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東工大
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東工大
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Bernard Kress, Patrick Meyrueis著 ; 藤野誠, 駒井友紀訳
出版情報: 東京 : 丸善, 2005.3  xix, 435p ; 22cm
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序章 回折から回折光学へ
   1. はじめに 1
   2. ホイヘンス-フレネルの回折理論 5
   3. フラウンホーファー回折とフレネル回折 6
   4. ファーフィールド回折パターンの例 9
    4.1 細長いスリットの例 9
    4.2 ダブルスリットの例 11
    4.3 回折格子 13
    4.4 矩形開口のフラウンホーファー回折 14
    4.5 円形開口のフラウンホーファー回折 15
   5. まとめ 17
第1章 回折光学素子の設計とシミュレーション
   1. はじめに 19
   2. DOEの回折モデル : 理論的背景 19
    2.1 単色波の回折現象 20
    2.2 理論的見地からみた近軸領域におけるDOEの振る舞い 41
   3. 数値計算の技術 56
    3.1 スカラー理論を用いた数値計算法 56
    3.2 厳密回折理論を用いた数値計算 64
   4. DOEの設計と最適化技術 70
    4.1 解析型回折素子 72
    4.2 数値型回折素子(numerical-type diffractive element) 84
    4.3 多機能DOE:記述と分類(multifunctional DOE : description and classification) 112
    4.4 符号化技術(encoding techniques) 114
   5. DOEの設計モデルと数値計算技術 134
    5.1 解析型DOEの設計モデルとシミュレーション技術 134
    5.2 数値型DOEのモデル化とシミュレーション技術 139
    5.3 ビーム伝搬法(beam propagation methods:BPM)を用いたモデル化技術 139
   6. 文献 142
第2章 DOEの作製と複製技術
   1. はじめに 147
   2. 卓上DOE作製技術 148
    2.1 光縮小技術(photoreduction technique) 148
    2.2 高分解能直接印刷(direct high-resolution printing) 149
   3. ダイヤモンド機械装置(diamond machine tools) 150
   4. 動的なデバイス(dynamical devices) 151
    4.1 再形成可能なDOE 152
    4.2 スイッチング可能なDOE 155
   5. マイクロリソグラフィ作製技術(microlithographic fabrication technology) 156
    5.1 マスクパターン作製装置 158
    5.2 フォトリソグラフィック変換 161
    5.3 パターンエッチング 164
    5.4 深露光のリソグラフィ 165
    5.5 材料直接除去法(direct material ablation tools) 168
   6. マイクロリソグラフィによる作製技術 171
    6.1 光の干渉 171
    6.2 従来型マスクアライメント 173
    6.3 グレートーンマスキング 174
    6.4 直接描画法(direct write methods) 180
    6.5 イオン交換技術(ion exchange techniques) 184
    6.6 LIGAプロセス 185
   7. 複製技術(replication techniques) 185
    7.1 刻みと繰り返しの利用(ステッパー) 186
    7.2 プラスチックエンボス工程(plastic embossing process) 186
    7.3 モールド工程(moulding process) 186
    7.4 ゾル・ゲル工程 188
    7.5 ホログラム記録工程(holographic recording process) 190
   8. DOEの設計と作製のまとめ 191
   9. 文献 194
第3章 回折光学素子用のCADとCAMのツール
   1. はじめに 197
   2. CAD設計技術 198
    2.1 CGHの一般的な設計アルゴリズム 198
    2.2 最適符号化方法 210
    2.3 CADシミュレーション技術 214
    2.4 FFTに基づいた再生のダイナミックレンジの増加 225
   3. CAD,CAMツールにおける高レベルのDOE操作 232
    3.1 空間多重化 233
    3.2 DOEのデータ変調 234
    3.3 複素型DOEデータの多重化 237
    3.4 繰り返しDOEデータ多重化 240
   4. 関連する許容量 : 設計ルールの確認 245
   5. 文献 247
第4章 回折光学素子の作製許容値解析
   1. はじめに 249
   2. 最適なマイクロリソグラフィ作製法 249
    2.1 基礎的な要求事項 250
    2.2 実証研究 251
   3. 作製上の制約条件の分析とモデリング 264
    3.1 電子ビーム近接効果 264
    3.2 光近接効果 274
    3.3 異方的エッチング 278
    3.4 他の系統的な作製誤差 284
   4. 作製許容値解析 286
   5. 作製上の系統的誤差の補償方法 291
    5.1 作製上のシステム誤差の補償法 292
    5.2 作製誤差に対するDOEの感度低減法 311
   6. 文献 316
第5章 DOEマスクレイアウトの作製
   1. はじめに 319
   2. 標準的な作製ファイルフォーマット 320
    2.1 高いレベルのフォーマット 320
    2.2 中間レベルのフォーマット 321
    2.3 ソース言語 321
    2.4 低いレベルのフォーマット 322
   3. DOEデータの細分化技術 325
    3.1 解析型DOEの細分化 326
    3.2 数値型DOEの細分化 341
    3.3 DOEデータ細分化の影響のシミュレーション 346
    3.4 細分化済パターンの最終フォーマット 349
    3.5 レクチルレイアウトの配置とウェハへのステッピング 352
第6章 システムヘの適用を重視したDOE設計例
   1. はじめに 357
   2. ハイブリッド光学システム 360
    2.1 回折/屈折の分割について 361
    2.2 ハイブリッドシステム用のシミュレーション技術 363
   3. ハイブリッドレンズのその他の特性 373
    3.1 浅くブレーズされた回折溝 374
    3.2 深くブレーズした回折溝 376
    3.3 バイナリ回折溝 379
    3.4 多重化回折溝 379
   4. オプトエレクトロニクス・システム 379
    4.1 0Eの切り分けについて 383
    4.2 例1 : MCM用の光クロック分配 384
    4.3 例2 : 自由空間光インターコネクション 397
    4.4 例3 : OEパッケージングをめぐる設計の補填 404
   5. オプトメカニカル・システム 411
    5.1 オプトメカニカルの分割問題 411
    5.2 例1 : 回折合成開口ズーム 411
    5.3 例2 : 微小流体・システム 416
    5.4 例3 : 高解像度ライダー信号分析マイクロシステム 419
   6. まとめ 420
   7. 文献 422
索引 427
序章 回折から回折光学へ
   1. はじめに 1
   2. ホイヘンス-フレネルの回折理論 5
2.

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竹内淳著
出版情報: 東京 : 講談社, 2016.5  270p ; 18cm
シリーズ名: ブルーバックス ; B-1970
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第1章 : 光の性質
第2章 : 凸レンズと実像の関係
第3章 : カメラと目
第4章 : なぜ拡大できるのか—虫メガネ、望遠鏡、顕微鏡
第5章 : 近軸近似と光線追跡
第6章 : 波としての光—波長、屈折率、光路長(アイコナール)の関係
第7章 : 単色収差
第8章 : 色収差
第9章 : 回折と分解能
第1章 : 光の性質
第2章 : 凸レンズと実像の関係
第3章 : カメラと目
概要: 私たちの周りには「光」が満ち溢れています。その光によって周りの世界を見ることができます。レンズを使ったさまざまな光学機器の発明により、見ることのできる世界は、はてしなく広がりました。本書は、「光の性質」「凸レンズと実像の関係」「カメラと目」 「虫メガネ、望遠鏡、顕微鏡」「近軸近似と光線追跡」「波としての光」「単色収差」「色収差」「回折と分解能」と、現代光学の知識を着実にマスターしていきます。 続きを見る
3.

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東工大
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渋谷眞人, 大木裕史著
出版情報: 東京 : 朝倉書店, 2005.11  vi, 226p ; 22cm
シリーズ名: 光学ライブラリー ; 1
所蔵情報: loading…
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1. 回折の基礎 1
    1.1 波動の表記法 2
    1.2 回折積分と点像分布 3
    1.2.1 フランホーファー回折と焦点面の分布 4
    1.2.2 光学系で生成された球面収束波からの回折による点像分布 9
    1.3 キルヒホッフ回折積分とスカラー結像理論 14
    1.3.1 キルヒホッフ回折積分 14
    1.3.2 平面波展開による回折の表現 17
    1.3.3 平面波展開とスカラー結像理論 20
2.スカラー回折理論における結像 25
    2.1 アッベの結像理論と正弦条件 26
    2.1.1 アッベの結像理論 26
    2.1.2 アッベの正弦条件 28
    2.1.3 軸外物点のアイソプラナチック条件 32
    2.1.4 Herchelの条件 33
    2.2 コヒーレント結像 35
    2.2.1 垂直入射照明の場合 35
    2.2.2 斜め照明の場合 40
    2.2.3 軸外物点の場合 42
    2.3 部分コヒーレント結像 43
    2.3.1 インコヒーレント光源と準単色光 43
    2.3.2 van Cittert-Zernikeの定理 45
    2.3.3 平面波の伝搬に基づく部分コヒーレント結像の式 47
    2.3.4 相互強度に基づいた結像の式 51
    2.4 インコヒーレント結像 51
    2.4.1 インコヒーレント結像とOTF 51
    2.4.2 インフォメーションボリューム 55
    2.5 臨界照明とケーラー照明,照明系に要求される収差 57
    2.5.1 臨界照明とケーラー照明 57
    2.5.2 照明のアイソプラナチック条件 60
    2.6 光源のコヒーレンス 61
    2.7 フレネルナンバー 64
    2.8 EPSF 68
    2.8.1 EPSFの導入と結像公式の導出 69
    2.8.2 位相差顕微鏡の像再生 71
    2.9 走査型結像光学系 73
    2.9.1 タイプⅠ 75
    2.9.2 タイプⅡ 78
    2.10 像のサンプリング 84
3. 収差の考慮 89
    3.1 波面収差 89
    3.2 波面収差の計算方法 90
    3.2.1 光路長計算による方法 90
    3.2.2 横収差から求める方法 93
    3.3 Zernike多項式による波面収差の表現法 94
    3.4 波面収差の計測方法 103
    3.4.1 波面収差の計測方法 103
    3.4.2 シャック―ハルトマン法による方法 105
    3.4.3 位相回復による方法 106
    3.4.4 格子像を用いる方法 107
    3.5 偏光特性を考慮した結像 108
4. ベクトル回折理論における結像 112
    4.1 スカラー回折理論の限界 112
    4.2 物体面におけるベクトル回折 116
    4.3 像面におけるベクトル回折 121
    4.4 レーザー走査光学系におけるベクトル回折理論を用いた結像 131
    4.5 ベクトル回折理論における補正 133
    4.6 スカラー回折理論における補正 139
5. 光学的超解像 144
    5.1 超解像の定義と分類 144
    5.2 コントラスト向上技術 146
    5.2.1 斜入射照明法 146
    5.2.2 位相シフトマスク 149
    5.2.3 光ディスクの分野でのコントラスト向上技術 151
    5.3 共焦点走査光学系 152
    5.4 近接場光の応用 156
    5.5 物体の非線形応答を用いた超解像 161
    5.6 光の量子的な性質を用いた超解像技術 164
   付録 171
    A.光波の記述法 171
    B.スカラー結像理論におけるインクリネーションファクターの整合性 172
    B.1 相反定理と点像分布の相似性 172
    B.2 物像の対称性(相似性)とインクリネーションファクター 173
    B.3 平面波展開におけるインクリネーションファクター 175
    B.4 フレネル回折とインクリネーションファクター 176
    C.fsinθレンズ 179
    D.微小光束の関係式 181
    E.輝度不変の法則 183
    E.1 輝度不変の法則 183
    E.2 cos4θ則 186
    E.3 照度と開口数 187
    F.フーリエ変換の諸性質 188
    F.1 ガウス分布のフーリエ変換 188
    F.2 フーリエ変換の合成積の定理 189
    F.3 デルタ関数のフーリエ変換表示 190
    F.4 comb関数のフーリエ変換 191
    G.幾何光学的OTF 192
    H.ガウスビームの伝搬公式 195
    I.点像強度と波面収差二乗平均 199
    J.デフォーカス収差関数の導出と焦点深度 200
    K.物体と像面の位置が移動したときの収差 203
    L.薄膜の収差 205
    M.RCW法による厳密な回折計算 207
    N.FDTD法による厳密な回折計算 211
    O.ベクトル回折による結像計算の具体例 215
    P.3次元結像 218
    Q.量子計数確率 221
   索引 223
1. 回折の基礎 1
    1.1 波動の表記法 2
    1.2 回折積分と点像分布 3
4.

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小舘香椎子, 神谷武志監修
出版情報: 東京 : 丸善出版, 2011.12  viii, 260p, 図版1枚 ; 21cm
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5.

図書

東工大
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日本化学会編
出版情報: 東京 : 丸善, 2006.5  xvi, 496p ; 22cm
シリーズ名: 実験化学講座 / 日本化学会編 ; 11 . 物質の構造||ブッシツ ノ コウゾウ ; 3
所蔵情報: loading…
目次情報: 続きを見る
1.1散乱と回折を表記する基本パラメータ 1
   1.2X線,電子線,中性子線 4
2.1X線の発生法 7
   2.1.1はじめに 7
   2.1.2X線発生装置 7
   2.1.3シンクロトロン放射 13
   2.1.4新しいX線光源 17
   2.2X線検出器 18
   2.2.1はじめに 18
   2.2.2光子計数型検出器 20
   2.2.3種々の光子計数型X線検出器 25
   2.2.4写真フィルム 32
   2.2.5イメージングプーレト 32
   2.2.6半導体イメージセンサ 36
3.1構造解析をどのように進めるか 39
   3.1.1結晶によるX線回折 39
   3.1.2結晶の対称性 45
   3.1.3解析の手順 52
   3.2結晶試料の作製 57
   3.2.1X線結晶構造解析に必要な結晶試料 57
   3.2.2いろいろな結晶作製法 58
   3.2.3溶液からの結晶作製 58
   3.2.4化学反応を利用した結晶作製 59
   3.2.5結晶作製を行ううえでの一般的な注意 62
   3.2.6結晶化が困難な場合の対処法 62
   3.3回折装置 63
   3.3.1イメージングプレート(IP)を検出器とする回折装置 63
   3.3.24軸回折計 71
   3.3.3CCDを検出器とする回折装置 72
   3.4特殊条件下での単結晶構造解析 80
   3.4.1温度条件 80
   3.4.2圧力条件 86
   3.4.3光照射下の実験 87
   3.4.4特殊なガス雰囲気での実験の例 91
   3.4.5極微小結晶・極微小領域の単結晶構造解析 92
   3.4.6異常散乱を利用した構造解析 93
   3.4.7強電場下での構造解析 95
   3.5構造の決定 97
   3.5.1解析の前準備 97
   3.5.2空間群の決定 100
   3.5.3直接法 105
   3.5.4パターソン法 124
   3.6結晶構造の精密化 133
   3.6.1最小二乗法による構造精密化 133
   3.6.2関連した話題 136
   3.6.3絶対構造パラメータ 142
   3.6.4双晶構造の精密化 144
   3.6.5消衰効果のパラメータ 144
   3.6.6精密構造解析 145
   3.6.7最小二乗法の算法 145
   3.6.8算法に関連する話題 148
   3.6.9おわりに 149
   3.6.10乱れた構造の例 149
   3.7結果の評価とまとめ方 152
   3.7.1解析結果の診断 153
   3.7.2原子配置 157
   3.7.3温度因子 160
   3.7.4結果のまとめ方 163
   3.8データベースの利用 166
   3.8.1結晶構造データベースとは 166
   3.8.2おもな結晶構造データベース 166
   3.8.3CSDの構成と機能 168
   3.8.4Mogul 173
4.1はじめに 175
   4.2粉末X線回折装置 178
   4.2.1焦点 179
   4.2.2ソーラスリット 179
   4.2.3発散スリット 180
   4.2.4散乱スリット 181
   4.2.5受光スリット 182
   4.2.6結晶モノクロメータ 182
   4.3回折強度の精密測定 182
   4.4リートベルト法 183
   4.4.1リートベルト法の原理 183
   4.4.2リートベルト法の存在意義 187
   4.4.3選択配向の補正 187
   4.4.4プロファイル関数 188
   4.4.5プロファイル関数の非対称化 190
   4.4.6部分プロファイル緩和の技法 191
   4.4.7リートベルト解析結果の評価 192
   4.4.8リートベルト解析の手順 195
   4.4.9粉末回折データヘの情報の追加 198
   4.4.10リートベルト法の定量分析への応用 199
   4.5パターン分解 200
   4.5.1個別プロファイルフィッティング 200
   4.5.2全回折パターンフィッティングの特徴 201
   4.5.3Pawley法 202
   4.5.4LeBail法 204
   4.5.5部分構造を導入したLeBail解析 207
   4.5.6全回折パターンフィッティングの用途と弱点 207
   4.6最大エントロピー法による電子・原子核密度の決定 208
   4.6.1MEMの原理 208
   4.6.2MEMの特徴 210
   4.6.3MEM解析用ソフトウェア 211
   4.6.4回折データにMEMを適用する際の注意点 212
   4.6.5MEMによる構造精密化の手順 213
   4.6.6第一近似にもとづく電子・原子核密度のイメージング-MEM/リートベルト法- 214
   4.6.7MEM-w.p.f.の反復による密度分布の最適化-MPF法- 216
   4.7非経験的構造解析 217
   4.7.1非経験的構造解析の概要 217
   4.7.2パターソン関数の利用によるパターン分解の高度化 220
   4.7.3粉末回折専用直接法プログラムSIRPOW 223
   4.7.4モンテカルロ法 224
   4.7.5シミュレーティッドアニーリング 225
   4.7.6遺伝的アルゴリズム法 226
5.1構造解析をどのように進めるか 231
   5.2結晶化とX線回折実験 234
   5.2.1結晶化法 234
   5.2.2位相決定のための結晶調製 241
   5.2.3回折強度測定 246
   5.3構造解析(位相決定)法 252
   5.3.1重原子同形置換法 253
   5.3.2多波長異常分散法(MAD法) 256
   5.3.3分子置換法 258
   5.3.4位相の精密化(重原子パラメータの精密化) 260
   5.4分子モデルの構築 260
   5.4.1初期位相の改良 261
   5.4.2位相改良の実際 265
   5.4.3電子密度の解釈とモデルの構築 266
   5.5結晶構造の精密化 267
   5.5.1精密化の原理と方法 268
   5.5.2精密化のプログラム 270
   5.6横造の解釈 273
   5.6.1モデルの正しさと解析の精度 273
   5.6.2構造の表現 275
   5.6.3類似構造の検索 277
6.1液体・溶液からの散乱と動径分布関数 279
   6.1.1はじめに 279
   6.1.2非晶質物質の散乱パターン 279
   6.1.3二体分布関数と動径分布関数 281
   6.1.4非晶質物質のX線回折実験の概観 283
   6.1.5角度分散法によるX線回折実験と解析-イメージングプレートを検出器とした場合- 286
   6.1.6エネルギー分散法によるX線回折実験と解析 289
   6.1.7フーリエ変換と動径分布関数 293
   6.2X線異常散乱 297
   6.2.1はじめに 297
   6.2.2X線異常散乱の原理 299
   6.2.3X線異常散乱実験の概要 300
   6.2.4X線異常散乱を用いた構造解析への応用例 303
   6.2.5今後の課題 309
7.1X線小角散乱装置 311
   7.1.1小角散乱装置の概要 311
   7.1.2非収束カメラと光学系 312
   7.1.3収束光学系と収束素子 316
   7.1.4小角・中角散乱測定用収束カメラ 319
   7.1.5その他のおもなコンポーネント 320
   7.1.6シンクロトロン放射光を利用した小角散乱装置 322
   7.2小角散乱の一般論 323
   7.2.1小角散乱の基礎概念 324
   7.2.2球状粒子からの散乱 326
   7.2.3大きさの決定-Guinierの解析- 327
   7.2.4各形状の粒子散乱因子 328
   7.2.5異方性粒子の解析 328
   7.2.6相互作用系,高次構造 330
   7.2.7コロイド会合体と質量フラクタル 333
   7.2.8界面構造 333
   7.2.9SANSの特徴とコントラスト変化法 334
   7.3高分子,コロイド,ミセルヘの応用 338
   7.3.1高分子溶液 338
   7.3.2高分子薄膜,繊維 341
   7.3.3ミセル溶液 342
   7.3.4コロイド分散液 343
   7.4生体高分子のX線回折-円筒対称パターソン関数- 345
   7.4.1はじめに 345
   7.4.2円筒対称パターソン関数 346
   7.4.3Q(r,z)の応用 351
   7.4.4△Q(r,z)の応用 353
   7.4.5らせん生体高分子のX線回折強度 358
   7.5ゆらぎと小角散乱 360
   7.5.1はじめに 360
   7.5.2分子分布の不均一度-密度ゆらぎ- 361
   7.5.3溶液の混ざり具合-濃度ゆらぎ- 365
   7.5.4Kirkwood-Buffのパラメータ 368
   7.5.5実験上の留意点と解析例 369
8.1中性子の発生と性質 373
   8.1.1原子炉からの中性子 373
   8.1.2加速器を使用したパルス中性子 378
   8.1.3中性子散乱で必要な原理と物理定数 380
   8.1.4中性子の散乱振幅と散乱断面積 382
   8.1.5中性子の実験を行いたい人のために 386
   8.2単結晶中性子回折による結晶構造解析 387
   8.2.1必要な結晶の大きさと水素の問題 388
   8.2.2中性子4軸回折装置の特徴 390
   8.2.3構造解析の例 392
   8.3磁気構造の決定 402
   8.3.1磁気構造の種類 402
   8.3.2中性子磁気散乱の構造因子 405
   8.3.3磁気構造と反射の関係 410
   8.3.4実際の実験例-希土類化合物TmB2C2を例として- 411
9.1電子回折 421
   9.1.1はじめに 421
   9.1.2逆格子と電子回折図形 423
   9.1.3運動学回折理論 430
   9.1.4動力学回折理論 435
   9.1.5収束電子回折(CBED)法 445
   9.2電子顕微鏡 452
   9.2.1はじめに 452
   9.2.2TEMの基本構成 453
   9.2.3TEM観察の基本原理 454
   9.2.4結晶構造像の基本原理 458
   9.2.5結晶構造像撮影の具体的手順 462
   9.2.6結晶構造像撮影のポイントとノウハウ 463
   9.2.7TEM観察のための試料研磨手法 465
   9.2.8最近の新技術 469
   9.2.9おわりに 471
10.1微小結晶構造解析 473
   10.1.1はじめに 473
   10.1.2白色ラウエ法 474
   10.1.3構造精密化の手順 475
   10.1.4今後の展開 476
   10.2表面X線回折 477
   10.2.1はじめに 477
   10.2.2表面構造の表記法 477
   10.2.3表面X線回折法 478
   10.2.4おわりに 483
   索引 485
1.1散乱と回折を表記する基本パラメータ 1
   1.2X線,電子線,中性子線 4
2.1X線の発生法 7
6.

図書

図書
飯島孝夫, 大橋裕二編
出版情報: 東京 : 丸善, 1992.3  xvi, 559p ; 22cm
シリーズ名: 実験化学講座 / 日本化学会編 ; 10
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7.

図書

図書
加藤範夫著
出版情報: 東京 : 朝倉書店, 1978.3  ii, viii, 321p ; 22cm
シリーズ名: 物性物理学シリーズ ; 6
所蔵情報: loading…
8.

図書

図書
平林真編集
出版情報: 東京 : 丸善, 1981.1  xi, 396p ; 22cm
シリーズ名: 金属物性基礎講座 / 日本金属学会編 ; 3
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目次情報: 続きを見る
序論 : 結晶と回折・X線回折による結晶構造解析 / 平林真著
合金結晶によるX線の回折と散乱・結晶の乱れ,非晶質,液体のX線回折 / 岩崎博著
電子線回折の理論と応用・超高圧電子顕微鏡と電子線回折 / 渡辺伝次郎著
結晶表面の電子線回折 / 井野正三著
中性子回折の応用 / 平林真著
序論 : 結晶と回折・X線回折による結晶構造解析 / 平林真著
合金結晶によるX線の回折と散乱・結晶の乱れ,非晶質,液体のX線回折 / 岩崎博著
電子線回折の理論と応用・超高圧電子顕微鏡と電子線回折 / 渡辺伝次郎著
9.

図書

図書
白井宏著
出版情報: 東京 : コロナ社, 2015.4  vi, 199p ; 21cm
所蔵情報: loading…
目次情報: 続きを見る
1 序論
2 漸近展開
3 幾何光学 / GO
4 物理光学 / PO
5 幾何光学的回折理論 / エッジ回折
6 幾何光学的回折理論 / 表面回折
7 GTDの問題点とその拡張
8 : GTDの応用例
1 序論
2 漸近展開
3 幾何光学 / GO
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