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1.

図書

図書
松村正清著
出版情報: 東京 : 昭晃堂, 1988.3  2, 2, 4, 178p ; 22cm
シリーズ名: 21世紀を指向した電子・通信・情報カリキュラムシリーズ ; A-6
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2.

図書

東工大
目次DB

図書
東工大
目次DB
松村正清著
出版情報: 東京 : 昭晃堂, 1986.12  178p ; 22cm
シリーズ名: 21世紀を指向した電子・通信・情報カリキュラムシリーズ ; A-6
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1 デバイスの本質
   1.1 エネルギー増幅機能 1
   1.2 デバイスと結合状態 3
   1.3 半導体デバイスの重要性 8
   1.4 半導体デバイスの歴史 9
   演習問題 11
2 ダイオードの原理
   2.1 pn接合と整流性 12
   2.2 pn接合ダイオードの全般的な特性 15
   2.3 金属・半導体接触 17
   2.4 pn接合ダイオードの基本的特性 19
   演習問題 23
3 ダイオードの実際
   3.1 ダイオード特性の解析 25
   3.2 回路モデル 37
   3.3 空間電荷領域の電界分布 38
   3.4 過渡応答特性 42
   3.5 副次的効果 44
   3.6 ダイオード応用 46
   演習問題 50
4 トランジスタの原理
   4.1 光導電セル 51
   4.2 MOSトランジスタの原理 55
   4.3 バイポーラトランジスタの原理 60
   4.4 基本回路モデル 63
   4.5 性能評価基準 65
   演習問題 71
5 MOSトランジスタの実際
   5.1 MOSトランジスタ特性の解析 72
   5.2 回路モデル 81
   5.3 副次的効果 83
   5.4 MOSトランジスタ応用 85
   演習問題 87
6 バイポーラトランジスタの実際
   6.1 バイポーラトランジスタ特性の解析 89
   6.2 回路モデル 93
   6.3 副次的効果 99
   6.4 バイポーラトランジスタ応用 101
   演習問題 106
7 集積回路
   7.1 集積回路の利点 107
   7.2 集積回路の基本形 108
   7.3 モノリシック回路素子 110
   7.4 回路構成 117
   演習問題 126
8 その他の半導体デバイス
   8.1 サイリスタ 128
   8.2 メモリトランジスタ 133
   8.3 電荷結合デバイス 134
   8.4 薄膜トランジスタ 137
   8.5 化合物半導体およびヘテロ接合トランジスタ 139
   8.6 半導体光デバイス 141
   演習問題 147
9 シリコンデバイスの製作法
   9.1 シリコンウェーハの製造技術 149
   9.2 熱酸化技術 151
   9.3 フォトエッチング技術 153
   9.4 熱拡散技術とイオン注入技術 155
   9.5 真空蒸着 159
   9.6 エピタキシャル成長技術 159
   9.7 デバイス製作工程 160
演習問題 162
演習問題略解 164
索引 174
1 デバイスの本質
   1.1 エネルギー増幅機能 1
   1.2 デバイスと結合状態 3
3.

図書

東工大
目次DB

図書
東工大
目次DB
古川静二郎, 松村正清共著
出版情報: 東京 : 昭晃堂, 1979.11-1980  2冊 ; 22cm
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目次情報: 続きを見る
1
第1章 緒論
   1.1 エレクトロニクスと電子デバイス 1
   1.2 電子デバイスの発達 2
   1.3 電子デバイスの分類 7
   1.4 電子デバイスの産業における位置づけ 11
第2章 半導体の物理
   2.1 固体内電子 13
   2.2 金属・絶縁体および半導体 20
   2.3 Ⅳ族半導体とキャリア 22
   2.4 電気伝導 29
   2.5 キャリヤの分布と流れ 38
   2.6 キャリヤのエネルギー分布 47
   演習問題 52
第3章 pn接合ダイオードとショットキーバリアダイオード
   3.1 熱平衡状態のpn接合 56
   3.2 pn接合ダイオードの静的特性 62
   3.3 pn接合ダイオードの動的特性 73
   3.4 pn接合ダイオードのモデル 80
   3.5 ホットエレクトロンによる現象 83
   3.6 pn接合ダイオードの応用 89
   3.7 金属-半導体接触 94
   演習問題 101
第4章 バイポーラトランジスタ
   4.1 動作原理 105
   4.2 トランジスタモデル 118
   4.3 バイポーラトランジスタの諸現象 131
   4.4 各種バイポーラトランジスタ 136
   演習問題 142
第5章 MOS トランジスタ
   5.1 半導体表面の物理 144
   5.2 MOS トランジスタの特性 156
   5.3 MOS トランジスタとバイポーラトランジスタとの対応 164
   5.4 MOS トランジスタの諸現象とその応用 166
   5.5 MOS トランジスタ回路 171
   演習問題 173
第6章 サイリスタ
   6.1 ショックレイダイオード 176
   6.2 SCRにおけるトリガー機構 179
   6.3 サイリスタの回路と応用 183
   演習問題 189
演習問題略解 191
索引 200
VOL.II
第7章 半導体集積回路
   7.1 集積回路の概念 1
   7.2 IC製造技術 6
   7.3 アナログIC 17
   7.4 ディジタル論理IC 21
   7.5 メモリIC 40
   7.6 電荷転送デバイス 45
   演習問題 49
第8章 電子管
   8.1 電子放出 52
   8.2 電界,磁界と電子の流れ 59
   8.3 空間電荷制御管 67
   8.4 マイクロ波電子管 79
   演習問題 90
第9章 電気-光変換デバイス
   9.1 受光-発光デバイス 93
   9.2 太陽電池 105
   9.3 レーザ 107
   9.4 受像および撮像デバイス 125
   演習問題 144
第10章 その他の電子デバイス
   10.1 放電管 147
   10.2 接合形およびショットキーバリア形電界効果トランジスタ 157
   10.3 マイクロ波負性抵抗ダイオード 164
   10.4 サーミスタとバリスタ 169
   演習問題 170
第11章 新しいデバイス
   11.1 ジョセフソン素子 171
   11.2 バブル・ドメインデバイス 176
   11.3 アモルファス半導体デバイス 180
   演習問題略解 188
索引 191
   電子デバイス〔I〕目次概要
   第1章 緒論
   第2章 半導体の物理
   第3章 pn接合ダイオードとショットキーバリアダイオード
   第4章 バイポーラトランジスタ
   第5章 MOSトランジスタ
   第6章 サイリスタ
1
第1章 緒論
   1.1 エレクトロニクスと電子デバイス 1
4.

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図書
松村正清著
出版情報: 東京 : 朝倉書店, 1986.4  vii, 200p ; 22cm
シリーズ名: 朝倉電気・電子工学講座 ; 13
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