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1.

電子ブック
ＥＢ
1. Applied Digital Optics: From Micro-optics to Nanophotonics
B. Kress, Bernard C. Kress, Patrick Meyrueis
出版情報: Wiley Online Library - AutoHoldings Books , John Wiley & Sons, Incorporated, 2009
所蔵情報: loading…
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About the Authors
Foreword / Joseph Goodman
Acknowledgments / Trevor Hall
Acronyms
Introduction
Why a Book on Digital Optics?
Digital versus Analog
What are Digital Optics?
The Realm of Digital Optics
Supplementary Material
From Refraction to Diffraction / 1：
Refraction and Diffraction Phenomena / 1.1：
Understanding the Diffraction Phenomenon / 1.2：
No More Parasitic Effects / 1.3：
From Refractive Optics to Diffractive Optics / 1.4：
From Diffractive Optics to Digital Optics / 1.5：
Are Diffractives and Refractives Interchangeable Elements? / 1.6：
Classification of Digital Optics / 2：
Early Digital Optics / 2.1：
Guided-wave Digital Optics / 2.2：
Free-space Digital Optics / 2.3：
Hybrid Digital Optics / 2.4：
From Optical Fibers to Planar Lightwave Circuits (PLCs) / 3：
Light Propagation in Waveguides / 3.2：
The Optical Fiber / 3.3：
The Dielectric Slab Waveguide / 3.4：
Channel Waveguides / 3.5：
PLC In- and Out-coupling / 3.6：
Functionality Integration / 3.7：
Refractive Micro-optics / 4：
Micro-optics in Nature / 4.1：
GRIN Lenses / 4.2：
Surface-relief Micro-optics / 4.3：
Micro-optics Arrays / 4.4：
Digital Diffractive Optics: Analytic Type / 5：
Analytic and Numeric Digital Diffractives / 5.1：
The Notion of Diffraction Orders / 5.2：
Diffraction Gratings / 5.3：
Diffractive Optical Elements / 5.4：
Diffractive Interferogram Lenses / 5.5：
Digital Diffractive Optics: Numeric Type / 6：
Computer-generated Holograms / 6.1：
Designing CGHs / 6.2：
Multiplexing CGHs / 6.3：
Various CGH Functionality Implementations / 6.4：
Why Combine Different Optical Elements? / 7：
Analysis of Lens Aberrations / 7.2：
Improvement of Optical Functionality / 7.3：
The Generation of Novel Optical Functionality / 7.4：
Waveguide-based Hybrid Optics / 7.5：
Reducing Weight, Size and Cost / 7.6：
Specifying Hybrid Optics in Optical CAD/CAM / 7.7：
A Parametric Design Example of Hybrid Optics via Ray-tracing Techniques / 7.8：
Digital Holographic Optics / 8：
Conventional Holography / 8.1：
Different Types of Holograms I85 / 8.2：
Unique Features of Holograms / 8.3：
Modeling the Behavior of Volume Holograms / 8.4：
HOE Lenses / 8.5：
HOE Design Tools / 8.6：
Holographic Origination Techniques / 8.7：
Holographic Materials for HOEs / 8.8：
Other Holographic Techniques / 8.9：
Dynamic Digital Optics / 9：
An Introduction to Dynamic Digital Optics / 9.1：
Switchable Digital Optics / 9.2：
Tunable Digital Optics / 9.3：
Reconfigurable Digital Optics / 9.4：
Digital Software Lenses: Wavefront Coding / 9.5：
Digital Nano-optics / 10：
The Concept of 'Nano' in Optics / 10.1：
Sub-wavelength Gratings / 10.2：
Modeling Sub-wavelength Gratings / 10.3：
Engineering Effective Medium Optical Elements / 10.4：
Form Birefringence Materials / 10.5：
Guided Mode Resonance Gratings / 10.6：
Surface Plasmonics / 10.7：
Photonic Crystals / 10.8：
Optical Metamaterials / 10.9：
Digital Optics Modeling Techniques / 11：
Tools Based on Ray Tracing / 11.1：
Scalar Diffraction Based Propagators / 11.2：
Beam Propagation Modeling (BPM) Methods / 11.3：
Nonparaxial Diffraction Regime Issues / 11.4：
Rigorous Electromagnetic Modeling Techniques / 11.5：
Digital Optics Design and Modeling Tools Available Today / 11.6：
Practical Paraxial Numeric Modeling Examples / 11.7：
Digital Optics Fabrication Techniques / 12：
Holographic Origination / 12.1：
Diamond Tool Machining / 12.2：
Photo-reduction / 12.3：
Microlithographic Fabrication of Digital Optics / 12.4：
Micro-refractive Element Fabrication Techniques / 12.5：
Direct Writing Techniques / 12.6：
Gray-scale Optical Lithography / 12.7：
Front/Back Side Wafer Alignments and Wafer Stacks / 12.8：
A Summary of Fabrication Techniques / 12.9：
Design for Manufacturing / 13：
The Lithographic Challenge / 13.1：
Software Solutions: Reticle Enhancement Techniques / 13.2：
Hardware Solutions / 13.3：
Process Solutions / 13.4：
Replication Techniques for Digital Optics / 14：
The LIGA Process / 14.1：
Mold Generation Techniques / 14.2：
Embossing Techniques / 14.3：
The UV Casting Process / 14.4：
Injection Molding Techniques / 14.5：
The Sol-Gel Process / 14.6：
The Nano-replication Process / 14.7：
A Summary of Replication Technologies / 14.8：
Specifying and Testing Digital Optics / 15：
Fabless Lithographic Fabrication Management / 15.1：
Specifying the Fabrication Process / 15.2：
Fabrication Evaluation / 15.3：
Optical Functionality Evaluation / 15.4：
Digital Optics Application Pools / 16：
Heavy Industry / 16.1：
Defense, Security and Space / 16.2：
Clean Energy / 16.3：
Factory Automation / 16.4：
Optical Telecoms / 16.5：
Biomedical Applications / 16.6：
Entertainment and Marketing / 16.7：
Consumer Electronics / 16.8：
Summary / 16.9：
The Future of Digital Optics / 16.10：
Conclusion
Rigorous Theory of Diffraction / Appendix A：
Maxwell's Equations / A.l：
Wave Propagation and the Wave Equation / A.2：
Towards a Scalar Field Representation / A.3：
The Scalar Theory of Diffraction / Appendix B：
Full Scalar Theory / B.l：
Scalar Diffraction Models for Digital Optics / B.2：
Extended Scalar Models / B.3：
FFTs and DFTs in Optics / Appendix C：
The Fourier Transform in Optics Today / C.l：
Conditions for the Existence of the Fourier Transform / C.2：
The Complex Fourier Transform / C.3：
The Discrete Fourier Transform / C.4：
The Properties of the Fourier Transform and Examples in Optics / C.5：
Other Transforms / C.6：
Index
Foreword by Professor
Digital Hybrid Optics
Different Types of Holograms
The Concept of Nanoin Optics
Maxwel's Equations / A.1：
About the Authors
Foreword / Joseph Goodman
Acknowledgments / Trevor Hall
2.

図書

東工大
目次DB
図書
東工大
目次DB
2. デジタル回折光学
Bernard Kress, Patrick Meyrueis著 ; 藤野誠, 駒井友紀訳
出版情報: 東京 : 丸善, 2005.3  xix, 435p ; 22cm
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序章　回折から回折光学へ
   1.　はじめに 1
   2.　ホイヘンス－フレネルの回折理論 5
   3.　フラウンホーファー回折とフレネル回折 6
   4.　ファーフィールド回折パターンの例 9
   　4.1　細長いスリットの例 9
   　4.2　ダブルスリットの例 11
   　4.3　回折格子 13
   　4.4　矩形開口のフラウンホーファー回折 14
   　4.5　円形開口のフラウンホーファー回折 15
   5.　まとめ 17
第1章　回折光学素子の設計とシミュレーション
   1.　はじめに 19
   2.　DOEの回折モデル : 理論的背景 19
   　2.1　単色波の回折現象 20
   　2.2　理論的見地からみた近軸領域におけるDOEの振る舞い 41
   3.　数値計算の技術　56
   　3.1　スカラー理論を用いた数値計算法 56
   　3.2　厳密回折理論を用いた数値計算 64
   4.　DOEの設計と最適化技術 70
   　4.1　解析型回折素子 72
   　4.2　数値型回折素子（numerical-type diffractive element） 84
   　4.3　多機能DOE：記述と分類（multifunctional DOE : description and classification） 112
   　4.4　符号化技術（encoding techniques） 114
   5.　DOEの設計モデルと数値計算技術 134
   　5.1　解析型DOEの設計モデルとシミュレーション技術 134
   　5.2　数値型DOEのモデル化とシミュレーション技術 139
   　5.3　ビーム伝搬法（beam propagation methods:BPM）を用いたモデル化技術 139
   6.　文献 142
第2章　DOEの作製と複製技術
   1.　はじめに 147
   2.　卓上DOE作製技術 148
   　2.1　光縮小技術（photoreduction technique） 148
   　2.2　高分解能直接印刷（direct high-resolution printing） 149
   3.　ダイヤモンド機械装置（diamond machine tools） 150
   4.　動的なデバイス（dynamical devices） 151
   　4.1　再形成可能なDOE 152
   　4.2　スイッチング可能なDOE 155
   5.　マイクロリソグラフィ作製技術（microlithographic fabrication technology） 156
   　5.1　マスクパターン作製装置 158
   　5.2　フォトリソグラフィック変換 161
   　5.3　パターンエッチング 164
   　5.4　深露光のリソグラフィ 165
   　5.5　材料直接除去法（direct material ablation tools） 168
   6.　マイクロリソグラフィによる作製技術 171
   　6.1　光の干渉 171
   　6.2　従来型マスクアライメント 173
   　6.3　グレートーンマスキング 174
   　6.4　直接描画法（direct write methods） 180
   　6.5　イオン交換技術（ion exchange techniques） 184
   　6.6　LIGAプロセス 185
   7.　複製技術（replication techniques） 185
   　7.1　刻みと繰り返しの利用（ステッパー） 186
   　7.2　プラスチックエンボス工程（plastic embossing process） 186
   　7.3　モールド工程（moulding process） 186
   　7.4　ゾル・ゲル工程 188
   　7.5　ホログラム記録工程（holographic recording process） 190
   8.　DOEの設計と作製のまとめ 191
   9.　文献 194
第3章　回折光学素子用のCADとCAMのツール
   1.　はじめに 197
   2.　CAD設計技術 198
   　2.1　CGHの一般的な設計アルゴリズム 198
   　2.2　最適符号化方法 210
   　2.3　CADシミュレーション技術 214
   　2.4　FFTに基づいた再生のダイナミックレンジの増加 225
   3.　CAD，CAMツールにおける高レベルのDOE操作 232
   　3.1　空間多重化 233
   　3.2　DOEのデータ変調 234
   　3.3　複素型DOEデータの多重化 237
   　3.4　繰り返しDOEデータ多重化 240
   4.　関連する許容量 : 設計ルールの確認 245
   5.　文献 247
第4章　回折光学素子の作製許容値解析
   1.　はじめに 249
   2.　最適なマイクロリソグラフィ作製法 249
   　2.1　基礎的な要求事項 250
   　2.2　実証研究 251
   3.　作製上の制約条件の分析とモデリング 264
   　3.1　電子ビーム近接効果 264
   　3.2　光近接効果 274
   　3.3　異方的エッチング 278
   　3.4　他の系統的な作製誤差 284
   4.　作製許容値解析 286
   5.　作製上の系統的誤差の補償方法 291
   　5.1　作製上のシステム誤差の補償法 292
   　5.2　作製誤差に対するDOEの感度低減法 311
   6.　文献 316
第5章　DOEマスクレイアウトの作製
   1.　はじめに 319
   2.　標準的な作製ファイルフォーマット 320
   　2.1　高いレベルのフォーマット 320
   　2.2　中間レベルのフォーマット 321
   　2.3　ソース言語 321
   　2.4　低いレベルのフォーマット 322
   3.　DOEデータの細分化技術 325
   　3.1　解析型DOEの細分化 326
   　3.2　数値型DOEの細分化 341
   　3.3　DOEデータ細分化の影響のシミュレーション 346
   　3.4　細分化済パターンの最終フォーマット 349
   　3.5　レクチルレイアウトの配置とウェハへのステッピング 352
第6章　システムヘの適用を重視したDOE設計例
   1.　はじめに 357
   2.　ハイブリッド光学システム 360
   　2.1　回折／屈折の分割について 361
   　2.2　ハイブリッドシステム用のシミュレーション技術 363
   3.　ハイブリッドレンズのその他の特性 373
   　3.1　浅くブレーズされた回折溝 374
   　3.2　深くブレーズした回折溝 376
   　3.3　バイナリ回折溝 379
   　3.4　多重化回折溝 379
   4.　オプトエレクトロニクス・システム 379
   　4.1　0Eの切り分けについて 383
   　4.2　例1 : MCM用の光クロック分配 384
   　4.3　例2 : 自由空間光インターコネクション 397
   　4.4　例3 : OEパッケージングをめぐる設計の補填 404
   5.　オプトメカニカル・システム 411
   　5.1　オプトメカニカルの分割問題 411
   　5.2　例1 : 回折合成開口ズーム 411
   　5.3　例2 : 微小流体・システム 416
   　5.4　例3 : 高解像度ライダー信号分析マイクロシステム 419
   6.　まとめ 420
   7.　文献 422
索引 427
序章　回折から回折光学へ
   1.　はじめに 1
   2.　ホイヘンス－フレネルの回折理論 5
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