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1.

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吉田広幸, インフィニット・テクノロジーズ共著
出版情報: 東京 : 工業調査会, 2002.7  189p, 図版 [1] p ; 19cm
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2.

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図書
藤枝一郎著
出版情報: 東京 : 森北出版, 2005.6  iv, 209p ; 22cm
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3.

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東工大
目次DB

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東工大
目次DB
黒田和男, 山本和久, 栗村直編
出版情報: 東京 : オプトロニクス社, 2010.2  xiv, 303p ; 22cm
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第1章 総説 [山本和久] 2
   1. レーザーディスプレイの歴史と特徴 2
   2. レーザーディスプレイの主要技術 4
    2.1 レーザー投射光学系 4
    2.2 スペックルノイズ除去 6
    2.3 レーザー光源 8
     2.3.1 半導体レーザー 8
     2.3.2 半導体レーザーの波長変換 9
    2.4 安全性確保 11
   3. レーザーディスプレイ装置の応用 12
    3.1 レーザーリアプロジェクションTV 13
    3.2 超小型プロジェクタ 14
    3.3 その他のレーザーディスプレイ 15
   4. まとめ 16
第2章 光源技術
   2.1 半導体レーザー
    2.1.1 赤色半導体レーザー [八木哲哉] 20
     1. はじめに 20
     2. 小型プロジェクタ用赤色LD 21
     3. 大型ディスプレイ向け赤色LDアレイ 27
     4. まとめ 29
    2.1.2 青色・緑色半導体レーザー [長濱慎一] 31
     1. はじめに 31
     2. 青色半導体レーザー 32
     3. 緑色半導体レーザー 37
    2.1.3 面発光半導体レーザー [宮本智之] 43
     1. はじめに 43
     2. 面発光レーザーの特徴 43
     3. 面発光レーザーの応用分野 44
     4. 研究開発の歴史 45
     5. 面発光レーザーの構成法 45
     6. 様々な波長の面発光レーザー 49
     7. 外部共振器型面発光レーザー 52
     8. 面発光レーザーの新しい構成技術 53
    2.1.4 有機半導体レーザー-その材料を中心に- [安達千波矢] 56
     1. はじめに 56
     2. 有機発光ダイオードのメカニズムと到達点 57
     3. レーザー活性材料(蛍光・リン光材料)(低閾値での反転分布形成) 59
     4.電流励起可能なデバイス構造への展開 63
   2.2 波長変換
    2.2.1 波長変換デバイス [栗村 直] 68
     1. はじめに 68
     2. 波長変換材料 70
     3. デバイスの形態 72
     4. 緑色SHGの進展 74
     5. 高効率小型グリーンレーザーへの挑戦 79
     6. まとめ 82
    2.2.2 マイクロチップ固体レーザー [平等拓範] 84
     1 はじめに 84
     2. 基本特性 85
      2.1 希土類イオンの分光特性 85
      2.2 遷移分岐比と最小励起率 88
      2.3 熱機械特性 91
      2.4 内部共振器SHG特性 93
     3. レーザー発振基本特性 95
      3.1 基本波発振特性 95
      3.2 SHG特性 97
     4. まとめ 102
    2.2.3 SHG用高出力基本波レーザー [尾松孝茂] 105
     1. はじめに 105
     2. 半導体レーザー励起固体レーザー 106
      2.1 Yb系レーザー 106
      2.2 Nd系レーザー 108
       2.2.1 Nd系レーザーの分光学的特性 108
      2.3 Ndドープバナデートレーザー 110
      2.4 熱レンズ効果 110
      2.5 側面励起レーザー 111
     3. ファイバーレーザー 113
     4. 光励起型面発光半導体レーザー 115
     5. ディスプレイ用高出力レーザーの展開とまとめ 116
    2.2.4 高出力緑色SHGレーザー [岡美智雄] 119
     1. はじめに 119
     2. 緑色レーザー発生の方式 120
     3. 高出力SHG緑色レーザーの構成と出力特性 124
     4. おわりに 128
    2.2.5 超小型緑色SHGレーザー [岡田 明、関口修利] 129
     1. はじめに 129
     2. 超小型緑色SHGレーザーの概要 130
     3. 技術要素 132
     4. 超小型緑色SHGレーザーの効率 139
     5. 応用面からの考察 141
     6. まとめ 143
    2.2.6 光励起半導体レーザーとその波長変換 [金田有史] 145
     1. はじめに 145
     2. 0PSLとは 146
     3. 0PSLの構成と特徴 146
     4. 0PSLデバイスの作成 151
     5. 0PSLのディスプレイ光源としての適性 152
     6. 報告例 155
     7. まとめと展望 157
第3章 スペックル除去
   3.1 スペックル入門-レーザーディスプレイの画質向上に向けて- [黒田和男] 162
    1. スペックルとは 162
     1.1 粗面による散乱 162
     1.2 分布関数 163
     1.3 特性関数とモーメント 165
     1.4 コントラスト 167
    2. 相関関数 167
     2.1 振幅相関関数と強度相関関数 167
     2.2 位相因子の相関関数と共分散 167
     2.3 表面形状の相関関数と波面の相関関数 168
    3. 平均化 170
     3.1 スペックルの重畳 170
      3.1.1 互いに独立の場合 170
      3.1.2 完全に相関がある場合 171
     3.2 スペックルによる照明 171
      3.2.1 強度の一様な照明 173
      3.2.2 スペックル照明 173
     3.3 空間平均 174
     3.4 時間平均 175
    4. 相関関数の伝搬 176
     4.1 点像分布関数 176
     4.2 像面での相関関数 177
     4.3 フレネル回折 178
    5. 補足:モーメント定理 179
   3.2 スペックル除去方式 [久保田重夫] 180
    1. はじめに 180
    2. 観側系としての目の特性 180
    3. レーザープロジェクターにおけるスペックル低減法 183
第4章 投射技術
   4.1 2次元空間変調素子 [竹田圭吾] 194
    1. はじめに 194
    2. プロジェクターの歴史 194
     2.1 CRTプロジェクター 194
     2.2 光書き込み式プロジェクター 195
     2.3 マイクロデイスプレイベースプロジェクター 195
    3. プロジェクターの基本原理と特長 196
     3.1 プロジェクターの分類 196
     3.2 HTPS方式 197
     3.3 LCOS方式 198
     3.4 DLPR(R)方式 199
    4. プロジェクター用光源の特長と課題 202
     4.1 超高圧水銀ランプ 202
     4.2 LED光源 202
     4.3 レーザー光源 203
    5. プロジェクターの市場と技術動向 204
     5.1 プロジェクターの市場規模 204
     5.2 データ系プロジェクター 204
     5.3 ビデオ系プロジェクター 205
     5.4 超小型プロジェクター 205
    6. 今後の展望 206
   4.2 1次元空間変調素子-Grating Light VaIve Projector- [久保田重夫] 208
    1. はじめに 208
    2. スキャン投射方式の特質 208
    3. 一次元SLMとしての回折格子型MEMS 210
     3.1 変調原理と階調特性 210
     3.2 高速応答性 212
   4.3 ラスタースキャン
    4.3.1 MEMS [年吉 洋] 216
     1. MEMS光学系 216
     2. MEMS光スキャナの性能指数 218
     3. 圧電駆動MEMS光スキャナの例 220
     4. 電磁駆動MEMS光スキャナの例 222
     5. 通電加熱駆動MEMS光スキャナの試作例 223
     6. 静電駆動MEMS光スキャナの試作例 224
     7. MEMS光スキャナの検討課題 225
    4.3.2 変調 [村田博司] 231
     1. はじめに 231
     2. 光変調方式 233
     3. 位相変調による光パルス生成 235
     4. 光変調とスペックル 238
     5. むすび 239
    4.3.3 偏向 [藤浦和夫] 240
     1 はじめに 240
     2. 可動ミラー方式 241
      2.1 ポリゴンミラー 242
      2.2 ガルバノスキャナ 243
     3. 屈折率変調型スキャナ 244
      3.1 音響光学効果スキャナ 245
      3.2 電気光学効果スキャナ 246
       3.2.1 プリズム型電気光学効果スキャナ 246
       3.2.2 屈折率分布型電気光学効果スキャナ 248
     4. 終わりに 251
第5章 ディスプレイ装置
   5.1 超小型プロジェクター-ラスタースキャン方式- [乙幡大輔] 254
    1. はじめに 254
    2. レーザースキャン方式の表示原理 255
     2.1 表示原理 255
     2.2 レーザースキャン方式の特長 256
    3. プロジェクターの構成 256
    4. 光学部 257
     4.1 RGBレーザー 258
     4.2 光スキャナー 258
      4.2.1 光スキャナーの周波数 258
      4.2.2 光スキャナーの駆動方式 259
      4.2.3 ミラー位置の検知 259
    5. スキャナー制御部 260
    6. レーザー制御部 261
    7. 日本信号(株)のMEMS光スキャナー“ECOSCAN”の特長 261
     7.1 “ECOSCAN”の特長 262
     7.2 1軸スキャナータイプと2軸スキャナータイプの比較 262
     7.3 実装の小型化 263
     7.4 外観と仕様 264
    8. 課題 265
    9. おわりに 265
   5.2 レーザーTV [笹川智広] 267
    1. はじめに 267
    2. 「レーザTV : LASERVUE(R)」 267
    3. 「レーザTV]のレーザー光源 270
    4. 「レーザTV」の光学系 271
    5. 「レーザTV」の画像処理 274
    6. まとめ 275
   5.3 直視型液晶デイスプレイ [藤枝一郎] 277
    1. はじめに 277
    2. 最近のバックライトの研究 278
     2.1 諸性能の向上 278
     2.2 新機能の付与 279
    3. レーザーを利用したバックライト 280
     3.1 青色LDと蛍光体を用いる構成 282
     3.2 3色レーザーを用いる構成 284
     3.3 大面積化に向けて 286
    4. まとめ 287
   5.4 ヘッドマウントディスプレイ-ラスタースキャン方式- [山田祥治] 290
    1. はじめに 290
    2. 動作原理 290
    3. 構成例と動作の詳細 291
    4. MEMS走査器とHMDの試作例 294
    5. 奥行き変調の可能性 295
    6. おわりに 298
   索引 299
第1章 総説 [山本和久] 2
   1. レーザーディスプレイの歴史と特徴 2
   2. レーザーディスプレイの主要技術 4
4.

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川西剛著
出版情報: 東京 : 工業調査会, 1999.4  220p ; 18cm
所蔵情報: loading…
5.

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谷千束著
出版情報: 東京 : 共立出版, 1998.2  vii, 201p ; 22cm
シリーズ名: 先端光エレクトロニクスシリーズ / 伊賀健一, 池上徹彦, 荒川泰彦編集委員 ; 1
所蔵情報: loading…
6.

図書

図書
宮田清蔵監修
出版情報: 東京 : エヌ・ティー・エス, 1998.11  viii, 294, 10p ; 27cm
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7.

図書

東工大
目次DB

図書
東工大
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渡辺順次監修
出版情報: 東京 : シーエムシー, 1998.2  305p ; 27cm
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   はじめに (渡辺順次)
第1章 総論
   1 カラーフィルタ形成法の課題(島 康裕) 1
   1.1 はじめに 1
   1.2 カラーフィルタの構造および要求特性 1
   1.2.1 透明基板 2
   1.2.2 ブラックマトリクス(BM) 2
   1.2.3 カラーフィルタ層(CF) 2
   1.2.4 保護膜 3
   1.2.5 透明導電膜 4
   1.3 カラーフィルタの各種製造方法の課題 4
   1.3.1 染料法 4
   1.3.2 顔料分散法 6
   1.3.3 印刷法 9
   1.3.4 電着法 12
   1.4 おわりに 12
   2 カラーフィルターの分光特性(渡邊 苞) 14
   2.1 はじめに 14
   2.2 色再現の方向 15
   2.2.1 色再現に必要な物体の色度域 15
   2.2.2 3原色と白色バランス 15
   2.3 フィルタの分光特性 18
   2.4 現在の光源用フィルタの改善方向 20
   2.4.1 青フィルタ 21
   2.4.2 緑フィルタ 21
   2.4.3 赤フィルタ 22
   2.5 フィルタとバックライト用光源の改善目標 23
   2.5.1 フィルタの改善 23
   2.5.2 光源の開発 23
   2.5.3 消偏効果 23
   2.6 おわりに 25
第2章 カラーフィルター形成法とケミカルス
   1 染料溶解法(古川忠宏) 27
   1.1 はじめに 27
   1.2 製造方法 27
   (1) 色材塗料 27
   (2) 色材プレベーク 27
   (3) フォトレジスト塗布 28
   (4) 露光・現像 28
   (5) フォトレジスト剥離,ポストベーク 28
   (6) 3色繰り返し 28
   (7) (7)オーバーコートを塗布 29
   1.3 カラーフィルターの特性 29
   (1) 分光特性およびコントラスト 29
   (2) 染色フィルターとの差について 29
   1.4 耐光性について 30
   (1) 試験方法 30
   (2) 染料の構造と耐光性の関係 31
   (3) 濃度と耐光性の関係 31
   (4) 染料カラーフィルターの耐光性向上 32
   1.5 反射LCD用カラーフィルターへの応用 33
   1.6 最後に 37
   2 印刷法(渡邊 苞) 38
   2.1 平版オフセット印刷(オフセットと略)の製造工程 38
   2.2 ガラス基坂受け入れ 39
   2.3 インキ製造 41
   2.4 製版 43
   2.5 印刷機 44
   2.6 ブランケットの表面平坦化 45
   2.7 印圧の均一化 45
   2.8 その他 46
   2.9 平坦化 48
   2.10 おわりに 48
   3 顔料分散法(松嶋欽爾,泉田和夫) 49
   3.1 概要 49
   3.2 カラーフィルターの基本構成 49
   3.3 顔料分散法カラーフィルター 51
   3.3.1 着色感材法 52
   3.3.2 顔料の微粒化と分散 55
   3.4 今後の展望 56
   3.4.1 品質,性能向上への対応 56
   3.5 まとめ 57
   4 電着法・ミセル電解法(倉田英明) 59
   4.1 はじめに 59
   4.2 電着法カラーフィルター 59
   4.2.1 電着法の原理 59
   4.2.2 電着法製造プロセス 60
   4.2.3 電着法の特徴 61
   4.2.4 電着法の課題 62
   4.3 出光ミセル電解法カラーフィルター 62
   4.3.1 基本原理 62
   4.3.2 製造プロセス 64
   4.3.3 ミセル電解カラーフィルターの特徴 65
   4.4 C/F on TFTアレイへの応用 66
   4.5 おわりに 68
   5 着色フィルム(ドライフィルム)転写法(佐藤守正) 69
   5.1 はじめに 69
   5.2 TRANSER 転写材料 69
   5.3 作製プロセス 70
   (1) ラミネート工程 70
   (2) 仮支持体剥離工程 70
   (3) 露光工程 70
   (4) 現像工程 70
   (5) ブラックマトリックス作製 70
   5.4 凹凸追従法 71
   5.5 セルフアライメント法によるブラック画像の形成 73
   (1) 黒色感光性転写材料について74
   (2) RGB画素の紫外線遮蔽性 75
   5.6 その他の特徴 76
   (1) 欠陥修正法 76
   (2) 大サイズ化が可能 77
   (3) その他の性能 77
   5.7 最後に 77
   6 次世代カラーフィルター形成法(郡 浩武,新居崎信也) 80
   6.1 はじめに 80
   6.2 カラーフィルタ・オン・アレイ法 80
   6.3 イオンプレーティング法 82
   6.4 インクジェット法 83
   6.5 レーザおよび焼き付け法 85
第3章 カラーフィルター形成用ケミカルスと色素
   1 印刷法用ケミカルス(渡邊 苞) 89
   1.1 インキの製造 89
   (1) 顔料および染料 89
   (2) ビヒクル 90
   (3)溶剤 90
   (4)その他の添加剤 91
   (5)インキの混練 91
   1.2 インキの検定 91
   (1)粘度 92
   (2)タッキネス 93
   (3)顕徴鏡観察 93
   (4)耐熱性およびガスクロマトグラフ 93
   (5)保存 94
   1.3 おわりに 94
   2 顔料分散法用ケミカルス(板野考史,飯島孝浩,根本宏明) 95
   2.1 はじめに 95
   2.2 顔料分散レジストの種類 96
   (1)アクリル系ラジカル重合型 96
   (2)水溶媒型 96
   (3)ナフトキノンジアジド(NQD)感光剤型 99
   (4)化学増幅型 100
   2.3 アクリル系ラジカル重合型顔料分散レジストの構成 100
   (1)顔料 100
   (2)バインダー樹脂 103
   (3)多価アクリル,光ラジカル発生剤 105
   (4)溶剤,各種添加剤 105
   2.3.1 BLACK レジスト 106
   2.4 今後の課題 107
第4章 ブラックマトリックス形成法とケミカルス
   1 Cr系BM形成法とケミカルス(戸田 誠) 109
   1.1 概要 109
   1.2 種類と特徴 109
   1.3 形成法 111
   1.4 Cr-BMの特性とケミカルス 113
   1.5 Cr-BMの現状の課題と将来動向 115
   1.6 まとめ 116
   2 樹脂系BM形成法とケミカルス(桜井雄三) 118
   2.1 はじめに 118
   2.2 樹脂系BMに対する要求特性 118
   2.3 ポリイミド系材料によるBM形成 119
   2.4 感光性樹脂BM材料 125
   2.5 樹脂系BM材料の今後の課題 125
   3 樹脂BM形成法(無電解めっきとケミカルス)(泉田和夫) 127
   3.1 はじめに 127
   3.2 無電解めっきによるBM形成 127
   3.2.1 BMの要求特性 127
   3.2.2 BMの分類 127
   3.2.3 プロセスの概要 129
   3.2.4 無電解NiめっきBMの特性 130
   3.3 まとめ 133
   3.4 最後に 133
   4 黒鉛BM形成法とケミカルス(千代田博宜,白髭 稔) 134
   4.1 はじめに 134
   4.2 黒鉛BMの分類と原理 134
   4.2.1 黒鉛BMの分類 134
   4.2.2 BM形成の原理 134
   4.3 黒鉛BM塗料と材料 136
   4.3.1 黒鉛BM塗料 136
   4.3.2 黒鉛BM用黒鉛微粒子 136
   4.3.3 黒鉛BM用熱硬化性樹脂 138
   4.4 黒鉛BMの形成法 138
   4.4.1 黒鉛BMリフトオフ法 138
   4.4.2 黒鉛BMエッチング法 140
   4.5 黒鉛BMの特性 142
   4.6 今後の展開 142
   4.7 まとめ 144
第5章 保護膜表成法とケミカルス (寺本武郎)
   1 概要 145
   2 市場動向 145
   3 保護膜の必要特性 147
   4 保護膜の開発状況 152
第6章 レジスト塗布法
   1 スリット&スピン方式(木瀬一夫,谷口由雄) 155
   1.1 はじめに 155
   1.2 従来塗布方式の課題と対策例 156
   1.3 塗布装置「SF-700/800」 158
   1.4 「スリット&スピン」塗布方式 158
   1.5 「スリット&スピン」方式周辺技術 159
   1.6 効果 160
   1.7 今後の展開 163
   2 エクストルージョン方式(田島高広) 164
   2.1 はじめに 164
   2.2 Fasコーターの基本原理 164
   2.3 エッジビードの評価 165
   2.4 基板の凹凸が膜厚に及ぼす影響 167
   2.5 結論 168
第7章 大型カラーフィルターへのITO成膜技術(石橋 暁)
   1 はじめに 169
   2 低抵抗ITO/CF成膜技術 170
   2.1 ITOの作製法 170
   2.2 要求特性と問題点 171
   2.3 低電圧スパッタ法 171
   2.4 低温成膜プロセス 172
   2.5 BMの補助配線効js 174
   3 低反射BM成膜技術 175
   3.1 Cr系積層型BM膜 175
   3.2 脱CrスパッタBM膜 176
   4 スパッタ装置 176
   4.1 ITO用インライン装置 176
   4.2 BM用インライン装置 177
   5 おわりに 178
第8章 大型カラーフィルタの検査システム(田辺伸一)
   1 検査システムの状況 179
   2 カラーフィルタにおける主な欠陥の種類 180
   3 検査方法について 180
   3.1 1次元ラインイメージセンサを利用した欠陥検出 180
   3.1.1 dei to dei検査 180
   3.1.2 dei to database 検査 180
   3.1.3 cell shift検査 181
   3.2 レーザ散乱による欠陥検査 182
   4 検査装置について 182
   4.1 基板サイズ 182
   4.2 透過検査(透過ヘッド) 183
   4.3 反射検査(反射ヘッド) 183
   4.4 突起検査(散乱ヘッド) 183
   4.5 欠陥検出能力 183
   4.6 検査処理時間 184
   5 カラーフィルタ製造ラインにおける検査システム 184
   6 歩留まりの向上のために 186
   7 突起欠陥修正装置について 186
   8 今後の装置の研究・開発について 187
第9章 カラーフィルターの信頼・品質評価(渡邊 苞)
   1 分光透過率 189
   2 消偏効果測定法 189
   3 耐熱性試験法 192
   4 耐光性試験法 192
   5 耐薬品性測定法 193
   6 CF表面の硬度と接着性測定法 194
   7 白ボツと黒ボツ(ピンホール) 194
   8 表面の平坦性測定法 195
   9 パターン位置精度 196
   10 おわりに 196
第10章 カラーフィルターの市場(シーエムシー編集部)
   1 カラーフィルターの市場動向 197
   (1) カラーフィルター用顔料分散レジスト 197
   (2) カラーフィルター用顔料,染料 198
   (3) ブラックマトリクス材料 198
   (4) オーバーコート剤 198
   2 メーカー動向 199
   (1) カラーフィルター 199
   (2) カラーフィルター用顔料分散レジスト 199
   (3) カラーフィルター用顔料,染料 201
   (4) ブラックマトリクス用クロムターゲット 202
   (5) ブラックマトリクス用黒色レジスト 202
   (6) カラーフィルター用オーバーコート剤 202
第11章 カラーフィルターと関連ケミカルスの特許動向
   1 カラーフィルターと関連ケミカルスの特許(1973~1994年)(シーエムシー編集部) 203
   1.1 カラーフィルター製造技術の分類 203
   1.2 画素形成技術と特許の展開 203
   (1) 染色法 204
   (2) 印刷法 209
   (3) 顔料分散法 210
   (4) 電着法 213
   (5) 着色フィルム転写法 215
   (6) ミセル電解法 217
   (7) 電子写真法 218
   (8) インクジェット法 220
   (9) 染料分散法 221
   (10) 熱転写法 223
   (11) ゾルゲル法 224
   (12) カラー銀塩写真法 226
   (13) 蒸着法 227
   (14) その他の形成法 229
   1.3 画素形成用ケミカルスと特許の展開 231
   (1) 画素組成物の技術と特許の展開 231
   (2) 画素組成物特許の企業別動向 243
   (3) 色素の技術と特許の展開 243
   (4) 色素特許の企業別動向 251
   1.4 画素以外の構成要素と特許の展開 253
   (1) ブラックマトリクス(BM)の技術 253
   (2) 保護膜 266
   1.5 企業の特許展開 277
   1.6 参考資料 284
   2 最新('94~'96年)カラーフィルター特許,主要10社の動向(吾孫子輝一郎) 286
   2.1 最新('94~'96年)カラーフィルター特許出願動向 286
   2.2 主要10社の全分野出願件数と液晶関連カラーフィルター分野出願件数の推移 294
   2.3 主要10社の94~96年の総出願件数と発明者総数および発明者リスト 299
   はじめに (渡辺順次)
第1章 総論
   1 カラーフィルタ形成法の課題(島 康裕) 1
8.

図書

東工大
目次DB

図書
東工大
目次DB
菰田卓哉著
出版情報: 東京 : 工業調査会, 2005.10  202p, 図版[3]p ; 19cm
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目次情報: 続きを見る
   はじめに 1
第1章既存のフラットパネルディスプレイを比較する
   1.フラットパネルディスプレイ市場の現状と見通し 10
   2.各種のフラットパネルディスプレイ技術の比較 14
   1液晶 16
   2PDP 19
   3有線EL 22
   4FED(SED、BSD) 26
   3.フラットパネルディスプレイの使用用途 28
   4.液晶、PDPの現状とFEDの期待値比較 33
第2章FEDとはなにか?
   1.今なぜFEDなのか? 38
   2.FEDの歴史 42
   3.FEDとブラウン管 51
   1ブラウン管の原理 52
   2FEDの原理 54
   4.FEDに使われる冷陰極電子源技術の比較 63
第3章代表的なFED電子源の解説
   1.スピント型 70
   2.SCE型 78
   3.MIM型 86
   4.カーボンナノチューブ型 90
   5.BSD型 103
   6.その他の冷陰極電子源 108
   7.FEDを構成する部材 112
第4章注目のFEDとしてのBSD技術
   1.時代の要請にこたえられるフラットディスプレイはFED 120
   2.BSDの構造と動作原理 122
   3.弾道電子伝導の証拠 126
   4.ナノ構造評価 129
   5.BSDの製法①ドライブプロセス法 131
   1レーザアブレーション法 131
   2プラズCVD法 132
   3ナノインプリント法 133
   6.BSDの製法②ウエットプロセス法 135
   1陽極酸化法によるナノ結晶シリコンの歴史 135
   2ナノ結晶シリコン作製プロセス 138
   7.BSD電子源の特性 141
   1電子放出特性 142
   2電子の直進性 143
   3ポッピングノイズのないBSD電子源 144
   4BSD電子源の放出電子の真空度依存性 145
   5BSD電子源の面内均一性 147
   6BSD電子源の耐熱特性 148
   8.BSDディスプレイの製造方法 150
   9.BSDのフラットパネルディスプレイへの応用 156
   10.BSDの課題
   11.BSDの将来展開 163
第5章これからのFED
   1.FED開発の最新動向 168
   2.FEDの実用化が遅れるわけ 173
   1もっとも困難な課題はスペーサ 174
   2FED内部の均一な高真空維持のむずかしさ 178
   3電子放出の方向制御 180
   4面内の発光均一性確保 181
   5電子源の耐熱性 182
   6ガラス基板の最適化 182
   3.FEDの将来 187
   参考文献 190
   索引 198
   はじめに 1
第1章既存のフラットパネルディスプレイを比較する
   1.フラットパネルディスプレイ市場の現状と見通し 10
9.

図書

図書
画像電子学会編
出版情報: 東京 : 東京電機大学出版局, 2008.2  xxiv, 970p ; 27cm
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10.

図書

図書
原島博監修 ; 元木紀雄, 矢野澄男共編
出版情報: 東京 : オーム社, 2000.4  xiv, 272p ; 22cm
所蔵情報: loading…
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