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1.

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1. マイクロ波半導体回路 : 基礎と展開
本城和彦著 ; 小西良弘監修
出版情報: 東京 : 日刊工業新聞社, 1993.9  vii, 218, vi p ; 21cm
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序文 i
第1章 マイクロ波装置における能動素子回路 1
第2章 電界効果トランジスタ(FET) 7
   2.1 GaAs FET(Field Effect Transistor) 7
   2.1.1 動作原理と構造 7
   2.1.2 等価回路モデル 15
   2.2 2次元電子ガスによるFETの高性能化 19
第3章 バイポーラトランジスタ-FETとの比較において- 31
   3.1 バイポーラトランジスタの動作原理-ヘテロ接合の導入 31
   3.1.1 電流利得 31
   3.1.2 高周波特性 35
   3.1.3 電子走行時間 38
   3.1.4 大信号等価回路モデル 43
   3.2 バイポーラトランジスタの構造 47
   3.3 バイポーラトランジスタと電界効果トランジスタとの比較 54
   3.3.1 雑音特性の比較 54
   3.3.2 電力駆動特性の比較 57
   3.3.3 直流投入電力密度 58
   3.3.4 ひずみ特性 60
   3.3.5 しきい電圧 62
   3.3.6 総合比較 64
第4章 トランジスタの超高周波動作と電力利得 69
   4.1 普遍量としての電力利得 69
   4.2 負荷に最大の電力を供給するには 71
   4.3 増幅器の電力利得を最大にする 73
   4.4 電力利得の計算 79
   4.5 安定性の判別 82
   4.6 能動素子の普遍的パラメータの追求 86
   4.7 最大発振周波数 f maxの定義 89
   4.8 f max,fr の測定 91
第5章 増幅器の低雑音化 95
   5.1 雑音の発生源 95
   5.2 雑音指数と位相雑音 102
   5.3 雑音指数の一般的表現 103
   5.4 雑音指数の測定 110
   5.5 低雑音増幅器 113
第6章 増幅器の高出力化 121
   6.1 高出力増幅回路の一般的取扱い 121
   6.2 高出力増幅器の高効率化 126
   6.3 ひずみ特性 133
   6.4 高出力増幅器の構成 138
   6.5 寄生発振の防止 141
第7章 増幅器の広帯域化 145
   7.1 広帯域回路の原形 145
   7.2 負帰還による増幅器の広帯域化 148
   7.3 R-C 基本回路とインピーダンス整合回路の両立 155
   7.4 分布型構成による広帯域化 160
第8章 発振器 165
   8.1 発振器の基本構成 165
   8.2 発振器の位相雑音 170
   8.3 位相雑音の低減 174
   8.3.1 誘電体共振回路による周波数安定化 174
   8.3.2 位相同期回路 176
   8.3.3 注入同期 178
第9章 ミクサ(混合器) 183
   9.1 ダイオードミクサ 183
   9.1.1 ダイオードミクサの原理 183
   9.1.2 ダイオードミクサの構成 195
   9.2 トランジスタミクサ 197
   9.2.1 トランジスタミクサの動作原理 197
   9.2.2 トランジスタミクサの雑音指数 202
   9.2.3 トランジスタミクサの構成例 204
章末問題の解答 207
付録 211
索引
序文 i
第1章 マイクロ波装置における能動素子回路 1
第2章 電界効果トランジスタ(FET) 7
2.

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2. 要求定義工学プラクティスガイド
Ian Sommerville, Pete Sawyer著 ; 富野壽監訳
出版情報: 東京 : 構造計画研究所 , 東京 : 共立出版 (発売), 2000.2  ix, 333p ; 21cm
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第1章 はじめに 1
第2章 実践的プロセス改善 14
第3章 要求定義文書 33
第4章 要求の導出 57
第5章 要求の分析および折衝 98
第6章 要求の記述 123
第7章 システムモデリング 140
第8章 要求の確認 163
第9章 要求の管理 187
第10章 クリティカルシステムについての要求定義工学 217
第11章 構造化手法によるシステムモデリング 255
第12章 形式的仕様記述 281
第13章 視点(ビューポイント) 305
索引 331
第1章 はじめに 1
第2章 実践的プロセス改善 14
第3章 要求定義文書 33
3.

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3. 光集積デバイス
小林功郎著
出版情報: 東京 : 共立出版, 1999.7  x, 212p ; 22cm
シリーズ名: 先端光エレクトロニクスシリーズ / 伊賀健一, 池上徹彦, 荒川泰彦編集委員 ; 8
所蔵情報: loading…
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第1章 光集積の考え方 1
   1.1 集積の方向 2
   1.1.1 機能の集積 3
   1.1.2 数の集積 5
   1.2 光集積の方式 7
   1.2.1 光・光集積 8
   1.2.2 光・電子集積 9
   1.3 光集積の形態 11
   1.3.1 モノリシック集積 12
   1.3.2 ハイブリッド集積 13
第2章 光集積の要素技術 15
   2.1 光集積デバイス用の材料 15
   2.1.1 要求される材料特性と関連する物理現象 15
   2.1.2 光集積デバイス用の半導体材料 24
   2.1.3 光集積デバイス用の半導体以外の材料 28
   2.2 光集積デバイス製作技術 30
   2.2.1 半導体モノリシック集積光集積デバイス製作プロセス 30
   2.2.2 回折格子形成用露光技術 34
   2.2.3 光導波路形成技術 38
第3章 選択MOVPE結晶成長技術 42
   3.1 原理および特徴 42
   3.2 選択MOVPE法の応用例 47
   3.2.1 光導波路 48
   3.2.2 光加入者系用半導体レーザ 48
   3.2.3 半導体光増幅器(SOA:Semiconductor Optical Amplifier) 51
第4章 光通信ネットワークと光集積デバイス 55
   4.1 光通信ネットワークと光源/受光器 55
   4.2 光通信ネットワークとその他の光集積デバイス 63
第5章 超高速時間多重光通信用の集積光源 66
   5.1 外部光変調のあらまし 67
   5.2 半導体光変調器 69
   5.3 変調器集積光源の基本的な設計と製作 72
   5.4 EA変調器集積光源の実現例 77
   5.5 変調器集積光源を用いた光ファイバ伝送 79
第6章 波長多重通信用の集積光源 84
   6.1 単一軸モード発振半導体レーザの発振波長 85
   6.2 WDM光通信用単体半導体レーザ 86
   6.2.1 WDM用波長の標準化動向 87
   6.2.2 異波長LDの一括製造技術 88
   6.3 WDM光通信用の変調器集積光源 91
   6.4 WDM光通信用の多波長集積光源 93
   6.4.1 WDM集積光源の考え方 93
   6.4.2 WDM光通信用の異波長集積光源 95
第7章 波長可変光源と波長変換器 104
   7.1 代表的な波長可変方式 105
   7.2 多電極DBR波長可変光源 108
   7.2.1 DBR-LDにおける波長可変の原理 108
   7.2.2 3電極波長可変DBR-LD 111
   7.2.3 単一電流連続可変動作 115
   7.3 不均一回折格子を用いた波長可変DBR-LD 116
   7.4 加熱による波長可変DBR-LD 120
   7.5 波長可変DFB-LD 121
   7.6 代表的な波長変換方式 123
   7.7 光制御光ゲートによる波長変換器 127
第8章 光アクセス系用光集積デバイス 134
   8.1 光部品間の結合 135
   8.2 スポットサイズ変換器集積光源 138
   8.2.1 代表的なスポットサイズ変換構造 138
   8.2.2 スポットサイズ変換器集積半導体レーザー 140
   8.3 光集積送受信デバイス 148
   8.3.2 モノリシック光集積送受信デバイス 152
第9章 集積受光器 156
   9.1 導波路型フォトダイオード 156
   9.2 WDM用集積受光器 159
   9.2.1 波長分波特性をもつPD 159
   9.2.2 高密度WDM用光集積受光器 160
第10章 光ネットワーク用光集積ノードデバイス 169
   10.1 集積光スイッチングデバイス 172
   10.1.1 方向性結合器を用いたマトリックス集積光スイッチ 174
   10.1.2 光ゲートを用いたマトリックス集積光スイッチ 177
   10.1.3 その他のマトリックス集積光スイッチ 185
   10.2 アド・ドロップ集積光デバイス 186
   10.2.1 アレイ導波路回折格子(AWG) 186
   10.3 AWGを応用したノード用光集積デバイス 200
   10.3.1 アド・ドロップ用光集積デバイス 201
   10.3.2 波長ルータ光集積デバイス 206
索引 210
第1章 光集積の考え方 1
   1.1 集積の方向 2
   1.1.1 機能の集積 3
4.

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4. 生体系のコンピュータ・シミュレーション : タンパク質の構造をどこまで予測できるか
岡崎進, 岡本祐幸 [編]
出版情報: 京都 : 化学同人, 2002.12  262p, 図版 [12] p ; 26cm
シリーズ名: 化学フロンティア ; 8
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座談会 コンピュータ・シミレーションはどこまで生体系に迫れるか 岡本祐幸・米田照代・岡崎進(進行役) 1
Ⅰ部 生体系のコンピュータ・シミレーション手法
   1章 巨大システムの取り扱い 岡崎進 14
   2章 拡張アンサンブルの方法 岡本祐幸 25
   3章 分子シミュレーション用ソフトウェアの開発とその利用 古明地勇人 43
   4章 分子動力学シミュレーションの並列計算 清水謙多郎・中村周吾 50
   5章 分子動力学専用計算機の開発 戎崎俊一 63
Ⅱ部 タンパク質のコンピュータ・シミュレーション
   6章 タンパク質をめぐる疑問とシミュレーション 笹井理生 76
   7章 全原子模型のタンパク質のフォールディング 岡本祐幸 84
   8章 タンパク質の立体構造予測 高田彰二 98
   9章 ゲノム情報解析への応用 西川建 110
   10章 水中でのペプチド・タンパク質の自由エネルギー地形 小野聡・中村春木 118
   11章 タンパク質の水和と構造安定性 木下正弘 131
   12章 タンパク質のダイナミクス 北尾彰朗 140
   13章 タンパク質の熱安定性の計算ができるまで 斎藤稔 149
   14章 タンパク質・核酸複合体 皿井明倫 160
Ⅲ部 生体膜のコンピュータ・シミュレーション
   15章 脂質二重層膜 岡崎進 168
   16章 生理活性分子と脂質膜 岡崎進 178
   17章 イオンポンプ能動輸送 池口満徳・木寺詔紀 186
   18章 イオンチャンネル受動輸送 篠田渉・三上益弘 196
Ⅳ部 創薬など応用研究をめざしたコンピュータ・シミュレーション
   19章 分子シミュレーションによる物質の生体膜透過性の予測は可能か? 高岡雄司・宮川博夫・北村一泰 210
   20章 ドッキングシミュレーションの創薬への応用 砂田真志 217
   21章 低分子・ペプチドからの創薬 中馬寛・小田晃司 223
   22章 オーダーメイド酵素創製をめざした分子設計 守川壮一・中井孝尚 234
   23章 薬物設計の標的タンパク質とリガンドの自動ドッキング 米田照代 243
   用語解説 251
   索引 257
座談会 コンピュータ・シミレーションはどこまで生体系に迫れるか 岡本祐幸・米田照代・岡崎進(進行役) 1
Ⅰ部 生体系のコンピュータ・シミレーション手法
   1章 巨大システムの取り扱い 岡崎進 14
5.

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5. パワーエレクトロニクス入門
佐藤義久著
出版情報: 東京 : 丸善, 2006.6  viii, 158p ; 26cm
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6.

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6. 創造する人になる : 加藤与五郎の事跡に学ぶ
浜田尚夫著
出版情報: 東京 : 世界書院 (発売), 2005.3  207p ; 20cm
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   創造する人になる
   まえがき 3
第一章 創造する人になる
   一 創造の偉人・加藤与五郎 14
   過酷な苦学に耐える 14
   米国留学で加藤与五郎の人が変わる 16
   創造研究を自ら実践し、創造教育に生涯をかける 18
   加藤与五郎の信条と人間性 20
   加藤与五郎とエジソンの類似点 25
   二 フェライト発明の意義 28
   フェライトの性質と用途 28
   フェライトの発明 30
   フェライトの工業化 31
   ノーベル賞を逃した無念と発明者の名誉回復 34
   三 加藤与五郎に学ぶ「創造への道」 37
   創造する人になるプロセス 37
   創造力とは何か 42
第二章 創造に向かう心の持ち方
   一 いい習慣が創造のベースとなる資質を育む 50
   勤勉、努力、忍耐を習慣にする 51
   謙虚な気持ちで学び、学んだら行動する習慣をつける 54
   小さな成功を習慣にして自信をつける 56
   二 個を尊重し、自立心を高める 58
   他とは違うことの大切さ 60
   創造に向く個性 62
   依存心を捨てる 65
   三 前向きな心を持つ 69
   前向きな思考で何度も挑戦する 71
   前向きな心に変える訓練をする 74
   ゛やる気゛を高めるには 78
第三章 感性の磨き方と想像力の高め方
   一 感性の磨き方 82
   感性がなければ、人として生きられない 83
   感動体験を持ち、共感を育てる 84
   好奇心を持つ 87
   二 想像力を高める 89
   想像力は経験、感性、知性に依存する 89
   想像力が発揮されるための条件 91
   空間から想像、そして創造へ 93
   三 直覚を育む 95
   ささいなことにも本質を見抜く力 96
   カン(観・勘・感)を働かす 98
   セレンデイビティを活かす 101
第四章 思考力の高め方と鍛え方
   一 思考のプロセス 106
   考える力とは 107
   仮説を立てる 110
   真の原因を考える 112
   二 考える訓練をする 114
   考えながら本を読む 115
   なぜか、それはどうしてかと掘り下げる 117
   考えたら書いてみる 119
   自分で解決する経験を積み重ねる 121
   三 問題解決へのアプローチ 123
   テーマや問題を見つける 124
   解決策を考える 126
   ひらめきと発想 128
   試行錯誤による解決 130
第五章 行動力の高め方と鍛え方
   一 高い目標を持つ 134
   目標が創造につながる行動力を高める 135
   目標設定の方法 138
   実行する意思と知恵の込められた計画の立て方 141
   目標を達成する六つのポイント 143
   二 自らに責任を持つ 148
   知識を実現するための知恵に変える 149
   役割を果たす 151
   仕事を好きになる 152
   三 失敗を成功につなげる 155
   やめろと言われるまでやってみる 155
   バットは振らなければ何も起こらない 156
   失敗経験から学び、成功につなげる 158
第六章 創造を実践する
   一 競争に勝つ 164
   良いテーマを選ぶ 165
   競合するものと相手を知る 167
   独自技術で競争に勝つ 170
   オンリーワンとナンバーワンの大きな違い 172
   スピードアップをはかる 175
   二 創造実践の核心 178
   創造する意思を持つ 179
   頭と手を使う 180
   集中し反復する 183
   粘り強くやり抜く執念 184
   特許をとり、事業に応用する 186
   三 指導者の重要性 189
   指導者の役割 190
   創造する環境や風土をつくる 193
   創造する人の育成 198
   悪循環を断ち、好循環に変える 200
   研究開発の生産性向上 202
   あとがき 206
   参考文献 207
   創造する人になる
   まえがき 3
第一章 創造する人になる
7.

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7. 国際標準化入門
奈良好啓著
出版情報: 東京 : 日本規格協会, 2004.9  111p ; 21cm
シリーズ名: やさしいシリーズ ; 12
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発刊によせて 2
はじめに 4
第1週:国際標準化入門Q&A
   Q1: 標準化ってどんなことですか？ 12
   Q2: どんな規格があるのですか？ 13
   Q3: 「国際規格」と「国家規格」の違いは何ですか？ 13
   Q4: 「国家規格」も「国際規格」と合わせるのですか？ 13
   Q5: 国際標準化はどこでするのですか？ 14
   Q6: どのように国際標準化するのですか？ 14
   Q7: どのようなことが国際標準化されるのですか？ 14
   Q8: 「国際規格」はどのように使われるのですか？ 15
   Q9: 国際標準化での世界の動きはどんな様子ですか？ 16
   Q10: これからの国際標準化はどのようになるのですか？ 16
第2週:標準化とは
   2.1 「標準化」という言葉の意味 17
   2.2 「標準化」の結果である「スタンダード」 18
   2.3 「スタンダード」の語源 20
   2.4 「規格化」の目標 23
   2.5 規格化する内容の条件 24
第3週:規格の種類
   3.1 海外の「規格」 26
   3.2 「規格」の内容による分類 28
   3.3 「規格」の水準による分類 30
第4週:国際規格と国家規格の相違と一致
   4.1 世界で普及している規格の例 32
   (1) ISO9000とISO14000 32
   (2) 世界で普及するその他の規格 34
   4.2 「国際規格」にある二つの種類 36
   (1) デジュール・スタンダード 36
   (2) デファクト・スタンダード 37
   4.3 「国家規格」にある二つの種類 38
   4.4 「国際規格」と「国家規格」の相違 41
   4.5 「国家規格」を「国際規格」に一致 42
第5週:国際標準化組織
   5.1 国際標準化組織 45
   (1) ISO(国際標準化機構) 45
   (2) IEC(国際電気標準会議) 48
   (3) ITU(国際電気通信連合) 50
   (4) ISO，IEC，ITUによる「世界標準協力」 53
   5.2 国際標準化組織に協力する他の標準化組織 53
   (1) CEN(欧州標準化委員会) 53
   (2) CENELEC(欧州電気標準化委員会) 55
   (3) ETSI(欧州通信標準化協会)及びEBU(欧州放送連合) 55
   (4) 国際標準化組織に協力する主な国家標準化機関 58
第6週:標準化の国際会議見学
   6.1 国際標準化のための会議室 60
   6.2 国際標準化会議の進め方 62
   6.3 これからの国際標準化会議 65
第7週:国際標準化の進め方
   7.1 国際標準化の通常工程 67
   7.2 国際標準化の迅速工程 69
   7.3 国際標準化対象の扱い 70
   7.4 国際標準化の結果として 71
   (1) IS 72
   (2) PAS 72
   (3) TS 72
   (4) TR 73
   (5) IWA 73
第8週:国際標準化の対象
   8.1 国際標準化の対象 74
   8.2 国際標準化対象の評価と確認 76
   8.3 「適合性評価」の種類 79
第9週:国際規格の使い方
   9.1 「適合性評価」の仕組み 81
   9.2 「適合性評価」をする機関の認定 82
   9.3 認定された機関の仕事 82
   9.4 認定機関の国際的集まり 84
   9.5 貿易における試験・検査の省略 86
   9.6 マーク制度による保証 88
   9.7 CEマーキングの詳細 89
第10週:国際標準化に係わる世界の動き
   10.1 世界の経済地域 92
   10.2 国際標準化に係わる世界の動き 93
   10.3 国際標準化の今後 98
第11週:これからの国際標準化
   11.1 国際標準化を想定しての技術開発 101
   11.2 知的資源を有効活用して国際標準化 103
   11.3 国際標準化に必要な人材の確保 104
   11.4 これからの国際標準化戦略 106
第12週:国際標準化への心構え 108
参考文献 110
発刊によせて 2
はじめに 4
第1週:国際標準化入門Q&A
8.

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8. ソフトウェア開発の定量化手法 : 生産性と品質の向上をめざして. 第3版
Capers Jones著 ; 富野壽, 小坂恭一監訳
出版情報: 東京 : 構造計画研究所 , 東京 : 共立出版 (発売), 2010.7  xxvii, 551p ; 23cm
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9.

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9. ウルトラクリーンULSI技術
大見忠弘著
出版情報: 東京 : 培風館, 1995.12  xi, 366p ; 22cm
シリーズ名: アドバンストエレクトロニクスシリーズ / 菅野卓雄 [ほか] 監修 ; カテゴリーI . エレクトロニクス材料・物性・デバイス||エレクトロニクス ザイリョウ ・ ブッセイ ・ デバイス ; 15
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0.序の章 1
   0.1 半導体技術の進展 1
   0.2 半導体表面の電子化学 4
   0.2.1 水素原子模型と分子結合 6
   0.2.2 Si表面吸着分子の挙動:SiH4系分子を例として 10
   0.2.3 電気陰性度とエネルギ準位～終端原子による表面電子状態の変化 16
   0.2.4 酸化還元電位とエネルギ準位-Si表面の自然酸化膜形成と水溶液による金属汚染洗浄 29
1.4端子デバイスエレクトロニクス 37
   1.1 コンピュータのハードウェアに知的な機能を持たせる 38
   1.1.1 人間VSスーパーコンピュータ 38
   1.1.2 ニューハードウェア 40
   1.2 4端子デバイスのコンセプト 40
   1.2.1 4端子デバイスとは 40
   1.2.2 3端子デバイスVS4端子デバイス 42
   1.2.3 3端子デバイスと真空エレクトロニクスの発展 43
   1.2.4 半導体エレクトロニクス、そして集積回路へ 45
   1.2.5 ニューロンMOSトランジスタ 47
   1.3 4端子デバイスで実現する＂しなやかな”情報処理電子回路 49
   1.3.1 やわらかいハードウェア論理回路(flexware) 49
   1.3.2 ウィナーテークオール回路と連想メモリ 52
   1.3.3 低消費電力・自己学習機能装備のvMOSニューラルネットワーク 55
   1.3.4 人工知能システム実現への道 56
   1.4 アンチヒューズ技術とフレキシブル電子システム 57
   1.4.1 効率の良いLSI開発を可能にするしなやかなハードウェア 57
   1.4.2 設計回路を瞬時にLSI化できるアンチヒューズ技術 57
   1.4.3 LSIの新しい可能性を拓くフレキシブル電子システム 60
   1.5 知的電子システムが要求する超高精度プロセス技術 61
   1.6 21世紀への課題 64
2.高精度トータル低温化プロセス 67
   2.1 低エネルギイオン照射プロセス 68
   2.1.1 プラズマプロセス技術の現状と開発の方向 68
   2.1.2 イオン照射エネルギの制御方法 70
   2.1.3 RF-DC結合プラズマプロセス装置 74
   2.1.4 2周波励起プラズマプロセス装置 76
   2.1.5 直流磁場の導入 79
   2.2 プローブを用いたプラズマの高精度計測技術 85
   2.2.1 シングルプローブ法の原理 85
   2.2.2 シングルプローブによる高周波放電プラズマの計測技術 87
   2.3 高密度プラズマを用いたセルフチャンバクリーニング技術 91
   2.3.1 反応副生成物の付着が与える影響 91
   2.3.2 セルフチャンバクリーニングに適したガス種・チャンバ内壁材 91
   2.3.3 セルフチャンバクリーニング 96
   2.4 超低温でのSiエピタキシャル成長 99
   2.4.1 低エネルギイオン照射プロセスを用いた低温結晶成長 99
   2.4.2 イオンの照射エネルギと照射量 101
   2.4.3 ウルトラクリーンなプロセス雰囲気とウェハ表面 106
   2.4.4 重くて大きいイオン(Xe)の照射 107
   2.5 メタライゼーション 109
   2.5.1 配線材料の変遷 109
   2.5.2 低エネルギイオン照射プロセスによる金属薄膜の形成 110
   2.5.3 大電流ストレスエレクトロマイグレーション加速劣化試験方法と各種配線材料のエレクトロマイグレーション耐性 112
   2.5.4 21世紀へ向けての配線技術 116
   2.5.5 超低抵抗金属/半導体コンタクト形成技術 118
   2.6 超低温ゲート酸化膜形成技術 122
   2.6.1 従来の酸化膜形成方法 122
   2.6.2 イオンアシスト低温酸化法 123
   2.7 低温アニールを可能にするウルトラクリーンイオン注入技術 128
   2.7.1 イオン注入層の低温アニール 128
   2.7.2 酸化膜スルーイオン注入は使えない 131
   2.7.3 ウルトラクリーンイオン注入 132
   2.7.4 打ち込みフロント部に残るダメージと基板ドーパント濃度 135
   2.8 超微細パターン加工を実現するリソグラフィ技術 136
   2.8.1 露光技術 137
   2.8.2 レジスト材料技術 139
   2.8.3 現像技術 141
   2.8.4 脱ガスフリーレジストプロセス 145
   2.8.5 レジスト剥離技術 147
3.表面・界面のウルトラクリーン化技術 155
   3.1 極限のクリーン表面を創る 156
   3.1.1 シリコンのウルトラクリーン表面とは 156
   3.1.2 粒子汚染と除去技術 157
   3.1.3 金属汚染とその除去 182
   3.1.4 有機物汚染とその除去 195
   3.1.5 固体表面への水分吸着 203
   3.1.6 自然酸化膜とケミカル酸化膜 208
   3.1.7 マイクロラフネス制御 217
   3.1.8 シリコン表面を不活性化する(水素終端表面) 223
   3.1.9 新しい概念の表面洗浄 226
   3.2 F2・HFプロセス 233
   3.2.1 フッ素・フッ素化水素とシリコン化合物の反応の特徴 234
   3.2.2 エッチングプロセスに現われる諸現象 242
   3.2.3 フッ素の回収-地球にやさしい化学技術を求めて 250
   3.3 高信頼性極薄酸化膜形成技術 261
   3.3.1 表面精密制御酸化 261
   3.3.2 酸化膜特性の基板面方位依存性 266
   3.3.3 高信頼性極薄酸化膜形成 269
   3.4 化学反応機構の電子物理 271
   3.4.1 電気陰性度の電子物理 272
   3.4.2 酸化還元電位の電子物理 278
   3.4.3 ゼータ電位の電子物理 282
   3.5 静電気障害とその防止 285
   3.5.1 超LSI製造環境における静電気 285
   3.5.2 静電気の発生 286
   3.5.3 静電気障害 288
   3.5.4 帯電防止技術 291
4.クリーン表面とガス分子の相互作用 320
   4.1 ステンレス表面の新しい不働態化処理 320
   4.1.1 はじめに 320
   4.1.2 ステンレス表面へのCr2O3不働態膜の形成方法 321
   4.1.3 フェライト系ステンレス鋼の不働態処理 324
   4.1.4 オーステナイト系ステンレス鋼の不働態処理 326
   4.1.5 Cr2O3不働態膜形成のメカニズム 333
   4.2 腐食の表面電気化学反応 335
   4.2.1 現在のガス供給系がかかえる問題点 335
   4.2.2 金属表面性状の影響 336
   4.2.3 溶接部の腐食 342
   4.3 クリーン表面とガス分子の相互作用 349
   4.3.1 評価システムのウルトラクリーン化 349
   4.3.2 ウルトラクリーンがなぜ必要なのか 350
   4.3.3 固体表面とSiH4分子の相互作用 353
   4.4 新しいガス供給システム 356
索引 361
0.序の章 1
   0.1 半導体技術の進展 1
   0.2 半導体表面の電子化学 4
10.

図書

東工大
目次DB
図書
東工大
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10. カラー画像工学
映像情報メディア学会編
出版情報: 東京 : オーム社, 1997.4  x, 267p, 図版4p ; 21cm
シリーズ名: 先端技術の手ほどきシリーズ / テレビジョン学会編
所蔵情報: loading…
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1章 視覚と色
   1.1 視覚と画像 1
   1.2 視覚系の構造 2
   1.3 色覚のメカニズム 5
   1.4 CIE表色系と色覚のメカニズムの関係 8
   〔1〕等色実験 8
   〔2〕RGB表色系 10
   〔3〕XYZ表色系 14
   〔4〕錐体の分光感度 16
   1.5 視覚の時空間特性 19
   〔1〕輝度弁別と色弁別 19
   〔2〕視覚の空間周波数特性 21
   〔3〕視覚の時間周波数特性 23
   参考文献 24
2章 測色と色の表示
   2.1 色の表示 27
   2.2 色と照明 28
   〔1〕標準の光 29
   〔2〕光源の演色性 31
   2.3 三層性による色の表示方法 34
   2.4 XYZ表色系およびX10Y10Z10表色系による色の表示方法 36
   2.5 色差の定量化 38
   〔1〕CIE色差式 38
   〔2〕色の許容差 41
   2.6 色の測定 42
   〔1〕分光測色 42
   〔2〕刺激値直読方法 44
   2.7 条件等色 46
   〔1〕条件等色の定義 46
   〔2〕照明光条件等色の評価方法 47
   〔3〕条件等色度の評価例 48
   2.8 色の見え 50
   参考文献 50
3章 色再現の理論
   3.1 加法混色と減法混色 53
   3.2 色情報のベクトルとその数学的表現 57
   〔1〕視覚の応答の数学的表現 57
   〔2〕色のベクトル表現と三刺激値 58
   3.3 メタメリズムとその数学的解釈 60
   3.4 色再現の目標と分類 62
   3.5 測色的色再現 64
   3.6 測色品質係数 66
   3.7 色再現のシステムモデル 68
   参考文献 70
4章 写真における色再現
   4.1 色再現のしくみ 71
   4.2 色再現の過程 73
   4.3 減色法色再現の理論 76
   〔1〕被写体と再現色の三刺激値 76
   〔2〕ブロック色素の混合物の三刺激値 77
   〔3〕露光量と被写体の三刺激値の関係 78
   〔4〕等色感度の定式化 80
   4.4 色再現の設計 81
   〔1〕減色の三刺激値 81
   〔2〕分光感度の現実的近似 84
   〔3〕重層効果の応用 87
   参考文献 89
5章 印刷・ハードコピーの色再現
   5.1 記録系と色信号 91
   5.2 網点と濃度 92
   5.3 色濃度モデルと色網点モデル 93
   〔1〕色濃度の各種モデルでの再現職 93
   〔2〕色網点モデルでの再現色 95
   5.4 色修正の各種モデル 97
   〔1〕線形マスキング 98
   〔2〕色相別マスキング 98
   〔3〕非線形マスキング・非線形補償型マスキング 98
   〔4〕テーブル参照法・テーブル補間法 100
   5.5 色修正の最適化演算 101
   〔1〕理想化ループモデルの使用 101
   〔2〕反復法による最適化と色差最小化 104
   〔3〕テーブル探索、逆写像法など 105
   5.6 墨版による四色再現 106
   〔1〕墨入れの色濃度モデル 106
   〔2〕墨入れの色網点モデル 107
   〔3〕測色学的四色再現の試み 108
   5.7 デバイスインディペンデント色再現と色域マッピング 109
   5.8 今後の展望 111
   参考文献 111
6章 テレビにおける色再現(1) : 方式・信号系の色設計
   6.1 カラーテレビの原理 113
   〔1〕三刺激値伝送 : カラーテレビは知覚量を考慮に入れた色情報の伝装システム 113
   〔2〕受像三原色 115
   〔3〕撮像系の三原色 117
   〔4〕伝送三原色 118
   6.2 現行方式における色信号の伝送 121
   〔1〕NTSC方式 121
   〔2〕送像側ガンマ補正の影響 126
   〔3〕定可輝度原理と定輝度化信号処理 128
   6.3 新しい放送方式における色信号の多重方式 129
   〔1〕時分割多重方式 129
   〔2〕ディジタル放送方式 130
   参考文献 131
7章 テレビにおける色再現(2) : 撮像系の色設計
   7.1 テレビカメラにおける色再現を決定する要因 133
   〔1〕レンズ特性 133
   〔2〕プリズム特性 134
   〔3〕撮像素子特性 136
   〔4〕リニアマトリクス 137
   7.2 色再現性評価のための測色計算 138
   7.3 撮像方式と色設計 138
   〔1〕3板(管)カメラ 139
   〔2〕単板方式カメラ 140
   7.4 スタジオ照明 141
   7.5 今後の課題 144
   参考文献 144
8章 表示系の色再現
   8.1 CRT直視型ディスプレイの色再現 145
   〔1〕カラーCRTの原理とその色再現決定要因 145
   〔2〕色再現の材料的要因 146
   〔3〕色再現の設計的要因 147
   8.2 CRT投射型ディスプレイの色再現 151
   〔1〕光学系 151
   〔2〕蛍光体 153
   8.3 LCDの色再現 157
   〔1〕LCD色再現の特長 157
   〔2〕発色手段 157
   〔3〕カラーフィルタの色配列 160
   〔4〕LCDの光源 162
   〔5〕LCDの電圧-透過率特性 163
   〔6〕その他の光学素子のスペクトル 165
   8.4 PDP(直視型)の色設計 166
   〔1〕プラズマディスプレイ 166
   〔2〕カラー化の原理 167
   〔3〕パネル構造と光学特性 168
   〔4〕駆動回路とパネル特性 169
   参考文献 171
9章 コンピュータグラフィックスにおける色再現
   9.1 コンピュータグラフィックスによる画像表現 175
   9.2 レンダリングの基本的手法と色再現 176
   〔1〕レイトレーシング 176
   〔2〕シェーディング 177
   〔3〕マッピング 178
   9.3 色デザインとインタフェース 179
   〔1〕RGBカラーモデル 179
   〔2〕色の三属性に基づくカラーモデル 180
   9.4 階調性と空間解像度 181
   〔1〕フレームバッファとカラーテーブル 181
   〔2〕階調性、空間解像度と質感 182
   〔3〕高品質色再現に必要なフレームバッファ精度 185
   9.5 カラーディスプレイの特性 189
   参考文献 191
10章 ノンインパクト記録技術を用いた画像機器における色再現
   10.1 サーマル方式フルカラープリンタ 193
   〔1〕サーマル方式フルカラープリンタの種類 193
   〔2〕昇華性染料熱転写方式 194
   〔3〕溶融熱転写方式 197
   〔4〕感熱記録方式 197
   〔5〕サーマルプリンタにおける階調特性と色調の設計 198
   〔6〕サーマルプリンタにおける高画質化処理 199
   〔7〕今後の展望 200
   10.2 インクジェット 200
   〔1〕ドロップオンデマンド方式のインクジェット記録 200
   〔2〕インクジェット記録方式における高画質化の要素技術 200
   〔3〕さらなる高画質化の試み 204
   〔4〕技術開発の今後 205
   10.3 電子写真 206
   〔1〕電子写真方式の原理 206
   〔2〕電子写真方式におけるカラー化の原理 207
   〔3〕色再現範囲 208
   〔4〕階調再現 208
   〔5〕色調の補正 209
   10.4 フォトCD 210
   〔1〕フォトCDの概要 210
   〔2〕フォトCDの色再現 210
   〔3〕標準メディアとしてのフォトCD 215
   10.5 画像通信機器 215
   〔1〕カラーファクシミリの色信号系 215
   〔2〕色再現系への要求条件 216
   〔3〕カラーファクシミリにおける色空間の標準化 220
   参考文献 223
11章 カラー画像の画質と評価
   11.1 カラーハードコピーにおける画質の評価 225
   〔1〕ハードコピーにおける画質 225
   〔2〕濃度と分光反射率の測定 227
   〔3〕鮮鋭度の評価 229
   〔4〕色再現の評価 230
   11.2 テレビジョンの画質評価 233
   〔1〕画質の要因と評価法 233
   〔2〕色の評価に用いられるテストチャート 234
   〔3〕主観評価 235
   11.3 今後の課題 238
   参考文献 238
12章 カラー画質の見方と考え方 : 視覚と画像のインターフェース
   12.1 色知覚とカラーテレビ方式 241
   12.2 HDTV(ハイビジョン)における基準色度点 243
   12.3 メディアミックスと色再現 244
   〔1〕ディジタル画像と画像の圧縮 244
   〔2〕HD静止画システム 244
   12.4 カラー画像の見え方と補正 248
   〔1〕帯域制限と色にじみの見え方 246
   〔2〕色度信号の輪郭・彩度補正 248
   〔3〕文字画像と色の選択 250
   12.5 ディスプレイと色調再現 251
   〔1〕パネル型ディスプレイの階調と色度点 251
   〔2〕パソコン画像の色調 252
   12.6 これからのカラー画像を担う技術者の方へ 253
   参考文献 253
監修者・執筆者略歴 255
索引 263
1章 視覚と色
   1.1 視覚と画像 1
   1.2 視覚系の構造 2
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