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1.

図書

図書
[電気学会電気工学ハンドブック改版委員会編]
出版情報: 東京 : 電気学会, 1988.2  2174p ; 27cm
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2.

図書

図書
文部省, 電気学会 [編]
出版情報: 東京 : 電気学会 , 東京 : コロナ社 (発売), 1991.7  9, 1097p ; 19cm
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3.

図書

図書
電気学会編
出版情報: 東京 : 電気学会 , 東京 : コロナ社 (発売), 1963.10  2, 2, 7, 1351p ; 27cm
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4.

図書

東工大
目次DB

図書
東工大
目次DB
電気学会・プラズマイオン高度利用プロセス調査専門委員会編
出版情報: 東京 : オーム社, 2005.10  xi, 279p ; 22cm
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1章はじめに 1
2章プラズマの基礎 5
   2.1ドライプロセスの工具としてのプラズマの特徴 5
   2.2プラズマの定義とその基本的性質 7
   2.2.1プラズマの定義 7
   2.2.2プラズマを特徴づけるパラメータ 9
   2.2.3電磁界中での荷電粒子の運動 13
   2.2.4集団現象 18
   2.3プラズマ中の粒子衝突過程 22
   2.3.1ボーアの原子模型と軌道電子のエネルギー準位 22
   2.3.2剛体球同士の衝突 23
   2.3.3イオンの衝突断面積 25
   2.3.4さまざまな衝突過程 27
   2.3.5クーロン衝突 31
   2.4プラズマを記述する基礎方程式 34
   2.4.1流体モデル 34
   2.4.2運動論の基礎 37
   2.5プラズマの輸送 39
   2.5.1電界による移動 39
   2.5.2衝突拡散 40
   2.5.3両極性拡散 41
   2.5.4磁界の拡散抑制効果 42
   参考文献 42
3章イオンシースの基礎 45
   3.1ボーム基準とプレシース 45
   3.2プラズマと基材との境界層 49
   3.2.1イオンシースの形成条件 49
   3.2.2定常チャイルド則シース 53
   3.3マトリクスシースとチャイルド則一次元イオンシース 55
   3.4基材に流れる電流とイオン電流 57
   3.4.1単一イオン種を含むイオン電流 57
   3.4.2多成分イオン種を含むイオン電流 59
   3.5イオンシースに対するいろいろな効果 60
   3.5.1中性粒子との衝突 60
   3.5.2磁界 62
   3.5.3絶縁物 63
   参考文献 65
4章プラズマイオンプロセスにおけるプラズマの条件 67
   4.1三次元形状物とプラズマに要求される条件 67
   4.1.1粒子のバランス式と密度のスケール則 67
   4.1.2プラズマ密度の非一様性 70
   4.2プラズマイオンプロセスとプラズマ特性の表現 73
   4.3イオンシースの過渡的現象 76
   4.3.1電圧パルスに対するシースの応答 77
   4.3.2イオン密度の時間応答 79
   4.3.3RF電圧に対するイオンシースの応答 80
   4.3.4RF印加時の反応容器の影響 81
   4.4イオン注入とスパッタリング 83
   4.4.1イオンのエネルギー損失 83
   4.4.2イオン注入 87
   4.4.3スパッタリング 89
   4.4.4付着 91
   参考文献 93
5章プラズマ源 95
   5.1気体プラズマ源 95
   5.1.1定常プラズマと過渡プラズマ 96
   5.1.2定常プラズマ生成法 99
   5.1.3電子の加速と捕捉 100
   5.1.4パルスグロー放電と複合プラズマ源 129
   5.2金属プラズマ源 131
   5.2.1背景 131
   5.2.2金属プラズマの発生 131
   5.2.3陰極アーク 132
   5.2.4マクロパーティクルの除去 138
   5.2.5いろいろなプラズマ源 141
   5.2.6金属イオン源 147
   参考文献 148
6章プラズマ計測 153
   6.1プラズマモニタリングとは 153
   6.2何を計測するか 154
   6.3代表的なプラズマ計測法 155
   6.3.1静電プローブ 155
   6.3.2プラズマ吸収プローブ 160
   6.3.3質量分析装置 167
   6.4処理基材およびその周辺部の計測 170
   6.4.1シースの挙動 170
   6.4.2シース挙動の実測例 172
   6.4.3イオンドーズ量と二次電子放出係数 174
   参考文献 176
7章モデリング 179
   7.1プラズマ表面相互作用 179
   7.2PIC/MCCシミュレーション 181
   7.3分子動力学シミュレーション 185
   参考文献 191
8章機能性薄膜の生成 193
   8.1PBII&D法による薄膜生成 193
   8.2高エネルギーイオンによる表面改質 195
   8.3低エネルギー深部注入 197
   8.4金属イオン種による堆積・イオン注入システム 201
   8.4.1背景 201
   8.4.2MEVVAによる改質 203
   8.4.3金属プラズマ源を用いたPBII&D法 204
   8.5DLC膜の生成 211
   8.5.1背景 211
   8.5.2パルスグローによるDLC成膜 212
   8.5.3シャンティングアークによるDLC成膜 213
   8.5.4いろいろな応用 216
   8.6円筒材への注入・堆積 218
   8.6.1パイプへの注入・堆積 218
   8.6.2ペットボトルの表面改質 220
   8.7医療への応用 225
   8.8滅菌 227
   8.8.1医療現場の滅菌 227
   8.8.2PBII法を用いた滅菌プロセス装置および滅菌方法 227
   8.8.3滅菌結果 228
   8.8.4表面状態の変化 230
   参考文献 231
9章半導体への応用 239
   9.1背景 239
   9.2極浅接合の形成 241
   9.2.1PBII法による極浅接合 241
   9.2.2BF3/SiF4によるPBII法 243
   9.2.3水素化物を用いるドーピング 246
   9.3フラットディスプレイパネル 247
   9.4SOIの形成 249
   9.4.1SOIについて 250
   9.4.2SPIMOX 250
   9.4.3SPIMOXスマートカットTM/イオンカット 253
   9.4.4SOI材料 256
   9.5水素注入シリコンの光学的特性 261
   9.6直流によるPBII法と半導体応用 266
   参考文献 269
   索引 275
1章はじめに 1
2章プラズマの基礎 5
   2.1ドライプロセスの工具としてのプラズマの特徴 5
5.

図書

図書
電気学会
出版情報: 東京 : 電気学会 , 東京 : オーム社 (発売), 2001.2  xviii, 2290p ; 27cm
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6.

図書

図書
電気学会放電ハンドブック出版委員会編
出版情報: 東京 : 電気学会, 1974  4, 14, 634, 6, 12p ; 22cm
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7.

図書

図書
電気学会編
出版情報: 東京 : オーム社, 1991.6  x, 201p ; 22cm
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8.

図書

図書
電気学会通信教育会 [編]
出版情報: 東京 : 電気学会 , 東京 : オーム社 (発売), 1987.11  xii, 212p ; 22cm
シリーズ名: 電気学会大学講座 / 電気学会編
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9.

図書

図書
長谷川淳 [ほか著]
出版情報: 東京 : 電気学会 , 東京 : オーム社 (発売), 2002.3  xii, 160p ; 21cm
シリーズ名: 電気学会大学講座 / 電気学会編
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