c) レーザー光galvano分光法(LOGS) 160
   4.2.5 出現質量分析法(AMS) 160
   文献 161
   4.3 プラズマ中のフリーラジカルの特性と制御 後藤俊夫 162
   4.3.1 CFxラジカル 162
   a) プラズマ中のCFxラジカルの特性 162
   b) CFxラジカル制御およびエッチング特性との相関 163
   c) フリーラジカル注入によるエッチング反応制御 166
   d) AMSによるCFxラジカル特性解析 168
   4.3.2 SiHxラジカル 169
   a) プラズマ中のSiHxラジカル特性 169
   b) SiHxラジカルと微粒子形成 171
   4.3.3 CHxラジカル 173
   a) プラズマ中のCHxラジカル特性 173
   b) フリーラジカル注入による薄膜機能性制御 175
   4.3.4 その他のフリーラジカル 176
   文献 177
   4.4 フリーラジカルの表面反応 橘 邦英 178
   4.4.1 気相からのラジカル輸送と表面反応 178
   4.4.2 表面のインプロセス計測法 180
   4.4.3 プラズマプロセスにおける表面反応 181
   a) プラズマCVD 182
   b) プラズマエッチング 183
   文献 185
   4.5 プラズマプロセスのモデリング 真壁利明 186
   4.5.1 システム支配方程式 187
   4.5.2 負イオンの存在とRFプラズマ構造 188
   4.5.3 酸素-HFプラズマとシナジズム 191
   4.5.4 負イオン密度とエネルギーの制御 192
   文献 193
第5章 半導体物質表面の原子レベル観測とフリーラジカルによる構造制御プロセス
   5.1 はじめに 清水 勇 197
   5.2 固液界面のSTM 指方研二,板谷謹悟 197
   5.2.1 固液界面 197
   5.2.2 STMの基本原理 199
   5.2.3 電気化学STM装置 200
   5.3 シリコン表面 指方研二,板谷謹悟 202
   5.3.1 半導体/溶液界面 202
   5.3.2 Si(111)表面 203
   5.3.3 Si(110)表面 208
   5.3.4 Si(100)表面 211
   5.3.5 反応機構 213
   文献 214
   5.4 水素原子によるシリコン網目構造の緩和促進 化学アニーリング効果 清水 勇 214
   5.4.1 はじめに 214
   5.4.2 水素原子による「化学アニーリング効果」 216
   5.4.3 「化学アニーリング法」で作製したa-Si:H膜の性質 221
   5.5 分光エリプソメトリーによるシリコン構造形成プロセスの「その場観測」と水素原子による制御 清水 勇 223
   5.5.1 分光エリプソメトリーによる「その場観測」とシミュレーション 223
   a) 分光エリプソメトリーの測定装置 224
   b) 測定結果の解析 225
   5.5.2 低温エピタキシャル成長過程の観測 227
   5.5.3 ガラス基板上でのシリコン構造形成初期過程の観測 229
   5.5.4 水素原子によるシリコン構造緩和の促進(Layer-by-Layer:LBL法) 231
   5.5.5 多結晶シリコン膜のエピタキシャル成長 233
   5.5.6 多結晶シリコン薄膜デバイス作製 234
   文献 236
   <付録> フリーラジカル,分子イオンのマイクロ波,赤外スペクトル 廣田榮治 237
   表1 原子 238
   表2 水素原子を含む2原子分子 239
   表3 水素原子を含まない2原子分子 242
   表4 直線形多原子分子 247
   表5 対称コマ分子 252
   表6 非対称コマ分子 254
   表7 原子分子イオン 259
   索引 265
   まえがき 廣田榮治 i
   執筆者一覧 iv
第1章 フリーラジカルの生成と構造
8.

図書

図書
大野惇吉著
出版情報: 東京 : 丸善, 1997.7  xiii, 201p ; 27cm
シリーズ名: シリーズ有機化学の探険
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9.

図書

図書
editors, J. Popielawski & J. Gorecki
出版情報: Singapore : World Scientific, c1991  ix, 427 p. ; 23 cm
所蔵情報: loading…
10.

図書

図書
中田聡, 福永勝則, 金田義亮共著
出版情報: 東京 : 産業図書, 1996.7  vii, 153p ; 21cm
所蔵情報: loading…
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