第1章 材料電磁プロセッシングの世界 |
1.1 材料電磁プロセッシング誕生の歴史 1 |
1.2 電磁力利用技術 2 |
1.2.1 コールド・クルーシブル |
1.2.2 介在物の分離・除去 |
1.2.3 複層鋳片 |
1.3 強磁場にかかわる新現象 11 |
1.3.1 電析の形態制御 |
1.3.2 磁化力利用の可能性 |
第2章 電磁気学 |
2.1 電磁場基本方程式(マクスウェルの方程式) 17 |
2.2 磁場の拡散 18 |
2.3 電磁力(ローレンツカ) 21 |
2.4 フラットリニアインダクションポンプ(FLIP)の動作解析 23 |
第3章 移動速度論 |
3.1 移動速度論の基礎 27 |
3.1.1 流束の式 |
3.1.2 界面における移動現象 |
3.2 次元解析と無次元数 30 |
3.3 収支式 35 |
3.3.1 収支式の基礎 |
3.3.2 連続の式とナビエ・ストークスの式 |
3.3.3 収支式のベクトル表示と座標変換 |
3.4 相変化を伴う移動現象 39 |
第4章 電磁流体力学 |
4.1 MHD流れの基礎方程式と境界条件 43 |
4.1.1 基礎方程式 |
4.1.2 境界条件 |
4.2 磁場が流れに及ぼす影響 47 |
4.2.1 ハルトマン流れ |
4.2.2 乱れの抑制効果 |
4.3 基礎方程式による定性的考察 52 |
4.3.1 磁場分布 |
4.3.2 電流分布 |
4.3.3 電磁力 |
4.4 MHD流れにおける相似則 58 |
4.5 Wm2≪Rm≪1の流れにおける近似解析 61 |
第5章 数値シミュレーション |
5.1 Couette流れ 67 |
5.2 解析的方法 67 |
5.3 数値解による方法 69 |
5.3.1 差分化 |
5.3.2 陽解法と陰解法 |
5.3.3 解法 |
5.4 流体の数値解析 72 |
5.4.1 流体解析の困難さ |
5.4.2 流体解析手法 |
5.5 電磁場の解析手法 76 |
5.5.1 支配方程式 |
5.5.2 A-φ法 |
第6章 材料電磁プロセッシングの適用例 |
6.1 形状制御機能 79 |
6.1.1 高周波磁場による方法 |
6.1.2 直流磁場による方法 |
6.2 駆動機能 85 |
6.3 流動抑制機能 87 |
6.4 浮揚機能 88 |
6.4.1 高周波磁場による方法 |
6.4.2 直流磁場による方法 |
6.5 飛散機能 90 |
6.6 昇温機能 90 |
6.7 検知機能 91 |
6.8 精錬機能 92 |
6.9 凝固組織の制御 93 |
付録 |
A1. ベクトル演算 95 |
A1.1 座標系 |
A1.2 線形演算 |
A1.3 内積と外積 |
A1.4 ベクトルの微分 |
A1.5 ベクトルの積分 |
A1.6 積分定理 |
A2. ラプラス変換 107 |
索引 111 |