第1章序論 |
1.1EMI/EMCへのイントロダクション 1 |
1.2EMI/EMCモデリングはなぜ重要なのか? 3 |
1.3EMI/EMCモデリングの発展状況 4 |
1.4道具箱(ツールボックス)アプローチ 5 |
1.5EMIモデリング技術の簡単な解説 5 |
1.5.1時間領域差分法(FDTD法) |
1.5.2モーメント法(MoM法) |
1.5.3有限要素法(FEM法) |
1.6電磁気モデリングのための他の用途 9 |
1.7まとめ 9 |
第2章電磁気理論とモデリング |
2.1はじめに 11 |
2.2時間依存型マックスウェル方程式 12 |
2.2.1準静的電磁界(Quasi‐Static Fields) |
2.2.2放射電磁界 |
2.3ポテンシャルを用いた電磁界の解法 17 |
2.4周波数領域におけるマックスウェル方程式 18 |
2.5二次元空間の電磁界 19 |
2.6数値的モデリング 22 |
2.7電磁的モデリング 24 |
2.8まとめ 25 |
第3章時間領域差分法(Finite‐Difference Time‐Domain Method、FDTD法) |
3.1はじめに 27 |
3.2二次元FDTD 28 |
3.3三次元FDTD 31 |
3.4主要な放射源のモデリング 33 |
3.5数値的分散と異方性(Numerical Dispersion and Anisotropy) 35 |
3.6メッシュ作成手法(Mesh Truncation Techniques) 36 |
3.6.1Higdon吸収境界条件 |
3.6.2相補演算子法(Compiementary Operator Method) |
3.6.3完全整合層 |
3.6.4メッシュ打ち切りの選択 |
3.7電磁界の延長 45 |
3.8FDTD解析誤差 50 |
第4章モーメント法 |
4.1はじめに 53 |
4.2線形演算子 53 |
4.3ポックリントンの積分方程式 54 |
4.4モーメント法の展開 57 |
4.4.1行列構造 |
4.4.2基底関数と試験関数 |
4.4.3行列数 |
4.5まとめ 63 |
第5章有限要素法 |
5.1はじめに 65 |
5.2変分形式 66 |
5.3有限要素の作成 68 |
5.3.1有限要素行列の作成 |
5.3.2行列の組み立て |
5.3.3行列計算 |
5.4二次元のヘルムホルツ波動方程式の解法 75 |
5.4.1ヒルムホルツ方程式ほ変分形式 |
5.4.2吸収境界条件 |
5.4.3電磁界の延長 |
5.5数値的考察 80 |
5.6まとめ 81 |
第6章モデリングの準備 |
6.1EMI/EMCの問題 83 |
6.1.1問題 |
6.1.2EMIモデリングの適用 |
6.2モデリングの種類の概要 88 |
6.2.1二次元、3次元ノモデル |
6.2.2準静的手法 |
6.2.3フルウエーブ法 |
6.2.4時間領域法 |
6.2.5周波数領域法 |
6.3数値計算技法の選択 93 |
6.3.1時間領域差分法 |
6.3.2有限要素法 |
6.3.3モーメント法(MoM:Method of Moments) |
6.4EMI/EMCモデルの要素 98 |
6.3.1放射源 |
6.4.2物理学放射源のモデリング |
6.4.3放射源の振動 |
6.4.4モデルの形状 |
6.4.5問題となる空間の完成 |
6.5モデルの目標 105 |
6.5.1目標の定義 |
6.5.2望ましい結果 |
6.5.3問題の配置や形状 |
6.5.4グラフィックス |
6.6EMC/EMIモデリングへのアプローチ方法 112 |
6.6.1理想的なモデル |
6.6.2分離したモデル |
6.7まとめ 113 |
第7章EMI/EMCモデルの作成 |
7.1はじめに 115 |
7.2実用的なモデルの作成 117 |
7.2.1FDTDによるモデルの作成 |
7.2.1.1セルサイズ |
7.2.1.2吸収境界条件 |
7.2.1.3計算領域 |
7.2.1.4問題の幾何形状 |
7.2.1.5波源 |
7.2.1.6観測点 |
7.2.2FDTDモデリングに対する実用上の注意 |
7.2.3FEMによるモデル作成 |
7.2.3.1問題の幾何形状 |
7.2.3.2波源 |
7.2.3.3観測点 |
7.2.3.4吸収境界条件 |
7.2.3.5メッシュ分割 |
7.2.4REMモデリングに対する実用上の注意 |
7.2.5MoMによるモデル作成 |
7.2.5.1問題の幾何形状 |
7.2.5.2周波数領域 |
7.2.5.3メッシュ化 |
7.2.5.4波源 |
7.2.5.5観測点 |
7.2.6MoMモデリングに対する実用上の注意 |
7.3電磁気的放射体のモデリング 131 |
7.3.130MHz半波長ダイポールのモデリング |
7.3.2ダイポールを用いた実際のシステムのモデリング |
7.3.3ヒートシンクモデル |
7.3.3.1セルサイズ |
7.3.3.2吸収境界条件 |
7.3.3.3問題の幾何学的な形状 |
7.3.3.4波源 |
7.3.3.5観測点 |
7.3.3.6結果 |
7.3.3.7追加解析 |
7.4開口のあるシールドのモデリング 148 |
7.4.1モデルの作成 |
7.4.1.1セルサイズ |
7.4.1.2吸収境界条件 |
7.4.1.3計算領域 |
7.4.1.4問題の幾何学的な形状 |
7.4.1.5波源 |
7.4.1.6観測点 |
7.5まとめ 157 |
第8章EMI/EMCモデリングのトピックス |
8.1はじめに 159 |
8.2マルチステージモデリング 160 |
8.2.1実用的なEMI/EMC問題のためのマルチステージモデリングとテスト環境 |
8.2.1.1開口部からのエミッション |
8.2.1.2混成モデリングテクニックの例 |
8.2.1.3低周波数での第1ステージFDTD法も出るの電界の修正 |
8.2.1.4開口部のある外部シールド筐体モデル |
8.2.1.5自由空間と現実のテスト環境の間の混成モデルの比較 |
8.2.1.6セクションのまとめ |
8.2.2ワイヤのある開口部からのエミッション |
8.2.2.1電気的に長い外部ワイヤのシミュレーション |
8.2.2.2マルチステージモデルの最終結果 |
8.3EMI/EMCフィルタのデザイン 174 |
8.3.1フィルタの入力インピーダンス |
8.3.2フィルタの出力インピーダンス |
8.4中間モデルの結果 178 |
8.4.1RF電流の分布 |
8.4.1.1プリント回路基板のグラウンド基準面上のRF電流分布 |
8.4.1.2シールド筐体のRF電流分布 |
8.4.2完全な部品 |
8.5EMI/EMCサストサイト 181 |
8.5.1オーブンサイト(OATS) |
8.5.1.1完全なオーブンサイト |
8.5.1.2接地平面サイズのEDTDモデリング |
8.5.1.3近接導体 |
8.5.1.4周囲の壁 |
8.5.1.5セクションのまとめ |
8.5.2電波半無響室 |
8.5.3GTRMセル |
8.5.4反射箱 |
8.5.5セクションのまとめ |
8.6アンテナ 190 |
8.6.1ダイポールアンテナ |
8.6.2ホーンアンテナ |
8.6.3アンテナファクタへのグラウンド面の影響 |
8.6.4シールド筐体の内側のアンテナ放射に対する影響 |
8.6.5セクションのまとめ |
8.7まとめ 192 |
第9章モデルの有効性 |
9.1はじめに 193 |
9.2計算技法の有効性 193 |
9.3ソフトウエアコード実装の有効性 194 |
9.4測定による有効性 196 |
9.5中間結果を使う場合の有効性 200 |
9.5.1導体表面上のRF電流 |
9.5.2電界のアニメーション |
9.6まとめ 204 |
第10章ソウトウェア評価のための標準的EMI/EMC問題 |
10.1はじめに 205 |
10.2一般的原理 205 |
10.3モデリング問題の一般化 207 |
10.3.1開口からの放射 |
10.3.2開口部を通るワイヤ |
10.3.3遠隔発生源によるリファレンスプレーン上の高周波電流 |
10.3.4既知のノイズ発生源によるコネクタ上のコモンモード電圧 |
10.3.5部分的内部シールドによる結合の低減 |
10.3.6非シールド回路モジュールからの直接放射 |
10.4標準的問題 211 |
10.4.1筐体 |
10.4.2ヒートシンク放射 |
10.4.3電源とグラウンドリファレンスプレーンのデカップリング |
10.4.4グラウンドプレーンの溝を横切る配線 |
10.5まとめ 218 |
第11章上級モデリング技術 |
11.1はじめに 221 |
11.2PEECモデルによるプリント配線基板の解析 221 |
11.3伝送線路法(TLM) 224 |
11.3.1TLMのメッシュ |
11.3.23次元拡張ノードTLM |
11.3.3圧縮ノード |
11.3.4さらに進んだTLM技術 |
11.4まとめ 236 |
第1章序論 |
1.1EMI/EMCへのイントロダクション 1 |
1.2EMI/EMCモデリングはなぜ重要なのか? 3 |
1.3EMI/EMCモデリングの発展状況 4 |
1.4道具箱(ツールボックス)アプローチ 5 |
1.5EMIモデリング技術の簡単な解説 5 |